JP804H - 導電被膜の形成方法 - Google Patents
導電被膜の形成方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はヘイズ（曇り）のない低抵抗で高赤外線反射率
を有するフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２(F)）の導電被
膜の形成方法に関する。すなわち、本発明による被膜は
着色がほとんどなくあくまでも透過性と外観上に優れる
とともに赤外領域での反射率が高く、かつ良好な導電性
を兼ね備えて、しかも優れた硬度と化学的機械的耐久性
を有しているので、その特性を利用して種々の分野に広
く採用され得るものである。すなわち、通常の板ガラス
基板表面上に被膜して、例えば、建築、自動車、航空機
および船舶あるいは冷凍シヨーケースの防曇窓ガラスま
たは、熱線反射透明窓ガラスに、また太陽熱集熱器のカ
バーガラスやオーブンのドアガラスに、さらに液晶電気
光学デイスプレイ等の電気電子機器部品に等、多方面で
実用され得るものである。 〔従来の技術〕 従来、酸化錫被膜を形成する際、被膜にヘイズの発生す
る原因として、錫化合物中の塩素ガラスがガラス中のア
ルカリと反応してＮａＣｌを形成することによるものと
考えられており、ヘイズのない酸化錫被膜を形成する方
法として、例えば、（Ｃ４Ｈ９）２Ｓｎ（ＣＨ３ＣＯ
Ｏ）２等の無塩素系の錫化合物を用い、ドーピング剤と
してＣＦ３ＣＯＯＨ等を用いる方法（特公昭５３−２５
３３１号公報）が知られている。また、比較的低温のガ
ラス基板温度で低抵抗の被膜が得られる方法として、錫
化合物としてＳｎＣｌ４を用いる方法（Ａ．ＢＨＡＲＤ
ＷＡＪ等「ＦＬＵＯＲＩＮＥ−ＤＯＰＥＤ ＳｎＯ２
ＦＩＬＭＳ ＦＯＲ ＳＯＬＡＲ ＣＥＬＬ ＡＰＰＬ
ＩＣＡＴＩＯＮ」Ｓｏｌａｒ Ｃｅｌｌｓ．５（１９８
１−１９８２）Ｐ．３９−４９）が知られている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 前述の特公昭５３−２５３３１号公報に記載されている
方法においては、ヘイズのない酸化錫被膜が得られる
が、６００℃以下のガラス基板の温度において被膜を形
成させると、低抵抗、高赤外反射率の被膜が得られ難い
し、また６００℃以上の高い温度のガラス基板に被膜を
形成させると、抵抗値、赤外反射率等の特性は改善され
るが、ガラスに歪、反り等が発生して良好な製品が得ら
れ難いものであり、また前述の公知の刊行物に記載の方
法においては、スプレーする混合溶液が不安定であり錫
の沈溺等も発生しやすく、スプレー時にその装置自体の
腐食および分解ガスによる周囲設備も激しい腐食を起
し、通常のソーダ石灰ガラスを基板として用いた際には
ＳｉＯ２等のアンダーコートなしではヘイズがきつく生
じて製品となり難いものであって、通常の板ガラス基板
であればＳｉＯ２等のアンダーコーテイングが透視性お
よび外観上から必須条件であるものであり、さらに抵抗
値についても低い値を得られるもののより一層低い抵抗
値の被膜を求められているなかでは満足し得ないもので
もある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、前述の問題点に着目してなしたものであっ
て、ＳｉＯ２等のアンダーコートなしで、５００〜６０
０℃の高温のガラス基板表面上に、〔（Ｃ４Ｈ９）Ｓｎ
Ｃｌ、／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３＋（アルコール＋
水）〕＝２０〜５０％３〔ＮＨ４Ｆ／（Ｃ４Ｈ９）Ｓｎ
Ｃｌ３＋（アルコール＋水）〕＝０．０１〜０．０５、
ならびに〔Ｈ２Ｏ／アルコール＋Ｈ２Ｏ〕＝１０〜９０
％でなる（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３、水、アルコールおよ
びＮＨ４Ｆの混合溶液を噴霧して、フッ素ドープ酸化錫
の導電被膜を形成するようにしたものであり、ヘイズの
ない、より低抵抗で高赤外線反射率を有する酸化錫被膜
を得る形成方法を提供するものである。 本発明において、（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３はＳｎＣｌ４
