JP7843968B2 - A/d変換器、半導体装置 - Google Patents

A/d変換器、半導体装置

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Description

本発明は、CDAC(容量DAC)を使用した逐次比較型のA/D変換器に関するものである。
逐次比較型のA/D変換器は、分解能nビットに対して2+1個の容量素子からなるCDACと、1つの比較器と、CDACの制御回路とを備え、二分探索法を用いてn回の比較動作でデジタル値を求める(例えば、特許文献1参照)。
特開2002-374169号公報
A/D変換器は、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)を大きくとる場合、アナログ入力範囲の信号振幅の電圧に耐えられる高耐圧素子で構成する必要がある。高耐圧素子で構成した場合、A/D変換器は、レイアウト面積が大きくなる欠点がある。例えば、高耐圧素子がMOSFET(トランジスタ)の場合、低耐圧で良い場合と比較してゲートの層間膜を厚く、ゲート幅を大きくする必要がある。そのため、高耐圧素子は、低耐圧素子と同等の性能(例えば、MOSFETにおけるON時のソース-ドレイン電流)を得るためには、低耐圧素子よりも大きなレイアウト面積が必要になる。また、高耐圧素子を用いるために回路の寄生容量・抵抗が増加し、A/D変換器は、高速で動作させることができず、消費電力に対して変換速度が遅くなってしまう。
A/D変換器は、低耐圧素子、例えば使用するプロセスの最小寸法の低耐圧素子だけを使用して構成した場合、レイアウト面積を小さくすることができる。近年、MOSFETは、微細化が進んでいるため、この微細化の恩恵をA/D変換器も享受することができる。また、低耐圧素子を使用することによって回路の寄生容量・抵抗が小さくなるため、A/D変換器は、消費電力に対して高速な変換速度となる。しかし、アナログ入力範囲は、低耐圧素子の耐圧を超えて使用することができないため、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)の小さいA/D変換器になってしまう。
本発明は斯かる問題点を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)を大きくとっても、レイアウト面積が小さく高速なA/D変換器を提供する点にある。
本発明に係るA/D変換器は、上記の目的を達成するため、次のように構成される。
本発明に係るA/D変換器は、アナログ入力電位をサンプリングするサンプリング動作と、サンプリングした前記アナログ入力電位に基づいてビット毎の比較対象電位を逐次的に生成する対象電圧生成動作と、を実行する容量DACと、前記比較対象電位と比較電位とを比較する比較器と、前記容量DACおよび前記比較器の動作の工程を複数のビット列からなる動作指示信号として出力し、前記容量DACおよび前記比較器の動作を制御する制御回路と、を備える逐次比較型のA/D変換器であって、前記容量DACと前記比較器とは、前記アナログ入力電位の入力電位範囲を振幅とする第1信号振幅で動作する回路であり、前記制御回路は、前記第1信号振幅よりも振幅が小さい第2信号振幅で動作する回路であり、前記第1信号振幅で動作する回路と前記第2信号振幅で動作する回路との信号接続は、信号振幅を変換するレベルシフト回路を介して行われ、前記動作指示信号の遷移は、ハミング距離が1であるように遷移することを特徴とする。
本発明のA/D変換器は、制御回路を構成する素子は、容量DAC及び比較器を構成する素子よりも耐圧が低い低耐圧素子で構成できるため、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)を大きくとっても、近年進んでいる微細化の恩恵を享受でき、レイアウト面積を小さくできる。また、制御回路から出力され、容量DAC及び比較器を制御する制御信号は、ハミング距離が1で進行するため、制御回路を構成する素子、および、容量DAC及び比較器を構成する各素子のばらつきが大きい場合においても、誤動作なく高速化することができる。総じて、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)が大きく、レイアウト面積が小さく、高速なA/D変換器とすることができる。
本発明に係るA/D変換器の実施の形態の構成を示すブロック図である。 図1に示すCDACの動作を示すフローチャートである。 図1に示す制御回路から出力される動作指示信号を示す図である。 図1に示すレベルシフタの構成を示す図である。 図3に示すレベルシフタの特性を示す図である。 図1に示すレベルシフタの回路遅延時間差に起因する問題点を説明する図である。
