JP7846952B2 - ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末 - Google Patents
ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末Info
- Publication number
- JP7846952B2 JP7846952B2 JP2021178203A JP2021178203A JP7846952B2 JP 7846952 B2 JP7846952 B2 JP 7846952B2 JP 2021178203 A JP2021178203 A JP 2021178203A JP 2021178203 A JP2021178203 A JP 2021178203A JP 7846952 B2 JP7846952 B2 JP 7846952B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic oxide
- oxide powder
- powder
- particles
- nonionic surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
1. 無機酸化物粒子とその粒子表面に形成されている皮膜とを含む複合粒子からなる粉末であって、
(1)前記皮膜は、疎水性付与剤及びノニオン性界面活性剤を含み、
(2)前記粉末の疎水率が40%以上である、
ことを特徴とする表面改質無機酸化物粉末。
2. ノニオン性界面活性剤の含有量(g)を無機酸化物粒子のBET比表面積(m2/g)で除した値が0.015~0.150である、請求項1に記載の表面改質無機酸化物粉末。
3. ノニオン性界面活性剤が、下記一般式(1):
で表される3級アミノ基由来の基本骨格を有するエトキシ化脂肪族アミンである、前記項1又は2に記載の表面改質無機酸化物粉末。
4. 疎水性付与剤が、
(a)下記一般式(2):
(b)シリコーンオイル及び
(c)ヘキサメチルジシラザン
からなる群から選択された少なくとも1種である、前記項1~3のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末。
5. 無機酸化物粒子が、気相法シリカ粒子、気相法アルミナ粒子及び気相法チタニア粒子からなる群から選択された少なくとも1種であり、かつ、そのBET比表面積が30~400m2/gである、前記項1~4のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末。
6. 当該表面改質無機酸化物粒子を負帯電性ポリエステル系結着性樹脂粒子に外添したトナーにおいて、温度10℃・相対湿度10%の条件下で40時間経過した時の帯電量CLL(μC/g)を、温度35℃・相対湿度80%の条件下で40時間経過した時の帯電量CHH(μC/g)で除した値[CLL/CHH]が1.55以下である、前記項1~5のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末。
7. 前記項1~6のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末を含むトナー用又は粉体塗料用の外添剤。
8. 前記項7に記載の外添剤と結着性樹脂粒子とを含む電子写真用トナー組成物又は粉体塗料組成物。
本発明のノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末(本発明粉末)は、無機酸化物粒子とその粒子表面に形成されている皮膜とを含む複合粒子から構成される粉末であって、
(1)前記皮膜は、疎水性付与剤及びノニオン性界面活性剤を含み、
(2)前記粉末の疎水率が40%以上である、
ことを特徴とする。
本発明粉末を構成する粒子は、無機酸化物粒子とその粒子表面に形成されている皮膜とを含む複合粒子から構成される。そして、前記の皮膜には、疎水性付与剤及びノニオン性界面活性剤が含まれる。
(b)シリコーンオイル及び
(c)ヘキサメチルジシラザン
からなる群から選択された少なくとも1種も好適に用いることができる。
で表される3級アミノ基由来の基本骨格を有するエトキシ化脂肪族アミンを挙げることができる。
疎水率
本発明粉末(複合粒子の粉末)の疎水率は、通常は40%以上であり、好ましくは50%以上である。本発明における疎水率は、表面改質無機酸化物粉末の疎水性の程度を示す指標であり、その数値が大きいほど疎水性が高くなる。疎水率が40%未満では、無機酸化物粉末の残存シラノール基により強い帯電性を保持できなくなり、帯電性に優れた無機酸化物粉末が得られなくなることがある。本発明では、疎水率の上限は、理論上100%となるが、これに限定されない。なお、本発明において、疎水率の測定方法は、後記の試験例1の方法による。
本発明粉末の平均粒径(二次粒子径)は、通常は0.1~10μm程度とすれば良いが、これに限定されない。
本発明粉末は、HH条件下での帯電量と、LL条件下での帯電量との差が小さいことが特徴である。より具体的には、HH条件として温度35℃・湿度80%で40時間放置した時の帯電量CHH(μC/g)と、LL条件として温度10℃・湿度10%で40時間放置した時の帯電量CLL(μC/g)との比率[CLL/CHH]が通常1.55以下であり、特に1.00~1.50であることが好ましく、その中でも1.00~1.20であることがより好ましい。本発明粉末において、HH条件下での帯電量としては、例えば-40~-5μC/g程度とすることができるが、例えば用途、使用条件等に応じて適宜変更されるので、これに限定されない。LL条件下での帯電量も-40~-5μC/gとすることができるが、例えば用途、使用条件等に応じて適宜変更されるので、これに限定されない。なお、本発明おいて、これらの帯電量の測定方法は、後記の試験例1に示す方法による。