に比較して噴霧時の設備等への腐食が少なく、上述の混
合溶液中でも安定であり、被膜のヘイズの発生もなく、
また他の有機錫化合物よりも被膜の抵抗値がより低いも
のとなるものである。 ＮＨ４Ｆは酸性弗化アンモニウムでもよい。また他のフ
ッ素化合物と比較して少量の添加量でよいものであり、
（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３とＮＨ４Ｆとの組合せにより、
（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３は塩素を有する化合物にもかか
わらず、ＮＨ４Ｆのフッ素の作用により被膜のヘイズの
発生を防止できるものである。 水およびアルコールは、溶剤として用いるものであり、
水はＮＨ４Ｆを溶解させるために加えるものである。ア
ルコールとしてはＣＨ３ＯＨ、Ｃ２Ｈ５ＯＨ等が用いら
れる。水およびアルコールの混合割合は、適宜調製して
用いることができ、水のみの場合では噴霧時にガラス基
板を急激に冷却し、ガラスの割れ等を発生し、また、ヘ
イズの発生等外観上好ましくない。また、アルコールの
みの場合ではＮＨ４Ｆの溶解性、被膜の成長速度、噴霧
蒸気の燃焼等好ましくない。 本発明において、ガラス基板の温度としては５００〜６
００℃であって、５００℃未満では低抵抗、高赤外反射
率の被膜が得られ難い、また６００℃を超えるとガラス
基板に歪、反り等が生じる。 また、混合溶液における量的範囲はつぎのようになるも
のである。 １）〔（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ
３＋（アルコール＋水）〕＝２０〜５０％ すなわち、２０％未満では溶媒（アルコール＋水）の割
合が高くなり、基板の温度の低下等で効率的な被膜形成
が難しいし、５０％を超えると（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３
の割合が高くなり、被膜のムラが発生し不均質な膜とな
る。 ２）〔ＮＨ４Ｆ／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３＋（アルコー
ル＋水）〕＝０．０１〜０．０５ すなわち、０．０１未満あるいは０．０５を超えると低
抵抗が徐々に高くなり、範囲外のはずれ方が多くなると
極端に高くなる。 ３）〔Ｈ２Ｏ／アルコール＋Ｈ２Ｏ〕＝１０〜９０％ すなわち、１０％未満ではＮＨ４Ｆの溶解性が下がり、
被膜の生成速度が遅くなり、９０％を超えるとスプレー
時ガラス基板の温度が急激に低下することとなり、ガラ
ス基板の割れを誘発することがあるものである。 またさらに膜厚としては４０００〜１００００Åが好ま
しい。４０００Å未満では被膜のギラつく干渉色が発生
しやすく、１００００Åを超えると性能上膜厚効果が少
なくコストアップにつながるものであり、赤外線反射率
の面からは５０００Å程度がより好ましいものである。 〔作用〕 前述したとおりの本発明の被膜形成方法によって、特定
量とした（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３等を用いることによ
り、前記本発明の混合溶液中で沈澱等の問題もなく安定
したものとなり、噴霧上のトラブルもなく、均一な膜を
形成し得るとともに、スプレー装置および周囲設備等の
腐食も軽減されるものとなり、しかも低抵抗も他の有機
錫化合物に比してより低い膜が得られるものである。さ
らに、塩素を有する錫化合物でありながらヘイズの発生
を起こすこともないものとなり、略無色で、透視性に優
れ、外観上も適度の光沢と平滑性をほぼ保持し得るもの
であり、また熱線反射率も高く、可視域の透過率もほぼ
自動車窓ガラスに採用し得る程度のものとなる特徴を有
するものである。 上述に加えて、噴霧時にガラス基板を急冷することがな
いのでガラスの割れ等も発生せず、被膜の成長速度も早
く、フッ素化合物の添加量も少量で有効に働き、付着強
度も充分にあるものとなり、歩留および品質上も良好な
ものとなるものである。 〔実施例〕 以下本発明の実施例を説明する。 （実施例１） 充分脱脂洗浄された３００mmx３００mmの大きさで厚さ
３mmのソーダ石灰ガラスをガラス基板として用い、加熱
炉にて５４０℃、５６０℃、５９０℃にそれぞれ板温を