以下に、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
本実施の形態のA/D変換器1は、図1を参照すると、CDAC(容量DAC)2と、比較器3と、制御回路4と、レベルシフト回路5と、を備えた逐次比較型のA/D変換器である。A/D変換器1は、デジタルスイッチング電源IC(半導体集積回路)等に内蔵された半導体装置として構成される。A/D変換器1は、アナログ入力電位Vinに基づいて生成した比較対象電位と比較電位Vrefとの比較動作を、最上位ビットから逐次的に繰り返して、アナログ入力電位VinをNビット(例えば、N=12)のデジタル変換値D[(N-1):0]に変換する。
CDAC2は、容量素子Cと、バイナリー比率(2のべき乗の比率)で容量値が重み付けされた複数の容量素子C~C(N-1)を備える。容量素子C、C~C(N-1)は、一端が比較器3の非反転入力端子に接続されている。容量素子CとCとは、同じ容量値に設定される。容量素子C、Cの容量値をCとした場合、容量素子C~C(N-1)の容量値は、それぞれ2C~2(N―1)Cに設定される。
CDAC2は、複数のサンプルスイッチX、X~X(N-1)を備える。サンプルスイッチXは、比較器3の非反転入力端子に比較電位Vrefを接続する。サンプルスイッチX~X(N-1)は、容量素子C~C(N-1)に対応してそれぞれ設けられ、容量素子C~C(N-1)の他端にアナログ入力電位Vinを接続する。
CDAC2は、メインスイッチY~Y(N-1)を備える。メインスイッチY~Y(N-1)は、容量素子C~C(N-1)に対応してそれぞれ設けられ、容量素子C~C(N-1)の他端に基準電位VHigh又は基準電位VLowを接続する。基準電位VHighは、基準電位VLowよりも高い電位に設定されている。
CDAC2は、入力信号変換回路21を備える。入力信号変換回路21は、制御回路4から入力される動作指示信号B[M:0]を、サンプルスイッチ制御信号SANPLE及びメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]からなるCDAC2の入力信号に変換する。入力信号変換回路21は、サンプルスイッチ制御信号SANPLEによってサンプルスイッチX、X~X(N-1)を一括して制御することで、アナログ入力電位Vinをサンプリングするサンプリング動作を実行する。また、入力信号変換回路21は、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]によって、メインスイッチY~Y(N-1)をそれぞれ個別に制御することで、サンプリングしたアナログ入力電位Vinに基づいてビット毎の比較対象電位V(N-1)~V0を逐次的に生成する対象電圧生成動作を実行する。
CDAC2によるサンプリング動作及び比較対象電位生成動作について図2を参照して説明する。
(サンプリング動作)
入力信号変換回路21は、待機状態として、サンプルスイッチX、X~X(N-1)及びメインスイッチY~Y(N-1)の全てをオフ状態とする(ステップA1)。
入力信号変換回路21は、待機状態として、サンプルスイッチXの全て、すなわちサンプルスイッチX、X~X(N-1)をオン状態に遷移させ、アナログ入力電位Vinを容量素子C、C~C(N-1)に取り込む(ステップA2)。
入力信号変換回路21は、サンプルスイッチXの全て、すなわちサンプルスイッチX、X~X(N-1)をオフ状態に遷移させる(ステップA3)。これにより、容量素子C、C~C(N-1)は、(アナログ入力電位Vin-比較電位Vref)に対応した電荷が蓄積されている状態となる。
以上のステップA1~ステップA3がサンプリング動作である。サンプリング動作の工程数は、「3」である。
(比較対象電位生成動作)
入力信号変換回路21は、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]を1にしてメインスイッチY(N-1)を基準電位VHighに接続させると共に、メインスイッチ制御信号SW[(N-2)]~SW[0]を0にしてメインスイッチY(N-2)~Yを基準電位VLowに接続する(ステップB1)。これにより、容量素子C(N-1)は基準電位VHighに、容量素子C~C(N-2)は基準電位VLowにそれぞれ接続され、最上位ビット(Nビット目)のデジタル変換値D[(N-1)]を決定するための比較対象電位V(N-1)が生成される。
入力信号変換回路21は、比較対象電位V(N-1)と比較電位Vrefとの比較結果Qによってメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]を固定する(ステップB2)。