本発明粉末の製造方法は、上記のような構成・特性を有する粉末が得られる限り、特に制約されない。本発明では、特に、A)無機酸化物粉末にノニオン性界面活性剤及び疎水性付与剤を付与した後に熱処理する工程を含む方法(以下「同時処理」ともいう。)、B)無機酸化物粒子に疎水性付与剤を付与した後に熱処理することにより疎水化無機酸化物粉末を得る工程、前記疎水化無機酸化物粉末にノニオン性界面活性剤を付与した後に熱処理する工程を含む方法(以下「段階処理」ともいう。)等を好適に採用することができる。これらの方法によって、本発明粉末をより確実に得ることができる。
同時処理は、無機酸化物粉末にノニオン性界面活性剤及び疎水性付与剤を付与した後に熱処理する工程を含む方法である。より具体的には、(a)無機酸化物粉末、疎水性付与剤及びノニオン性界面活性剤を含む混合物を調製する工程(混合物調製工程)、(b)前記混合物を100~200℃の温度で熱処理する工程(熱処理工程)を含む方法で好適に製造することができる。
無機酸化物粉末を構成する各粒子の表面を疎水性付与剤とノニオン性界面活性剤とで被覆できる方法であれば限定されず、例えば攪拌下で無機酸化物粉末と気化した疎水性付与剤とを混合する方法、あるいは撹拌下で無機酸化物粉末に疎水性付与剤を混合する方法のいずれかで得られる疎水化無機酸化物粉末に対してノニオン性界面活性剤を噴霧する方法、撹拌下で疎水性付与剤とノニオン性界面活性剤の混合物を噴霧する方法等を好適に採用することができる。
熱処理工程においては、前記の工程で得られた混合物を100~200℃の温度で熱処理する。
段階処理は、無機酸化物粒子に疎水性付与剤を付与した後に熱処理することにより疎水化無機酸化物粉末を得る工程、前記疎水化無機酸化物粉末にノニオン性界面活性剤を付与した後に熱処理する工程を含む方法である。
第1混合物調製工程では、無機酸化物粒子及び疎水性付与剤を含む第1混合物を調製する。
第1熱処理工程では、前記の工程で得られた第1混合物を100~360℃の温度で熱処理する。
第2混合物調製工程では、前記第1熱処理工程によって得られた混合物とノニオン性界面活性剤とを含む第2混合物を調製する。
第2熱処理工程では、第2混合物調製工程で得られた第2混合物を100~200℃の温度で熱処理する。
本発明粉末は、前記「1.表面改質無機酸化物粉末」で示した特性を備えているので、無機酸化物粒子(特に気相法による無機酸化物粒子)の優れた特性とともに、HH条件及びLL条件との間での帯電量差が小さく制御されているという優れた帯電安定性(環境安定性)を発揮することができる。
BET比表面積が200m2/gの気相法シリカ(商品名AEROSIL(登録商標)200,日本アエロジル製)を反応槽に入れ、窒素雰囲気下、撹拌しながら粉体100gに対して疎水性付与剤としてヘキサメチルジシラザン(商品名Dynasylan(登録商標)HMDS,Evonik Industries AG製)15.0gをスプレーし、150℃で60分加熱撹拌後に冷却し、疎水性付与剤で表面処理された疎水化無機酸化物粉末1を得た。
その後、窒素雰囲気下、疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてラウリン酸グリセリン10.0gをヘキサン10gに溶解させた溶液をスプレーし、100℃まで加熱後冷却し、表面改質無機酸化物粉末1を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてペンタエチレングリコールモノデシルエーテル10.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末2を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)10.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末3を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-14-2,Evonik Industries AG製)10.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末4を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてポリ-(5)-オキシエチレンイソデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-14-5,Evonik Industries AG製)10.0gを用いた以外は実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末5を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてポリビス-(2-ヒドロキシエチル)オキシエチレンココアルキロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-C-15,Evonik Industries AG製)10.0gを用いた以外は実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末6を得た。
疎水化された無機酸化物粉末の市販品としてAEROSIL(登録商標)R974(日本アエロジル社製)を用い、これにノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)10.0gをスプレーし、100℃まで加熱後冷却し、表面改質無機酸化物粉末7を得た。
疎水性付与剤としてイソブチルトリメトキシシラン(商品名Dynasylan(登録商標)IBTMO,Evonik Industries AG製)15.0gを用いたほかは、実施例3と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末8を得た。
疎水性付与剤としてジメチルシリコーンオイル(商品名KF-96-100CS,信越化学工業製)20.0gを用い、加熱条件を300℃で20分とした以外は、実施例3と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末9を得た。