上昇した後、３０mm／secのスピードで移送されるガラ
ス基板表面上に、約３kg／cm2のエアの噴霧溶液を微細
化しスプレーする方式の自動スプレーガンを用いて下記
の錫化合物溶液とフッ素化合物を混合した溶液を３cc／
secの量でスプレーガンと板ガラスの距離約３０cmから
噴霧してＳｎＯ２(F)膜を形成させた。膜厚は約６００
０Åを得た。 錫化合物溶液 （Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３３５ｗｔ％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ３５
ｗｔ％、Ｈ２Ｏ３０ｗｔ％ フッ素化合物 ＮＨ４Ｆ／錫化合物溶液＝０．０１、０．０２、０．０
３、０．０４ 以上のような方法で得られたＳｎＯ２(F)膜の比抵抗を
測定し、その測定結果を第１図に示した。 （実施例２） ガラス基板および噴霧条件は実施例１と同様とし、ガラ
ス基板の温度は５４０℃、５６０℃、５９０℃について
錫化合物溶液は不変で（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３３５ｗｔ
％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ３５ｗｔ％、Ｈ２Ｏ３０ｗｔ％とし、
フッ素化合物のみＮＨ４Ｆ／錫化合物溶液＝０．０３と
一定とし、各設定温度で被膜を形成させ、ＳｎＯ２(F)
膜を有するガラス基板を製造した。 これをサンプルとして光学特性を測定し、それを分光曲
線として第２図に示した。 （比較例） ガラス基板および噴霧条件は実施例１と同様とし、ガラ
ス基板の温度は５４０℃、５６０℃、５９０℃および６
１０℃について、混合溶液として次のものに用いて噴霧
した。 １）（ＣＨ３）２ＳｎＣｌ２３５ｗｔ％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ
２５ｗｔ％、Ｈ２Ｏ４０ｗｔ％ ＮＨ４Ｆ／（（ＣＨ３）２ＳｎＣｌ２＋Ｃ２Ｈ５ＯＨ＋
Ｈ２Ｏ）＝２／１００ ２）（Ｃ４Ｈ９）２Ｓｎ（ＣＨ３ＣＯＯ）２３５ｗｔ
％、ＣＣｌ３ＣＨ３３５ｗｔ％、ＣＦ３ＣＯＯＨ３０ｗ
ｔ％ ガラス基板表面上に得られたＳｎＯ２(F)膜の比抵抗を
測定し、それを第３図に示した。 〔発明の効果〕 第１図より明らかなように、（ＮＨ４Ｆ／錫化合物溶
液）ｘ１００が１〜４％で、しかもガラス基板の温度が
５４０〜５９０℃の間で高い温度の方が比抵抗をより下
げ、しかもその間でそれぞれ最小値をもつことを見出
し、しかも第２図では光学特性として、ガラス基板の温
度によって同一の本発明の混合溶液を噴霧し被膜を形成
しても、赤外領域での反射率に影響を与え、可視領域で
の透過率がほぼ同一ではあるが約７０％を得て、自動車
の窓ガラス等にも使用しうることが確認できた。なお、
数値的には、比抵抗が４〜７ｘ１０-4Ωcm、赤外線反射
率が約８０〜８７％（１０μｍにおいて）である。 さらに第３図では、本発明における混合溶液中の（Ｃ４
Ｈ９）ＳｎＣｌ３と他の有機錫化合物との比較による一
例を示すものであり、実施例１が７〜４ｘ１０-4Ωcmで
あるのに対し、比較例１および２では、１８〜９ｘ１０
-4Ωcmであり、明らかに比抵抗へ与える影響に大きな差
があることがわかるものである。 以上のように、本発明によれば、ＳｉＯ２等のプレコー
トなしで、ヘイズのない低抵抗、高赤外反射率の被膜が
得られ、導電性材料、赤外線反射材料として用いること
ができるし、また比較的低温のガラス基板で被膜が容易
に形成できるという顕著な作用効果を奏するものであ
る。
を有するフッ素ドープ酸化錫（ＳｎＯ２(F)）の導電被
膜の形成方法に関する。すなわち、本発明による被膜は
着色がほとんどなくあくまでも透過性と外観上に優れる
とともに赤外領域での反射率が高く、かつ良好な導電性
を兼ね備えて、しかも優れた硬度と化学的機械的耐久性
を有しているので、その特性を利用して種々の分野に広
く採用され得るものである。すなわち、通常の板ガラス
基板表面上に被膜して、例えば、建築、自動車、航空機
および船舶あるいは冷凍シヨーケースの防曇窓ガラスま
たは、熱線反射透明窓ガラスに、また太陽熱集熱器のカ
バーガラスやオーブンのドアガラスに、さらに液晶電気