比較対象電位V(N-1)が比較電位Vrefよりも低く比較結果Qが0の場合、デジタル変換値D[(N-1)]及びメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]は、1に決定される。以降、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]は、1に固定され、容量素子C(N-1)は基準電位VHighに接続された状態となる。
比較対象電位V(N-1)が比較電位Vrefよりも高く比較結果Qが1の場合、デジタル変換値D[(N-1)]及びメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]は、0に決定される。以降、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]は、0に固定され、容量素子C(N-1)は基準電位VLowに接続された状態となる。
以降、最上位ビットから繰り下げてステップB1~B2と同様の工程を実行し、(N―1)ビット~2ビット目の比較対象電位V(N-2)~Vをそれぞれ生成して、デジタル変換値D[(N-2)]~D[2]及びメインスイッチ制御信号SW[(N-2)]~SW[2]を決定する(ステップB3)~(ステップB(2N-2))。
最下位ビット(1ビット目)において、入力信号変換回路21は、メインスイッチ制御信号SW[0]を1にしてメインスイッチYを基準電位VHighに接続させる(ステップB(2N-1))。これにより、容量素子Cは基準電位VHighに接続され、最下位ビット(1ビット目)のデジタル変換値D[0]を決定するための比較対象電位Vが生成される。
入力信号変換回路21は、比較対象電位Vと比較電位Vrefとの比較結果Qによってメインスイッチ制御信号SW[0]を固定する(ステップB2N)。
比較対象電位Vが比較電位Vrefよりも低く比較結果Qが0の場合、デジタル変換値D[0]及びメインスイッチ制御信号SW[0]は、1に決定される。以降、メインスイッチ制御信号SW[0]は、1に固定され、容量素子Cは基準電位VHighに接続された状態となる。
比較対象電位Vが比較電位Vrefよりも高く比較結果Qが1の場合、デジタル変換値D[0]及びメインスイッチ制御信号SW[0]は、0に決定される。以降、メインスイッチ制御信号SW[0]は、0に固定され、容量素子Cは基準電位VLowに接続された状態となる。
以上のステップB1~ステップB2Nが比較対象電位生成動作である。比較対象電位生成動作の工程数は、「2N」である。
比較器3は、非反転入力端子に入力される容量DAC2からの出力電圧と、反転入力端子に入力される比較電位Vrefとを比較し、比較結果Qを出力する。比較対象電位Vが比較電位Vrefよりも低い場合、比較器3は、比較結果Q=0を出力する。比較対象電位Vが比較電位Vrefよりも高い場合、比較器3は、比較結果Q=1を出力する。
制御回路4は、上位装置からスタート信号STARTが入力されると、動作指示信号B[M:0]をCDAC2の入力信号変換回路21に向けて出力し、サンプリング動作及び比較対象電位生成動作の実行工程を指示する。制御回路4は、最上位ビットから最下位ビットまで逐次的に繰り返される比較器3の比較結果Qに基づき、Nビット(例えば、N=12)のデジタル変換値D「(N-1):0」を出力し、エンド信号ENDを上位装置に出力する。
制御回路4は、CDAC2及び比較器3の動作の工程を複数のビット列からなる動作指示信号B[M:0]として出力し、CDAC2及び比較器3の動作を制御する。動作指示信号B[M:0]は、例えば、(M+1)ビットのビットコードであり、サンプリング動作及び比較対象電位生成動作の工程数を一意に指示できるビット数のパラレル信号である。例えば、N=12で、サンプリング動作及び比較対象電位生成動作の工程数が2N+3=27である場合、動作指示信号B[M:0]は、M=4以上として5ビット以上のビットコードで構成される。
制御回路4は、ハミング距離が1である「グレイコード」を用いて、動作指示信号B[M:0]を進行させる。図3は、N=12でM=4の場合の動作指示信号B[M:0]の進行表である。この場合、CDAC2の工程数は、ステップA1~A3+B1~B24の27になる。動作指示信号B[M:0]は、1番目の「00000」から27番目の「00111」までハミング距離が1で進行する。図3には、「グレイコード」を「00000」から昇順で進行させる例を示したが、降順で進行させても良く、途中から昇順や降順で進行させても良い。動作指示信号B[M:0]は、ハミング距離が1で進行すればよく、「グレイコード」以外のコードを用いてもよい。
