JPH01100257A - 反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、レンズやプリズム、ビームスプリッタ−各種
々の光学部品に形成される反射防止膜に関する。

（従来技術） レンズ等の光学部品に反射防止膜を設けることは、従来
から一般に行われている。

かかる反射防止膜としては、例えばＭｇＦ、の単層もし
くは多層膜、あるいはＭｇＦ２の層をＳｉＯ□の層で挟
持する構造としたもの（特公昭６２−２２１２２号公報
）など、ＭｇＦ２．ＳｉＯ，、ＴｉＯ□等の層を組み合
わせたものが知られているが、これらの膜材料はいずれ
も電気絶縁性である。

一方、近来、レンズ等の光学部品の材料として各種プラ
スチックが用いられるようになった。プラスチックは光
学部品の材料としては、軽量で形成加工が容易である等
の適合性をもつが、ガラスと同様反射率が高いので１反
射防止膜の形成は必要である。また、プラスチック材料
は静電気により帯電しやすいという特徴を持っている。

このためプラスチックにより構成された光学部品には、
帯電によりほこり等が吸着されやすく、このためプラス
チックレンズを用いるカメラではレンズの汚れで画像に
障害が出る等の問題があり、あるいはプラスチック製の
光学部品の使用環境が制限される等の問題があった。

（目　　的） 本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって
、光学部品の帯電を有効に防止しうる反射防止膜の提供
を目的としている。

（構　　成） 以下、本発明を説明する。

本発明の反射防止膜は、レンズ等の光学部品に設けられ
るものであるが１反射防止膜の形成される光学部品の種
類、材料は反射防止膜が形成され得るという条件を除け
ば特に制限はない。しかし。

プラスチック製の光学部品に形成した場合に特に有益で
ある。

本発明の反射防止膜は、２層以上の積層構造を有し、少
なくとも１層は透明導電性薄膜であることを特徴とする
。

このように、本発明の反射防止膜は何層かに積層する層
の内、１層以上が透明導電性薄膜であるので、この透明
導電性薄膜により光学部品のＴｒ　ｆＧｂを有効に防止
することができる。

反射防止膜中に於いて、透明導電性薄膜の占める位置は
任意であり、光学部品表面と他の層との間でも良いし９
反射防止膜を構成する他の層と層との間に位置しても良
く、あるいは、反射防止膜表面として空気と接するよう
に位置しても良い。

透明導電性薄膜の材料としては、Ｉｎ、０□ＩＴＯ，Ｓ
ｎ０□やＺｎＯ等を用いることができる。また、透明導
電性薄膜とともに反射防止膜を構成する他の層の材料と
しては−ＭｇＦ２ｐＳｘＯ□、Ａ１．０．、ＴｉＯ２等
を用いることが出来る。各材料により形成される薄層の
屈折率は互いに異なるが、これら材料による薄層の組み
合わせで、所望の反射防止効果を持つ反射防止膜を形成
するのである。勿論、上記各層はそれ自体、薄膜である
。

（実施例） 以下１図面を参照しながら具体的な実施例を以て説明す
る。

第１図は、本発明の１実施例を説明図的に示している。

符号１１はＰＭＭＡ即ち屈折率ｎ：１．４９のプラスチ
ック基板を示している。

このＰＭＭＡＩＩは、具体的にはレンズ等のプラスチッ
ク製光学部品であるが、ここでは、ＷＪ単に平面的な基
板として描かれているに のＰＭＭＡＩＩ上には、第１層として二酸化ケイ素Ｓｉ
ｎ、の薄膜層２０、第２層として酸化インジウムＩｎ２
Ｏ３の薄膜層２１、第３７ｉｙとしてフッ化マグネシウ
ムＭｇＦｔの薄膜層２２がこの順序に、基板側から積層
形成されており、これら３層で反射防止膜を構成してい
る。

図中、ｎは屈折率、Ｒは電気抵抗を表している。

この実施例では、第２層２１のＩｎ２Ｏ，の薄膜層が透
明導電性薄膜であり、帯電防止の機能を持つ。

以下、ＰＭＭＡＩＩ上に、かかる反射防止膜を形成する
具体的な方法を実施例に即して説明する。

第２図は、反射防止膜を形成するための装置を要部のみ
説明図的に略伝しているに の装置は、先に出頭人が特開昭５９−８９７６３号公報
に於いて提案したものである。

ベースプレート１とペルジャー２とはバッキング１５を
介して一体化され真空槽を形成している。

ベースプレート１は、支持体兼用の電極３，５゜７．９
により、真空槽の気密状態を保ち、且つ、電気的な絶縁
性を保ちつつ貫通されている。

ベースプレート１の中央部には孔ＩＡが穿設され、図示
されない真空排気系へ連結されている。

一対の支持体兼用電極３は、蒸発源４を保持している。

蒸発源４は抵抗加熱式であるが電子ビーム蒸発源等地の
種類のものであってもよい。

一対の支持体兼用電極５には、タングステン等による熱
電子発生用のフィラメント６が支持されている。このフ
ィラメント６は複数本のフィラメントを網目状に配列し
、蒸発源から蒸発した、蒸発物質の広がりをカバーしう
るようにしたものであるが、複数本のフィラメントを平
行に配列したものでも良い。