光学デイスプレイ等の電気電子機器部品に等、多方面で
実用され得るものである。 〔従来の技術〕 従来、酸化錫被膜を形成する際、被膜にヘイズの発生す
る原因として、錫化合物中の塩素ガラスがガラス中のア
ルカリと反応してＮａＣｌを形成することによるものと
考えられており、ヘイズのない酸化錫被膜を形成する方
法として、例えば、（Ｃ４Ｈ９）２Ｓｎ（ＣＨ３ＣＯ
Ｏ）２等の無塩素系の錫化合物を用い、ドーピング剤と
してＣＦ３ＣＯＯＨ等を用いる方法（特公昭５３−２５
３３１号公報）が知られている。また、比較的低温のガ
ラス基板温度で低抵抗の被膜が得られる方法として、錫
化合物としてＳｎＣｌ４を用いる方法（Ａ．ＢＨＡＲＤ
ＷＡＪ等「ＦＬＵＯＲＩＮＥ−ＤＯＰＥＤ ＳｎＯ２
ＦＩＬＭＳ ＦＯＲ ＳＯＬＡＲ ＣＥＬＬ ＡＰＰＬ
ＩＣＡＴＩＯＮ」Ｓｏｌａｒ Ｃｅｌｌｓ．５（１９８
１−１９８２）Ｐ．３９−４９）が知られている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 前述の特公昭５３−２５３３１号公報に記載されている
方法においては、ヘイズのない酸化錫被膜が得られる
が、６００℃以下のガラス基板の温度において被膜を形
成させると、低抵抗、高赤外反射率の被膜が得られ難い
し、また６００℃以上の高い温度のガラス基板に被膜を
形成させると、抵抗値、赤外反射率等の特性は改善され
るが、ガラスに歪、反り等が発生して良好な製品が得ら
れ難いものであり、また前述の公知の刊行物に記載の方
法においては、スプレーする混合溶液が不安定であり錫
の沈溺等も発生しやすく、スプレー時にその装置自体の
腐食および分解ガスによる周囲設備も激しい腐食を起
し、通常のソーダ石灰ガラスを基板として用いた際には
ＳｉＯ２等のアンダーコートなしではヘイズがきつく生
じて製品となり難いものであって、通常の板ガラス基板
であればＳｉＯ２等のアンダーコーテイングが透視性お
よび外観上から必須条件であるものであり、さらに抵抗
値についても低い値を得られるもののより一層低い抵抗
値の被膜を求められているなかでは満足し得ないもので
もある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、前述の問題点に着目してなしたものであっ
て、ＳｉＯ２等のアンダーコートなしで、５００〜６０
０℃の高温のガラス基板表面上に、〔（Ｃ４Ｈ９）Ｓｎ
Ｃｌ、／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３＋（アルコール＋
水）〕＝２０〜５０％３〔ＮＨ４Ｆ／（Ｃ４Ｈ９）Ｓｎ
Ｃｌ３＋（アルコール＋水）〕＝０．０１〜０．０５、
ならびに〔Ｈ２Ｏ／アルコール＋Ｈ２Ｏ〕＝１０〜９０
％でなる（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３、水、アルコールおよ
びＮＨ４Ｆの混合溶液を噴霧して、フッ素ドープ酸化錫
の導電被膜を形成するようにしたものであり、ヘイズの
ない、より低抵抗で高赤外線反射率を有する酸化錫被膜
を得る形成方法を提供するものである。 本発明において、（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３はＳｎＣｌ４
に比較して噴霧時の設備等への腐食が少なく、上述の混
合溶液中でも安定であり、被膜のヘイズの発生もなく、
また他の有機錫化合物よりも被膜の抵抗値がより低いも
のとなるものである。 ＮＨ４Ｆは酸性弗化アンモニウムでもよい。また他のフ
ッ素化合物と比較して少量の添加量でよいものであり、
（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３とＮＨ４Ｆとの組合せにより、
（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３は塩素を有する化合物にもかか
わらず、ＮＨ４Ｆのフッ素の作用により被膜のヘイズの
発生を防止できるものである。 水およびアルコールは、溶剤として用いるものであり、
水はＮＨ４Ｆを溶解させるために加えるものである。ア
ルコールとしてはＣＨ３ＯＨ、Ｃ２Ｈ５ＯＨ等が用いら
れる。水およびアルコールの混合割合は、適宜調製して
用いることができ、水のみの場合では噴霧時にガラス基