CDAC2及び比較器3は、変換する対象のアナログ入力電位Vinのダイナミックレンジを大きくする目的で、電源電圧VCCの大きな素子を用いて信号の振幅が大きい第1信号振幅(例えば、5V)の回路で構成されている。CDAC2及び比較器3は、アナログ入力電位Vinの入力電位範囲を振幅とする第1信号振幅で動作する回路である。制御回路4は、レイアウトを小さくする目的で、電源電圧VDDの小さな素子を用いて信号の振幅が第1信号振幅よりも小さい第2信号振幅(例えば、1V)の回路で構成されている。制御回路4は、第1信号振幅よりも振幅が小さい第2信号振幅で動作する回路である。これにより、制御回路4を構成する素子は、CDAC2及び比較器3を構成する素子よりも耐圧が低い低耐圧素子で構成できる。
レベルシフト回路5は、CDAC2及び比較器3と制御回路4との信号接続のために信号振幅を変換する。レベルシフト回路5は、比較器3の比較結果Qの信号振幅を第1電圧から第2電圧に変換するレベルシフタLを備える。レベルシフト回路5は、動作指示信号B[M:0]の信号振幅を第2電圧から第1電圧に変換するレベルシフタL~Lを備える。レベルシフタL~Lは、動作指示信号B[M:0]のビット毎に並列に設けられている。
レベルシフタL~Lは、例えば、図4に示すように、複数のトランジスタを組み合わせて構成されるが、図5に示すように、素子のばらつきで回路毎の遅延時間に差(以下、回路遅延時間差と称す)が生じやすい。A/D変換器1は、CDAC2に入力信号変換回路21を設け、動作指示信号B[M:0]をハミング距離=1で進行させることで、レベルシフタL~Lの回路遅延時間差によって生じる問題を解消している。
以下、レベルシフタL~Lの回路遅延時間差によって生じる問題について説明する。
まず、CDAC2に入力信号変換回路21を設けることなく、制御回路4から出力されるサンプルスイッチ制御信号SANPLE及びメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]によってCDAC2を直接制御するケースについて考察する。このケースでは、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]は、レベルシフタLN-1~Lを介してCDAC2に入力される。
仮に、SW[11]=1、SW[10]=0がSW[11]=0、SW[10]=1に遷移する場合、CDAC2で生成される比較対象電位は、図6に示すように変化する。図6(a)は、SW[11]、SW[10]の遷移が同時である場合を示す。図6(b)は、SW[11]、SW[10]の遷移がレベルシフタL11、L10の回路遅延時間差によってずれた場合を示す。
図6(b)に示すように、SW[10]の遷移がSW[11]の遷移よりも早くCDAC2に入力されてしまった場合、SW[10]が0から1に遷移時にSW[11]はまだ1の状態である。これにより、メインスイッチY11、10のいずれもが一時的に基準電位VHighに接続された状態となり、比較対象電位が上昇する。その後、SW[11]が0に遷移するため、比較対象電位は、SW[11]=0、SW[10]=1の電位まで下降するが、電位の指導距離が長くなり、CDAC2の出力が遅れてしまう。
レベルシフタLN-1~Lの後段にフリップ・フロップを設置して、タイミング信号を用いてメインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]の遷移を同期化することも考えられる。しかし、レベルシフタLN-1~Lの回路遅延時間差は、図6(c)に示すように、一定でない。従って、タイミング信号は、素子ばらつきによって生じうる信号遅延時間のばらつきを全て網羅したセットアップ時間、ホールド時間を考慮した大きな時間マージンを持つ必要がある。そして、タイミング信号自体も、レベルシフタを経由することを考慮する必要があり、A/D変換の高速化において大きな障害となる。
CDAC2に入力信号変換回路21を設けることで、メインスイッチ制御信号SW[(N-1)]~SW[0]を同期できるため、上記の問題は解決できる。しかし、動作指示信号B[M:0]をハミング距離=2以上で進行するコード(例えば、2進数)を用いた場合、レベルシフタL~Lの回路遅延時間差は、新たな問題を起こす。
動作指示信号B[4:0]=「00111」が「01000」に遷移するハミング距離が4で進行するケースを考察する。この場合、入力信号変換回路21は、動作指示信号B[4:0]=「01000」に対応する工程を実行する。
