JPH01107846A - 処理液の温度調節方法 - Google Patents
処理液の温度調節方法Info
- Publication number
- JPH01107846A JPH01107846A JP26507787A JP26507787A JPH01107846A JP H01107846 A JPH01107846 A JP H01107846A JP 26507787 A JP26507787 A JP 26507787A JP 26507787 A JP26507787 A JP 26507787A JP H01107846 A JPH01107846 A JP H01107846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temp
- liquid
- compressed gas
- treatment liquid
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title abstract description 13
- 238000007654 immersion Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/0013—Controlling the temperature of the process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00054—Controlling or regulating the heat exchange system
- B01J2219/00056—Controlling or regulating the heat exchange system involving measured parameters
- B01J2219/00058—Temperature measurement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00105—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids part or all of the reactants being heated or cooled outside the reactor while recycling
- B01J2219/00108—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids part or all of the reactants being heated or cooled outside the reactor while recycling involving reactant vapours
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00121—Controlling the temperature by direct heating or cooling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00164—Controlling or regulating processes controlling the flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Weting (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体製造工程の1つでおる浸漬処理工程に関
し、特に浸漬処理を行う処理液の温度調節(以下、温調
という)方法に関するものである。
し、特に浸漬処理を行う処理液の温度調節(以下、温調
という)方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、この種の処理液温調方法は、投げ込みヒータとコ
ントローラーの組み合せにより処理液を温調する方法が
一般的であった。第3図は従来の処理液温調方法を用い
た構成図である。測温体14により処理槽15内の処理
液の温度を検知し、温調器16にて設定した液温に効率
良く達するべく投げ込みヒータ17を0N10FFさせ
るものであった。
ントローラーの組み合せにより処理液を温調する方法が
一般的であった。第3図は従来の処理液温調方法を用い
た構成図である。測温体14により処理槽15内の処理
液の温度を検知し、温調器16にて設定した液温に効率
良く達するべく投げ込みヒータ17を0N10FFさせ
るものであった。
[発明が解決しようとする問題点]
上述した従来の処理液温調方法はヒータ等の物理的熱交
換部品を使用するため、部品の破損による処理液の汚染
、また部品交換に伴う設備稼動率の低下、危険作業の発
生が生じるという欠点があった。また、ヒータ表面が直
接処理液に接するため、局部的に処理液が過熱され、処
理液の劣化が生じる可能性があるという欠点もめった。
換部品を使用するため、部品の破損による処理液の汚染
、また部品交換に伴う設備稼動率の低下、危険作業の発
生が生じるという欠点があった。また、ヒータ表面が直
接処理液に接するため、局部的に処理液が過熱され、処
理液の劣化が生じる可能性があるという欠点もめった。
本発明の目的は前記問題点を解消した処理液温調方法を
提供することにある。
提供することにある。
[発明の従来技術に対する相違点]
上述した従来の処理液温調方法に対し、本発明はヒータ
、冷熱器等を直接熱交換の媒体とせず、圧縮気体を熱交
換の媒体にするという相違点を有する。
、冷熱器等を直接熱交換の媒体とせず、圧縮気体を熱交
換の媒体にするという相違点を有する。
[問題点を解決するための手段]
本発明は処理槽内の処理液に温度調節された圧縮気体を
前記処理槽の下部より送り込み、該圧縮気体により該処
理液を温度調節することを特徴とする処理液の温度調節
方法である。
前記処理槽の下部より送り込み、該圧縮気体により該処
理液を温度調節することを特徴とする処理液の温度調節
方法である。
[実施例]
次に本発明について図面を参照して説明する。
(実施例1)
第1図は本発明の第1の実施例を示す構成図でおる。図
において、定流量弁1は一定流量の圧縮気体をヒータ2
に供給するものであり、ヒータ2は圧縮気体を加熱する
ものでおり、バブラー3は加熱された圧縮気体を処理槽
4内の処理液に均一にバブリングするためのものであり
、該バブラー3は耐熱性及び耐薬品性に優れた材質から
なる。
において、定流量弁1は一定流量の圧縮気体をヒータ2
に供給するものであり、ヒータ2は圧縮気体を加熱する
ものでおり、バブラー3は加熱された圧縮気体を処理槽
4内の処理液に均一にバブリングするためのものであり
、該バブラー3は耐熱性及び耐薬品性に優れた材質から
なる。
測温体5は処理液の温度を検知するものであり、温調器
6は処理液の温度が期待値になるようにヒータ2の出力
を制御するものである。
6は処理液の温度が期待値になるようにヒータ2の出力
を制御するものである。
本発明の処理液温調方法は定流量弁1より得られる圧縮
気体をバブラー3より処理槽4の下部で常時バブリング
ざぜて該圧縮気体により処理液を加温し、これと同時に
処理槽4の液温を測温体5により検知し、ヒータ2の出
力を制御することにより、加熱された圧縮気体と処理液
との間で熱交換を行わせて処理液の温度制御を実施する
ものでおる。
気体をバブラー3より処理槽4の下部で常時バブリング
ざぜて該圧縮気体により処理液を加温し、これと同時に
処理槽4の液温を測温体5により検知し、ヒータ2の出
力を制御することにより、加熱された圧縮気体と処理液
との間で熱交換を行わせて処理液の温度制御を実施する
ものでおる。
(実施例2)
第2図は本発明の第2の実施例を示す構成図である。前
実施例は加熱された圧縮気体を媒体として処理液の温度
調節を行うものであるのに対し、本実施例は冷却された