板を急激に冷却し、ガラスの割れ等を発生し、また、ヘ
イズの発生等外観上好ましくない。また、アルコールの
みの場合ではＮＨ４Ｆの溶解性、被膜の成長速度、噴霧
蒸気の燃焼等好ましくない。 本発明において、ガラス基板の温度としては５００〜６
００℃であって、５００℃未満では低抵抗、高赤外反射
率の被膜が得られ難い、また６００℃を超えるとガラス
基板に歪、反り等が生じる。 また、混合溶液における量的範囲はつぎのようになるも
のである。 １）〔（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ
３＋（アルコール＋水）〕＝２０〜５０％ すなわち、２０％未満では溶媒（アルコール＋水）の割
合が高くなり、基板の温度の低下等で効率的な被膜形成
が難しいし、５０％を超えると（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３
の割合が高くなり、被膜のムラが発生し不均質な膜とな
る。 ２）〔ＮＨ４Ｆ／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３＋（アルコー
ル＋水）〕＝０．０１〜０．０５ すなわち、０．０１未満あるいは０．０５を超えると低
抵抗が徐々に高くなり、範囲外のはずれ方が多くなると
極端に高くなる。 ３）〔Ｈ２Ｏ／アルコール＋Ｈ２Ｏ〕＝１０〜９０％ すなわち、１０％未満ではＮＨ４Ｆの溶解性が下がり、
被膜の生成速度が遅くなり、９０％を超えるとスプレー
時ガラス基板の温度が急激に低下することとなり、ガラ
ス基板の割れを誘発することがあるものである。 またさらに膜厚としては４０００〜１００００Åが好ま
しい。４０００Å未満では被膜のギラつく干渉色が発生
しやすく、１００００Åを超えると性能上膜厚効果が少
なくコストアップにつながるものであり、赤外線反射率
の面からは５０００Å程度がより好ましいものである。 〔作用〕 前述したとおりの本発明の被膜形成方法によって、特定
量とした（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３等を用いることによ
り、前記本発明の混合溶液中で沈澱等の問題もなく安定
したものとなり、噴霧上のトラブルもなく、均一な膜を
形成し得るとともに、スプレー装置および周囲設備等の
腐食も軽減されるものとなり、しかも低抵抗も他の有機
錫化合物に比してより低い膜が得られるものである。さ
らに、塩素を有する錫化合物でありながらヘイズの発生
を起こすこともないものとなり、略無色で、透視性に優
れ、外観上も適度の光沢と平滑性をほぼ保持し得るもの
であり、また熱線反射率も高く、可視域の透過率もほぼ
自動車窓ガラスに採用し得る程度のものとなる特徴を有
するものである。 上述に加えて、噴霧時にガラス基板を急冷することがな
いのでガラスの割れ等も発生せず、被膜の成長速度も早
く、フッ素化合物の添加量も少量で有効に働き、付着強
度も充分にあるものとなり、歩留および品質上も良好な
ものとなるものである。 〔実施例〕 以下本発明の実施例を説明する。 （実施例１） 充分脱脂洗浄された３００mmx３００mmの大きさで厚さ
３mmのソーダ石灰ガラスをガラス基板として用い、加熱
炉にて５４０℃、５６０℃、５９０℃にそれぞれ板温を
上昇した後、３０mm／secのスピードで移送されるガラ
ス基板表面上に、約３kg／cm2のエアの噴霧溶液を微細
化しスプレーする方式の自動スプレーガンを用いて下記
の錫化合物溶液とフッ素化合物を混合した溶液を３cc／
secの量でスプレーガンと板ガラスの距離約３０cmから
噴霧してＳｎＯ２(F)膜を形成させた。膜厚は約６００
０Åを得た。 錫化合物溶液 （Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３３５ｗｔ％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ３５
ｗｔ％、Ｈ２Ｏ３０ｗｔ％ フッ素化合物 ＮＨ４Ｆ／錫化合物溶液＝０．０１、０．０２、０．０
３、０．０４ 以上のような方法で得られたＳｎＯ２(F)膜の比抵抗を
測定し、その測定結果を第１図に示した。 （実施例２） ガラス基板および噴霧条件は実施例１と同様とし、ガラ
ス基板の温度は５４０℃、５６０℃、５９０℃について