BET比表面積が50m2/gの気相法シリカ(商品名AEROSIL(登録商標)50,日本アエロジル製)を用い、ヘキサメチルジシラザン(商品名Dynasylan(登録商標)HMDS,Evonik Industries AG 製)3.8g、ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)2.5gを用いたほかは、実施例3と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末10を得た。
BET比表面積が380m2/gの気相法シリカ(商品名AEROSIL(登録商標)380,日本アエロジル製)を用い、ヘキサメチルジシラザン(商品名Dynasylan(登録商標)HMDS,Evonik Industries AG製)28.5g、ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)19.0gを用いたほかは、実施例3と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末11を得た。
BET比表面積が100m2/gの気相法アルミナ(商品名AEROXIDE(登録商標)Alu C,Evonik Industries AG製)を用い、疎水性付与剤としてイソブチルトリメトキシシラン(商品名Dynasylan(登録商標)IBTMO,Evonik Industries AG製)7.5g、ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)5.0gを用いたほかは、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末12を得た。
BET比表面積が90m2/gの気相法チタニア(商品名AEROXIDE(登録商標)TiO2 P90,日本アエロジル製)を用い、疎水性付与剤としてイソブチルトリメトキシシラン(商品名Dynasylan(登録商標)IBTMO,Evonik Industries AG製)6.8g、ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)4.5gを用いたほかは、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末13を得た。
BET比表面積が170m2/gの気相法シリカアルミナ複合酸化物(商品名 AEROSIL(登録商標)MOX 170,Evonik Industries AG製)とし、疎水性付与剤としてイソブチルトリメトキシシラン(商品名Dynasylan(登録商標)IBTMO,Evonik Industries AG製)12.8g、ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)8.5gを用いたほかは、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末14を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)3.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末15を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対してノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)5.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末16を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)20.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末17を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)30.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末18を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤に替えてアニオン性界面活性剤であるステアリン酸ナトリウム10.0gをエタノール10gに溶解させた溶液を用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末19を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤に替えてカチオン性界面活性剤である臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム10.0gをエタノール30gに溶解させた溶液を用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末20を得た。
BET比表面積が200m2/gの気相法シリカ(商品名AEROSIL(登録商標)200,日本アエロジル製)を反応槽に入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながらこの粉体100gに対してノニオン性界面活性剤ビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-5,Evonik Industries AG製)10.0gをスプレーし、100℃まで加熱後に冷却し、表面改質無機酸化物粉末21を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)1.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末22を得た。
疎水化無機酸化物粉末1に対して、ノニオン性界面活性剤としてビス-2-ヒドロキシエチルイソトリデシロキシプロピルアミン(商品名Tomamine(登録商標)E-17-2,Evonik Industries AG製)40.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末23を得た。
疎水性付与剤としてヘキサメチルジシラザン(商品名Dynasylan(登録商標)HMDS,Evonik Industries AG製)5.0gを用いた以外は、実施例1と同様の処理を行い、表面改質無機酸化物粉末24を得た。