しかし、レベルシフタLN-1~Lの回路遅延時間差によって、入力信号変換回路21は、「01000」の前後で「01111」、「01011」、「01010」を認識してしまう可能性がある。この場合、DAC2は、意図しない動作を実行することになる。このように、動作指示信号B[M:0]をハミング距離=2以上で進行するコードとした場合、入力信号変換回路21は、意図しないコードを誤認してしまう可能性がある。
本実施の形態のように、動作指示信号B[M:0]をハミング距離=1で進行させる場合、動作指示信号B[M:0]は、1ビットの信号のみが切り替わる。従って、レベルシフタLN-1~Lの回路遅延時間差があっても、入力信号変換回路21は、動作指示信号B[M:0]を誤認することはない。
以上説明したように、本実施の形態は、アナログ入力電位Vinをサンプリングするサンプリング動作と、サンプリングしたアナログ入力電位Vinに基づいてビット毎の比較対象電位V(N-1)~V0を逐次的に生成する対象電圧生成動作と、を実行するCDAC(容量DAC)2と、比較対象電位V(N-1)~V0と比較電位Vrefとを比較する比較器3と、CDAC2および比較器3の動作の工程を複数のビット列からなる動作指示信号B[M:0]として出力し、CDAC2および比較器3の動作を制御する制御回路4、を備える逐次比較型のA/D変換器1であって、CDAC2と比較器3とは、アナログ入力電位Vinの入力電位範囲を振幅とする第1信号振幅で動作する回路であり、制御回路4は、第1信号振幅よりも振幅が小さい第2信号振幅で動作する回路であり、第1信号振幅で動作する回路と第2信号振幅で動作する回路との信号接続は、信号振幅を変換するレベルシフト回路5を介して行われ、動作指示信号B[M:0]の遷移は、ハミング距離が1であるように遷移する。
この構成により、制御回路4を構成する素子は、CDAC2及び比較器3を構成する素子よりも耐圧が低い低耐圧素子で構成できるため、アナログ入力範囲(ダイナミックレンジ)を大きくとっても、近年進んでいる微細化の恩恵を享受でき、レイアウト面積を小さくできる。また、ハミング距離が1で動作指示信号B[M:0]が進行するため、入力信号変換回路21は、レベルシフト回路5の回路遅延時間差に起因する動作指示信号B[M:0]の誤認識を防止できるため、A/D変換を高速化できる。
さらに、本実施の形態において、動作指示信号B[M:0]の遷移は、グレイコードである。
この構成により、動作指示信号B[M:0]をハミング距離が1で進行させることができる。
なお、本発明が上記各実施の形態に限定されず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施の形態は適宜変更され得ることは明らかである。例えば、本願ではビット毎の比較対象電位を逐次的に生成する対象電圧生成回路を容量DAC回路としたが、対象電圧生成回路は、抵抗を使った抵抗DAC回路としても本願が示す同じ課題に対して同じ解決を図ることができることは、明らかである。また、上記構成部材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好適な数、位置、形状等にすることができる。なお、同一構成要素には、各図において、同一符号を付している。
1 A/D変換器
2 CDAC(容量DAC)
3 比較器
4 制御回路
5 レベルシフト回路
21 入力信号変換回路
C、C、C~C(n-1) 容量素子
、LM~L レベルシフタ
、X(N-1)~X サンプルスイッチ
(N-1)~Y メインスイッチ

Claims (3)

  1. アナログ入力電位をサンプリングするサンプリング動作と、サンプリングした前記アナログ入力電位に基づいてビット毎の比較対象電位を逐次的に生成する対象電圧生成動作と、を実行する容量DACと、前記比較対象電位と比較電位とを比較する比較器と、前記容量DACおよび前記比較器の動作の工程を複数のビット列からなる動作指示信号として出力し、前記容量DACおよび前記比較器の動作を制御する制御回路と、を備える逐次比較型のA/D変換器であって、
    前記容量DACと前記比較器とは、前記アナログ入力電位の入力電位範囲を振幅とする第1信号振幅で動作する回路であり、
    前記制御回路は、前記第1信号振幅よりも振幅が小さい第2信号振幅で動作する回路であり、
    前記第1信号振幅で動作する回路と前記第2信号振幅で動作する回路との信号接続は、信号振幅を変換するレベルシフト回路を介して行われ、
    前記動作指示信号の遷移は、ハミング距離が1であるように遷移することを特徴とするA/D変換器。
  2. 前記動作指示信号の遷移は、グレイコードであることを特徴とする請求項1に記載のA/D変換器。
  3. 請求項1又は2に記載のA/D変換器が基板上に集積化されていることを特徴とする半導体装置。
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