錫化合物溶液は不変で（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３３５ｗｔ
％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ３５ｗｔ％、Ｈ２Ｏ３０ｗｔ％とし、
フッ素化合物のみＮＨ４Ｆ／錫化合物溶液＝０．０３と
一定とし、各設定温度で被膜を形成させ、ＳｎＯ２(F)
膜を有するガラス基板を製造した。 これをサンプルとして光学特性を測定し、それを分光曲
線として第２図に示した。 （比較例） ガラス基板および噴霧条件は実施例１と同様とし、ガラ
ス基板の温度は５４０℃、５６０℃、５９０℃および６
１０℃について、混合溶液として次のものに用いて噴霧
した。 １）（ＣＨ３）２ＳｎＣｌ２３５ｗｔ％、Ｃ２Ｈ５ＯＨ
２５ｗｔ％、Ｈ２Ｏ４０ｗｔ％ ＮＨ４Ｆ／（（ＣＨ３）２ＳｎＣｌ２＋Ｃ２Ｈ５ＯＨ＋
Ｈ２Ｏ）＝２／１００ ２）（Ｃ４Ｈ９）２Ｓｎ（ＣＨ３ＣＯＯ）２３５ｗｔ
％、ＣＣｌ３ＣＨ３３５ｗｔ％、ＣＦ３ＣＯＯＨ３０ｗ
ｔ％ ガラス基板表面上に得られたＳｎＯ２(F)膜の比抵抗を
測定し、それを第３図に示した。 〔発明の効果〕 第１図より明らかなように、（ＮＨ４Ｆ／錫化合物溶
液）ｘ１００が１〜４％で、しかもガラス基板の温度が
５４０〜５９０℃の間で高い温度の方が比抵抗をより下
げ、しかもその間でそれぞれ最小値をもつことを見出
し、しかも第２図では光学特性として、ガラス基板の温
度によって同一の本発明の混合溶液を噴霧し被膜を形成
しても、赤外領域での反射率に影響を与え、可視領域で
の透過率がほぼ同一ではあるが約７０％を得て、自動車
の窓ガラス等にも使用しうることが確認できた。なお、
数値的には、比抵抗が４〜７ｘ１０-4Ωcm、赤外線反射
率が約８０〜８７％（１０μｍにおいて）である。 さらに第３図では、本発明における混合溶液中の（Ｃ４
Ｈ９）ＳｎＣｌ３と他の有機錫化合物との比較による一
例を示すものであり、実施例１が７〜４ｘ１０-4Ωcmで
あるのに対し、比較例１および２では、１８〜９ｘ１０
-4Ωcmであり、明らかに比抵抗へ与える影響に大きな差
があることがわかるものである。 以上のように、本発明によれば、ＳｉＯ２等のプレコー
トなしで、ヘイズのない低抵抗、高赤外反射率の被膜が
得られ、導電性材料、赤外線反射材料として用いること
ができるし、また比較的低温のガラス基板で被膜が容易
に形成できるという顕著な作用効果を奏するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例であって（ＮＨ４Ｆ／錫化合
物溶液）ｘ１００およびガラス基板の温度が比抵抗に及
ばす影響を示し、第２図は本発明の一実施例でのガラス
基板の温度が透過率と反射率に与える影響を示し、第３
図は本発明で（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３を採用した効果を
示すものである。
物溶液）ｘ１００およびガラス基板の温度が比抵抗に及
ばす影響を示し、第２図は本発明の一実施例でのガラス
基板の温度が透過率と反射率に与える影響を示し、第３
図は本発明で（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３を採用した効果を
示すものである。
Claims (1)
- 【訂正明細書】 【特許請求の範囲】 【請求項１】高温のガラス表面上に錫化合物およびフッ
素化合物を含有する溶液を噴霧して、フッ素ドープ酸化
錫被膜を形成する方法において、前記ガラス基板の温度
が５００〜６００℃であって、しかも前記溶液として
（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３、水、アルコールおよびＮＨ４
Ｆの混合物を用いるとともに、その量的範囲が、〔（Ｃ
４Ｈ９）ＳｎＣｌ３／（Ｃ４Ｈ９）ＳｎＣｌ３＋（アル
コール＋水）〕＝２０〜５０％、〔ＮＨ４Ｆ／（Ｃ４Ｈ
９）ＳｎＣｌ３＋（アルコール＋水）〕＝０．０１〜
０．０５、ならびに〔Ｈ２Ｏ／アルコール＋Ｈ２Ｏ〕＝
１０〜９０％であることを特徴とする導電被膜の形成方
法。
Family
ID=
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