各実施例及び比較例で得られた各表面改質無機酸化物粉末について、下記の諸物性について測定した。その結果を表1に示す。
容量200mLのビーカーに撹拌子、水50mLを入れ、測定試料0.2gを加える。マグネチックスターラーで撹拌を行う。撹拌スピードは液面上の粉体が舞い上がらない程度にする。ビュレットにメタノールを入れ、ビュレットの先端を液中に入れて撹拌しながらメタノールをゆっくり液中に混合する。液面上に測定試料が認められなくなった点を終点とし、その時点のメタノール滴下量(mL)を次の式にあてはめ、疎水率(%)を求める。
疎水率(%)=[滴下量/(滴下量+50)]×100
また、この試験においてはメタノールを150mL滴下した場合、ビーカーが一杯となり、それ以上滴下できなくなる。その場合の疎水率は[150/(150+50)]×100=75%より「>75%」と表記する。すなわち、疎水率の上限は、理論上100%となるが、上記のように測定の方式上75%を超える場合は測定することができないため、75%を超えるものは「>75%」と表記する。
ノニオン性界面活性剤処理無機酸化物2.0gと負帯電性トナー(ポリエステル樹脂、平均粒径7μm)98.0gとをミキサーにて撹拌混合してトナー組成物を得た。その後、このトナー組成物2.0gと鉄粉キャリア(シリコーン樹脂コートフェライト、平均粒径35μm)48.0gとをガラス容器(75mL容量)に入れ、混合物を調製した。帯電量を測定するための試料として前記混合物の同じものを2つ用意し、一つの試料は高温高湿(HH条件:温度35℃、相対湿度80%)で40時間静置した。また、もう一つの試料は低温低湿(LL条件:温度10℃、相対湿度10%)環境下に40時間静置した。
上記の各条件にて調製された各試料をターブラーミキサーで24rpmにて10分間振とうさせ、混合物0.05gを採取し、トレックジャパン株式会社製ブローオフ帯電量測定装置(MODEL230TO)で帯電量の測定を行った。
Claims (7)
- 無機酸化物粒子とその粒子表面に形成されている皮膜とを含む複合粒子からなる粉末であって、
(1)前記皮膜は、疎水性付与剤及びノニオン性界面活性剤を含み、
(2)前記粉末の疎水率が40%以上であり、
(3)前記ノニオン性界面活性剤が、下記一般式(1):
[式中Rは、直鎖型又は分岐型であって、不飽和結合を有していても良い炭素数8~18の炭化水素基を示し、xは1以上の整数、nは2以上の整数をそれぞれ示し、x及びnはn>xを満たす。]
で表される3級アミノ基由来の基本骨格を有するエトキシ化脂肪族アミンである、
ことを特徴とする表面改質無機酸化物粉末。 - ノニオン性界面活性剤の含有量(g)を無機酸化物粒子のBET比表面積(m2/g)で除した値が0.015~0.150である、請求項1に記載の表面改質無機酸化物粉末。
- 疎水性付与剤が、
(a)下記一般式(2):
(式中、R1は、炭素数1以上18以下の炭化水素基を表し、R2、R3及びR4は、互いに同一又は異なって、塩素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1~3のアルコキシ基を示す。)で示されるアルキルシラン類、
(b)シリコーンオイル及び
(c)ヘキサメチルジシラザン
からなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1又は2に記載の表面改質無機酸化物粉末。 - 無機酸化物粒子が、気相法シリカ粒子、気相法アルミナ粒子及び気相法チタニア粒子からなる群から選択された少なくとも1種であり、かつ、そのBET比表面積が30~400m2/gである、請求項1~3のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末。
- 当該表面改質無機酸化物粉末を負帯電性ポリエステル系結着性樹脂粒子に外添したトナーにおいて、温度10℃・相対湿度10%の条件下で40時間経過した時の帯電量CLL(μC/g)を、温度35℃・相対湿度80%の条件下で40時間経過した時の帯電量CHH(μC/g)で除した値[CLL/CHH]が1.55以下である、請求項1~4のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末。
- 請求項1~5のいずれかに記載の表面改質無機酸化物粉末を含むトナー用又は粉体塗料用の外添剤。
- 請求項6に記載の外添剤と結着性樹脂粒子とを含む電子写真用トナー組成物又は粉体塗料組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021178203A JP7846952B2 (ja) | 2021-10-29 | 2021-10-29 | ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021178203A JP7846952B2 (ja) | 2021-10-29 | 2021-10-29 | ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023067180A JP2023067180A (ja) | 2023-05-16 |
| JP7846952B2 true JP7846952B2 (ja) | 2026-04-16 |
Family
ID=86325873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021178203A Active JP7846952B2 (ja) | 2021-10-29 | 2021-10-29 | ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7846952B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN120504325B (zh) * | 2025-07-21 | 2025-09-19 | 深圳市捷创新材料股份有限公司 | 一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0695426A (ja) * | 1992-09-16 | 1994-04-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用乾式トナー |