支持体電極７に保持されたグリッド８は、蒸発物質を通
過させつる形状、この例では網口状に形成されている。

支持体兼用電極９には５対向電極１０が支持され、反射
防止膜を形成されるＰＭＭＡＩＩは、この対向電極１０
に適宜の方法で支持され、膜形成面を蒸発源４と対向さ
せられる。

支持体兼用電極３，５，７．９には、真空槽外に於いて
１図の如く、各種電源１２，１３．１４と接続され、図
示されないスイッチにより各電極への電圧印加操作を行
いうるようになっている。

さて、第１図に即して説明した反射防止膜は、以下の如
きプロセスで形成される。

第２図の如くにＰＭＭＡＩＩを対向電極１０に保持させ
、一方、蒸着物質として一酸化ケイ素を蒸発源４に保持
させる。真空槽内は、　１０−３〜ｌ叶’Ｐａの圧力と
し、ａ素ガスを単独で、もしくはアルゴンガスと共に１
０°〜１０−”Ｐａの圧力で導入する。

この状態で、電圧操作により、グリッド８に正電位を印
加し、対向電極１０を接地し、フィラメント６には、交
流電流を通じて熱電子を発生させる。

この熱電子は真空槽内の酸素分子、アルゴン分子を衝突
によりイオン化し、同槽内にプラズマ状態が実現される
。

蒸発源４を抵抗加熱すると、蒸発物質としての−ｍ化ケ
イ素が蒸発し、ＰＭＭＡＩＩの方へ広がりつつ飛行する
。そして飛行の途上において、熱電子と衝突によりイオ
ン化される。

このようにイオン化されたケイ素や酸素を含む蒸発物質
は、グリッド８を通過するが、このときグリッド８の近
傍で振動的に運動する熱電子や。

上記の如くイオン化された画素分子等との衝突により、
更にイオン化を促進される６グリツド８を通過した蒸発
物質中いまだイオン化されていない部分は、さらにグリ
ッド８とＰＨＭＡ　１１との間で、酸素分子イオン等と
の衝突でさらにイオン化率を高められる。

かくして正イオンにイオン化された酸素やケイ素は、グ
リッド８から対向電極１０に向かう電界の作用により、
ＰＭＭＡＩＩに向かって加速され高エネルギーで衝突す
るが、ケイ素は飛行途上及びＰＭＭＡＩＩの表面で酸素
と結合し、ＳｉＯ□の薄膜層２０を形成する。

続いて、上記と同様、酸素ガスもしくは酸素ガスとアル
ゴンガスを導入ガスとして導入し、蒸発源４にインジウ
ムを蒸発物質として保持させ、上記と同様にして、蒸発
物質と酸素を反応させて、Ｉｎ２Ｏ，の薄膜［２］を透
明導電性薄膜として形成する。

最後に、導入ガスとしてアルゴンなど不活性ガスやフッ
素系のガスを導入してプラズマを発生させ、蒸発物質と
してフッ化マグネシウムを蒸発させ、ＭｇＦ、の薄膜層
２２を形成する。

熱電子は、最終的にはその大部分がグリッド８に吸収さ
れ、一部がグリッド８を通過するが、グリッド８と対向
電極１０との間に形成されている電界により減速される
ので、ＰＭＭＡＩＬに到達してもこれを加熱するには到
らない。

従って、上記の如き方法によればプラスチックのような
耐熱性に劣る材質の光学部品にも透明導電性薄膜を含む
反射防止膜を密着性良く形成できる。

（効　　果） 以上、本発明によれば、新規な反射防止膜を提供できる
。この反射防止膜は上記の如き構成により光学部品の帯
電を防止する機能を持ち、特にプラスチック製の光学部
品の帯電を有効に防止できる。これにより、光学部品の
帯電によるほこりの吸着を防止でき、また、これまでほ
こりの吸着のためにプラスチック製光学部品を使用でき
なかった環境でもプラスチック製光学部品の使用が可能
となり、光学装置の機能拡大や、光学装置の設計、製造
の容易化が図れる。また、本発明の反射防止膜は、前述
の如き方法で耐熱性に劣るプラスチック製光学部品にも
容易且つ確実に形成できる。図面の簡単な説明 第１図は、本発明の１実施例を説明する為の図、第２図
は、第１図の実施例の反射防止膜の形成方法を説明する
ための図である。

１１、、、ＰＭＭＡ（プラスチック製基板として示され
た光学部品）　、２０，２１，２２．、、反射防止膜を
構成す第１図 アクリル樹脂の帯電・反射防」 Ｍ！Ｉｔ成：　　（ＭｇＦｔ／ＩｎｚＯ３／５ｉ０２／
ＰＭＭＡ）序２　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光学部品の表面に形成される反射防止膜であって、２層
   以上の積層構造を有し、少なくとも１層は透明導電性薄
   膜であることを特徴とする、反射防止膜。