圧縮気体を媒体として処理液の温度調節を行うものでお
る。図において、流量制御弁7は圧縮気体の流量を制御
するためのものであり、流量計8はその流量をモニター
するものであり、冷却器9は圧縮気体を冷却するもので
ある。
実施例は加熱された圧縮気体を媒体として処理液の温度
調節を行うものであるのに対し、本実施例は冷却された
圧縮気体を媒体として処理液の温度調節を行うものでお
る。図において、流量制御弁7は圧縮気体の流量を制御
するためのものであり、流量計8はその流量をモニター
するものであり、冷却器9は圧縮気体を冷却するもので
ある。
本実施例では冷却器9の出力による処理液の冷却に加え
て、流量制御弁9によるバブリング圧縮気体の流量制御
を行うことにより、処理槽4内の処理液のより高い精度
な温調を実現するものでおる。
て、流量制御弁9によるバブリング圧縮気体の流量制御
を行うことにより、処理槽4内の処理液のより高い精度
な温調を実現するものでおる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明は圧縮気体を気泡化し、これ
を熱交換源とすることにより処理液を温度制御するため
、従来の熱交換源と比較して熱交換源の破損によるメイ
ンテナンス、処理液の汚染がなくなり、危険作業の低減
、稼動率の向上、ランニングコストの低減等の効果があ
る。
を熱交換源とすることにより処理液を温度制御するため
、従来の熱交換源と比較して熱交換源の破損によるメイ
ンテナンス、処理液の汚染がなくなり、危険作業の低減
、稼動率の向上、ランニングコストの低減等の効果があ
る。
また気体をバブリングすることにより、処理液の撹拌効
果が得られ処理能力が向上するという効果も合わせもっ
ている。
果が得られ処理能力が向上するという効果も合わせもっ
ている。
第1図は本発明の温調方法を実施する機構に係る第1の
実施例を示す構成図、第2図は本発明の温調方法を実施
する機構に係る第2の実施例を示す構成図、第3図は従
来の温調方法を実施する機構を示す構成図である。 1・・・定流量弁 2・・・ヒータ3・・・バ
ブラー 4・・・処理槽5・・・測温体
6・・・温調器7・・・流量制御弁 8・
・・流量計9・・・冷却器 −,− 1)′ 一、、′:′ 第1図
実施例を示す構成図、第2図は本発明の温調方法を実施
する機構に係る第2の実施例を示す構成図、第3図は従
来の温調方法を実施する機構を示す構成図である。 1・・・定流量弁 2・・・ヒータ3・・・バ
ブラー 4・・・処理槽5・・・測温体
6・・・温調器7・・・流量制御弁 8・
・・流量計9・・・冷却器 −,− 1)′ 一、、′:′ 第1図
Claims (1)
- (1)処理槽内の処理液に温度調節された圧縮気体を前
記処理槽の下部より送り込み、該圧縮気体により該処理
液を温度調節することを特徴とする処理液の温度調節方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26507787A JPH01107846A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 処理液の温度調節方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26507787A JPH01107846A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 処理液の温度調節方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01107846A true JPH01107846A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17412278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26507787A Pending JPH01107846A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 処理液の温度調節方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01107846A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6039242B2 (ja) * | 1978-06-29 | 1985-09-05 | 花王株式会社 | 殺線虫剤 |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP26507787A patent/JPH01107846A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6039242B2 (ja) * | 1978-06-29 | 1985-09-05 | 花王株式会社 | 殺線虫剤 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3623696B2 (ja) | ワークステーション温度制御システム及びワークステーション温度調節方法 | |
EP1182692B1 (en) | Heat-processing apparatus and method for semiconductor processing | |
WO2001008206A1 (fr) | Processeur et procede de regulation de la temperature de celui-ci | |
EP0507387B1 (en) | Device for heating chemical tanks | |
KR20030076382A (ko) | 열처리 방법 및 열처리 장치 | |
US6666949B1 (en) | Uniform temperature workpiece holder | |
JPH01107846A (ja) | 処理液の温度調節方法 | |
WO2003009358A1 (fr) | Appareil et procede de traitement thermique | |
JP4051116B2 (ja) | ウェーハの研磨装置 | |
JP2002538544A (ja) | 流液温度制御のための方法と装置 | |
JP4255014B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
KR100707976B1 (ko) | 냉각수의 유량제어 수단과 냉각제의 가열수단을 구비한반도체 공정용 칠러 | |
US4620883A (en) | Fluidized-bed heat-treatment method for metallic workpieces | |
JPH034929A (ja) | 気化方式によるガス発生装置 | |
JPS6263421A (ja) | 半導体ウエ−ハ熱処理装置 | |
JPH05251456A (ja) | 枚葉式半導体基板熱処理装置 | |
JPH08170807A (ja) | 蒸気加熱装置 | |
JPH0571130B2 (ja) | ||
JP4128318B2 (ja) | 熱処理装置および熱処理装置の制御方法 | |
JPH0616215Y2 (ja) | 熱交換装置 | |
JPH11188611A (ja) | ウェーハの研磨方法及び研磨装置 | |
JPH0278856A (ja) | 蒸気供給システム | |
SU912261A1 (ru) | Способ управлени работой реактора периодического действи | |
JP2000164554A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001168012A (ja) | 熱処理装置 |