| JPH07333883A (ja) * | 1994-06-02 | 1995-12-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用乾式トナー |
| JPH09166884A (ja) * | 1995-12-18 | 1997-06-24 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用トナー組成物、静電荷像現像剤および画像形成方法 |
-
2021
- 2021-10-29 JP JP2021178203A patent/JP7846952B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023067180A (ja) | 2023-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1477532B1 (en) | Spherical silica-titania-based fine particles surface-treated with silane, production process therefor, and external additive for electrostatically charged image developing toner using same | |
| CN102414120B (zh) | 表面改性的金属氧化物粉末及其制造方法 | |
| EP1138724B1 (en) | Surface-treated metallic-oxide fine powder and its production and use | |
| JP2009292915A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及び電子写真用トナー組成物 | |
| EP0799791B1 (en) | Hydrophobic metal oxide powder and use thereof | |
| JP7026436B2 (ja) | 電子写真トナー組成物用の疎水性シリカ | |
| JP7846952B2 (ja) | ノニオン性界面活性剤で修飾された表面改質無機酸化物粉末 | |
| JP7748205B2 (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
| JP3930236B2 (ja) | 静電荷像現像用トナー外添剤 | |
| JP3319114B2 (ja) | 疎水性シリカ粉体、その製法とそれを含む電子写真用現像剤 | |
| JP2022185979A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
| JP2007171713A (ja) | 変性シリカ粉末 | |
| JP4279206B2 (ja) | トナー用外添剤 | |
| JP7684030B2 (ja) | 複合無機酸化物粉体、複合無機酸化物粉体を含有する粉体塗料組成物、複合無機酸化物粉体を含有する電子写真のトナー組成物、複合無機酸化物粉体の製造方法 | |
| JPH0132161B2 (ja) | ||
| US20020055051A1 (en) | External additive for electrostatically charged image developing toner | |
| JP7624286B2 (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
| JP3856744B2 (ja) | 静電荷像現像用トナー外添剤 | |
| JP7708604B2 (ja) | 沈降珪酸を用いた表面改質シリカ粉末及びその製造方法 | |
| JPH05139748A (ja) | 疎水性酸化チタンおよび電子写真用現像剤 | |
| JP2022185978A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
| JP4318070B2 (ja) | 表面改質シリカ微粉末 | |
| JP2022185980A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 | |
| JP7708605B2 (ja) | 沈降珪酸を用いた表面改質シリカ粉末及びその製造方法 | |
| JP2026015438A (ja) | 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20241023 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20250611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250729 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250809 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20251209 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20251216 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20260403 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20260405 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7846952 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |