JP7842413B2 - 蛍光体とその製造方法 - Google Patents

蛍光体とその製造方法

Info

Publication number
JP7842413B2
JP7842413B2 JP2023541466A JP2023541466A JP7842413B2 JP 7842413 B2 JP7842413 B2 JP 7842413B2 JP 2023541466 A JP2023541466 A JP 2023541466A JP 2023541466 A JP2023541466 A JP 2023541466A JP 7842413 B2 JP7842413 B2 JP 7842413B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phase
light
phosphor
thickness
luminescent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023541466A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2023017845A1 (ja
JPWO2023017845A5 (ja
Inventor
暁彦 伊藤
昭源 松本
俊介 黒澤
彰 吉川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku University NUC
Yokohama National University NUC
Original Assignee
Tohoku University NUC
Yokohama National University NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku University NUC, Yokohama National University NUC filed Critical Tohoku University NUC
Publication of JPWO2023017845A1 publication Critical patent/JPWO2023017845A1/ja
Publication of JPWO2023017845A5 publication Critical patent/JPWO2023017845A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7842413B2 publication Critical patent/JP7842413B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent materials, e.g. electroluminescent or chemiluminescent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent materials, e.g. electroluminescent or chemiluminescent
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/20Measuring radiation intensity with scintillation detectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/20Measuring radiation intensity with scintillation detectors
    • G01T1/202Measuring radiation intensity with scintillation detectors the detector being a crystal
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KHANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K4/00Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Description

本発明は、蛍光体とその製造方法に関する。
本願は、2021年8月12日に、日本に出願された特願2021-131653号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
シンチレータは、ガンマ線、エックス線、アルファ線、ベータ線、中性子線などを検出するシンチレーション検出器に用いられる。シンチレーション検出器は、X線CTや陽電子放出核種断層撮影装置(PET)、in vivoイメージング装置などの医療画像装置、高エネルギー物理用の各種放射線計測装置、資源探索装置などを必要とする幅広い分野で利用されている。一般に、シンチレーション検出器は、シンチレータと、シンチレーション光を受光して電気信号へと変換する受光素子からなる。
医療画像装置は、被検体の核種の位置を特定するために、位置検出型のアバランシェフォトダイオードアレー(APDアレー)、シリコンフォトマルチプライヤーアレー(Si-PMアレー)、光電子増倍管(PMT)などの受光素子を備える。これらの受光素子は、高い検出感度が得られる波長領域が400~600nmであり、この波長領域にピーク波長を有するシンチレータと組み合わせることが望ましい。
シンチレータは、検出効率の点から密度や実効原子番号が大きい(光電吸収比が高い)ことが求められ、高速応答の点から蛍光寿命が短いことが求められ、さらに高エネルギー分解能や検査時間短縮の点から発光量が大きいことが求められる。各種放射線検出器に応用され、蛍光寿命、発光量に関して好ましい特性を有するシンチレータとして、ガーネット構造を有する無機シンチレータが知られている。ガーネット構造を有する無機シンチレータは、化学的に安定であり、へき開性、潮解性がないため取り扱いが容易である。例えば、特許文献1、2、非特許文献1では、賦活元素としてPr3+やCe3+などの希土類元素を用い、融液成長法や焼結プロセスにより作製されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット系シンチレータについて開示されている。
日本国特開2020-105064号公報(A) 日本国特開2015-030662号公報(A)
M. Nikl, A. Yoshikawa, K. Kamada, K. Nejezchleb, C. R. Stanek, J. A. Mares, and K. Blazek: Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials 59 (2013) 47-72 S. Witkiewicz-Lukaszek, V. Gorbenko, T. Zorenko, O. Sidletskiy, P. Arhipov, A. Fedorov, J. A. Mares, R. Kucerkova, M. Nikl, and Y. Zorenko: CrystEngComm 22 (2020) 3713-3724
無機シンチレータは、融点が2000℃を超える物質が多く、一般的な単結晶育成法を用いて形成する場合、超高温プロセスが必要となり、高い製造コストと多くと製造時間を要する。また、単結晶育成法を用いて形成されるような厚い無機シンチレータでは、照射された放射線の一部が自己吸収されるため、変換された可視光の発光量が低下する。また、蛍光体内でエネルギー回遊が生じるため、蛍光寿命が長くなる。
非特許文献2では、液相エピタキシー法により、10~20μmの厚みを有するシンチレータ結晶が育成されたことについて報告されている。しかしながら、この方法では、フラックス液相由来のPb2+等の不純物元素(特に遷移金属元素)が、合成過程で混入してしまい、その影響で十分な発光量を得ることは難しい。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、高い発光量と高速応答性を実現する蛍光体と、その蛍光体を容易に製造することを可能とする蛍光体の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は以下の手段を採用している。
(1)本発明の一態様に係る蛍光体は、放射線を可視光に変換して発光させる発光相と、前記可視光を透過させる透光相と、を含み、厚みが5μm以上200μm以下の範囲であり、前記発光相が賦活元素を含み、前記発光相と前記透光相とが、前記厚み方向と交差する方向に交互に並ぶ。
(2)前記(1)に記載の蛍光体において、前記厚みは、単位厚み当たりの発光量が最大となる厚みの0.8倍以上1.2倍以下であることが好ましい。
(3)前記(1)または(2)のいずれかに記載の蛍光体において、前記発光相は、前記賦活元素を0.01mol%以上20mol%以下の比率で含むことが好ましい。
(4)前記(1)~(3)のいずれか一つに記載の蛍光体において、前記発光相と前記透光相とが交互に並んで重なる重なり方向において、前記発光相の幅が0.2μm以上3μm以下であることが好ましい。
(5)前記(1)~(4)のいずれか一つに記載の蛍光体において、前記重なり方向において、前記透光相の幅が0.2μm以上3μm以下であることが好ましい。
(6)前記(1)~(5)のいずれか一つに記載の蛍光体において、前記発光相が、ガーネット構造、ビックスバイト構造、ペロブスカイト構造、カスピディン構造、オルソシリケート構造、パイロシリケート構造、パイロクロア構造のうち、一つまたは二つ以上を組み合わせた結晶構造を有することが好ましい。
(7)前記(1)~(6)のいずれか一つに記載の蛍光体において、前記透光相が、前記発光相を構成する金属元素のうちの一つまたは二つ以上を組み合わせた酸化物を、主成分として含むことが好ましい。
(8)本発明の一態様に係る蛍光体の製造方法は、前記(1)~(7)のいずれか一つに記載の蛍光体の製造方法であって、基材の一面に対し、前記厚み方向が直交するように、レーザーCVD法を用いて前記蛍光体を形成する。
本発明の蛍光体は、厚みを5μm以上200μm以下の範囲に設定している。蛍光体の厚みをこの範囲に設定することにより、厚み方向において、照射された放射線の透過率を低くし、かつ変換された可視光の自己吸収率を低くすることができ、高い発光量を実現することができる。また、蛍光体の厚みを上記範囲に設定することにより、可視光の励起を活性化させる賦活元素を高濃度で添加することができ、高速応答性を実現することができる。
また、本発明の蛍光体は、厚み方向と交差する方向において発光相と透光相とが交互に並んで構成されている。したがって、可視光の伝搬経路に含まれる発光相の長さの比率が小さくなり、発光相内での可視光の伝搬距離を減らすことができる。そのため、自己吸収による発光量の減少を抑えることができ、その結果として、厚み方向と交差する方向における高い発光量を実現することができる。さらに、発光相の長さや厚みを上記範囲に設定することにより、発光相内や発光相間でのエネルギー回遊を抑えることができ、高速応答性を実現することができる。
本発明の蛍光体の製造方法では、レーザーCVD法を用いることにより、超高温プロセスを必要とせず、かつ不純物元素の混入の影響を少なくすることができるため、高い発光量と高速応答性を実現する上記蛍光体を、容易に製造することができる。
本発明の一実施形態に係る蛍光体の断面図である。 図1の蛍光体の製造に用いるレーザーCVD装置の構成を、模式的に示す断面図である。 実施例1の蛍光体の断面のSEM画像である。 実施例1の蛍光体の表面のSEM画像である。 実施例1および比較例1、2の蛍光体の発光特性を示すグラフである。 実施例1の蛍光体の蛍光寿命特性を示すグラフである。 蛍光体の厚みと発光量の関係を示すグラフである。
以下、本発明を適用した実施形態に係る蛍光体とその製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
図1は、本発明の一実施形態に係る蛍光体10の構成を模式的に示す断面図である。蛍光体10は、複数の発光相(蛍光体相)11の領域と、複数の透光相12の領域と、を含む共晶体厚膜、好ましくは、発光相11の領域と透光相12の領域のみで構成される共晶体厚膜である。発光相11と透光相12とは、蛍光体10の厚み方向Tと交差する方向(好ましくは直交する方向)W、換言すると主面に沿った方向(面方向)Wに、交互に並んで重なっている。厚み方向Tからの平面視において、発光相11と透光相12は、それぞれ筋状に延在して分布している。なお、本実施形態において「発光相11と透光相12とが交互に並ぶ」とは、発光相11、透光相12の順の並びが、方向Wに沿って、2回以上、好ましくは5回以上繰り返されるように、発光相11と透光相12とが互い違いに配置されることを意味している。
蛍光体10に照射された放射線Rは、蛍光体10の内部(発光相11)で可視光Lに変換され、放射条に広がって伝搬する。蛍光体10の体積が大きいほど、照射された放射線Rのうち可視光Lに変換される成分が多くなるが、変換された可視光Lのうち自己吸収される成分も多くなり、発光の一部が妨げられるため、高い発光量が得られにくい。反対に、蛍光体10の体積が小さいほど、照射された放射線Rは蛍光体10を透過しやすくなり、可視光Lに変換される量が少なくなるため、この場合にも高い発光量が得られにくい。
これらのことを考慮し、蛍光体10の厚み方向Tの発光量を効率的に高める観点から、本実施形態の蛍光体10の厚みTは、発光量を効率的に高められる5μm以上200μm以下の範囲であるとする。この範囲は、一般的なバルク単結晶の厚みより一桁~二桁薄い範囲となる。
蛍光体10(発光相11)を厚くするとともに可視光の発生量は増加するが、自己吸収による減少分を考慮すると、増加分と減少分が均衡する特定の厚み以上では、実際に得られる発光量の増加は抑制される。つまり、単位厚み当たりの発光量(厚みの増加分に対する発光量の増加分の比率)は、この特定の厚みで最大値となる。したがって、蛍光体10の厚みは、単位厚み当たりの発光量が最大となる厚みの0.8倍以上1.2倍以下であれば、発光効率がより高められるため好ましい。
発光相11は、所定の放射線が照射された場合に、主に可視光域の発光を示すシンチレータ材料からなる相である。発光相11の領域は、非発光物質、透光物質を含まない。蛍光体10の厚みTは、可視光Lに変換する放射線Rの種類に応じて決定される。例えば、α線を可視光に変換し、かつγ線等の高エネルギーの放射線を透過させる場合、蛍光体の厚みTの好適な範囲は5μm以上30μm以下となる。また、γ線を可視光に変換する場合、蛍光体の厚みTの好適な範囲は50μm以上200μm以下となる。
発光相11と透光相12とが交互に並んで重なる重なり方向Wにおいて、自己吸収量を少なくして発光量を効率的に高める観点から、発光相11の幅W11は0.2μm以上3μm以下であることが好ましい。
透光相12は、酸化物を主成分として含み、可視光Lの透過率が75%以上の透明セラミックス材料等からなる。発光相11で変換された可視光Lが、蛍光体10の外部に到達する経路を確保する観点から、重なり方向Wにおける透光相12の幅W12は、0.2μm以上であることが好ましい。また、可視光Lへの変換量を確保できるように、透光相12の比率を高くし過ぎないようにする観点から、重なり方向Wにおける透光相12の幅W12は、3μm以下であることが好ましい。
発光相11は、所定の放射線Rを照射されて発生した可視光Lに対し、所定の検出装置による検出が可能な程度、好ましくは10%~90%の透過性を有することが好ましい。可視光Lの透過性を高める観点から、単結晶構造を有する場合の50%以上の配向度を有することが好ましく、単結晶構造を有していれば最も好ましい。可視光Lの透過性が低くなり過ぎない範囲であれば、発光相11は、単結晶構造の主相を含む複数の相からなる構造を有してもよい。ただし、単結晶の主相が全体の50%以上の体積を有することが好ましい。
発光相11の材料としては、例えば、3Al・2SiO、MgO・Al、Al・TiO、BaO・6Al、BaO・Al、BeO・3Al、BeO・Al、3BeO・Al、CaO・TiO、CaO・Nb、CaO・ZrO、2CoO・TiO、FeAl、MnAl、3MgO・Y、2MgO・SiO、MgCr、MgO・TiO、MgO・Ta、MnO・TiO、2MnO・TiO、3SrO・Al、SrO・Al、SrO・2AlSrO・6Al、SrO・TiO、TiO・3Nb、TiO・Nb、3Y・5Al、2Y・Al、2MgO・2Al・5SiO、LaAlO、CeAlO、PrAlO、NdAlO、SmAlO、EuAlO、GdAlO、DyAlO、YbAl、ErAl12、11Al・La、11Al・Nd、11Al・Pr、EuAl1118、2Gd・Al、11Al・Sm、YbAl12、CeAl1118、およびErAlのうち、一つまたは二つ以上を組み合わせた材料を主成分として含むものが挙げられる。
透光相12の材料としては、例えば、Al、MgO、SiO、TiO、ZrO、CaO、Y、BaO、BeO、FeO、Fe、MnO、CoO、Nb、Ta、Cr、SrO、ZnO、NiO、LiO、Ga、HfO、ThO、UO、SnO、La、Y、CeO、Pr11、Nd、Sm、Gd、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびLuのうち、一つまたは二つ以上を組み合わせた材料を主成分として含むものが挙げられる。
発光相11は、次に挙げるガーネット構造、ビックスバイト構造、ペロブスカイト構造、カスピディン構造、オルソシリケート構造、パイロシリケート構造、パイロクロア構造のうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを有することが好ましい。
発光相11がA12で表されるガーネット構造を有する場合、透光相12は、Bで表される酸化物を含む異なる結晶相を有することが好ましい。また、発光相11は、Aで表されるビックスバイト構造、ABOで表されるペロブスカイト構造、Aで表されるカスピディン構造を有してもよい。これらの場合、Aとしては、例えばGd、Sc、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばAl、Gaのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができる。
発光相11がAで表されるビックスバイト構造を有する場合、透光相12は、B、A12、Aで表される酸化物を含む異なる結晶相を有することが好ましい。これらの場合、Aとしては、例えばGd、Sc、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばAl、Gaのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができる。
発光相11がABOで表されるオルソシリケート構造を有する場合、透光相12は、Aで表される酸化物を含む異なる結晶相を有することが好ましい。この場合、Aとしては、例えばGd、Y、Yb、Luのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばSiを用いることができる。
発光相11がABOで表されるペロブスカイト構造を有する場合、透光相12は、BOで表される酸化物を含む異なる結晶相を有することが好ましい。ペロブスカイト構造の場合のAとしては、例えばCa、Sr、Ba、Pbのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばTi、Zr、Hfのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができる。
発光相11がAで表されるパイロシリケート構造またはパイロクロア構造を有する場合、透光相12は、BOで表される酸化物を含む異なる結晶相を有することが好ましい。パイロシリケート構造の場合のAとしては、例えばGd、Y、Yb、Luのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばSiを用いることができる。パイロクロア構造の場合のAとしては、例えばGd、Sc、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができ、Bとしては、例えばTi、Zr、Hfのうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができる。
発光相11は、賦活元素を0.01mol%以上20mol%以下の比率で含むことが好ましい。賦活元素としては、例えば、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb3+、Eu2+のうち、一つまたは二つ以上の組み合わせを用いることができる。
発光相11は、電荷バランスの調整を行い、結晶欠陥を防ぐ目的で、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Li,Na、K、などのアルカリ金属、アルカリ土類金属が1000ppm以下の範囲で添加されていてもよい。また、当該目的のために、これら以外の元素が添加されていてもよい。
(蛍光体の製造方法)
図2は、本実施形態に係る蛍光体の製造に用いるレーザーCVD装置100の構成例を、模式的に示す断面図である。レーザーCVD装置100は、主に、チャンバ101と、チャンバ101内で基材10を支持する基材支持部102と、基材10に対してレーザー光を照射するレーザー光照射部103と、チャンバ101内に原料ガスを供給する原料ガス供給部104と、で構成されている。
基材支持部102は、主に、基材10が載置されるステージ102Aと、ステージ102Aに付設され、基材10の温度をモニターする熱電対102Bと、で構成されている。
レーザー光照射部103を用いて照射するレーザーとしては、例えば、炭酸ガスレーザー、半導体レーザー、固体レーザー等を用いることができる。
原料ガス供給部104は、主に、蛍光体の原料の前駆体(有機金属化合物)を加熱して気化させ、原料ガスとするヒーター室104B、104Dと、キャリアガス(Arガス)の供給源(供給部)104A、104Cと、原料ガスおよびキャリアガスをチャンバ101内に導入するノズル104Eと、酸素ガスの供給源(供給部)104Fと、供給された酸素ガスをチャンバ101内に導入するノズル104Gと、で構成されている。
例えば、LuAG(発光相)とAl(透光相)からなる本実施形態の蛍光体10を製造する場合には、一方のヒーター室104BがLuの供給源として機能し、他方のヒーター室104DがAlの供給源として機能する。なお、ヒーター室の数は、必要とされる原料(賦活元素等)の数に応じて増減させることがある。
キャリアガスの供給源104A、104Cは、それぞれヒーター室104B、104Dに連結され、供給するキャリアガスが、ヒーター室104B、104Dを経由し、ヒーター室104B、104D内で気化した原料ガスを、チャンバ101内に搬送するように構成されている。原料(原料の前駆体)の気化温度は、150℃以上、270℃以下とすることが好ましい。キャリアガスの供給源104A、104C、酸素ガスの供給源104Fは、それぞれ、供給するガスの流量の調整を行うマスフローコントローラーを含む。キャリアガスの流量は、20ccm以上、500sccm以下の範囲に調整することが好ましい。また、酸素ガスの流量は、20sccm以上、500sccm以下の範囲に調整することが好ましい。
蛍光体の製造方法は、次の工程を有する。初めに、ステージ102A上に基材10を載置した上で、チャンバ101内が成膜に適した圧力(例えば、200Pa以上、3000Pa以下)になるように排気する(排気工程)。次に、レーザー光照射部103を用いて、基材10に対してレーザー光Lを照射し、基材10を加熱する(基材加熱工程)。レーザー光の出力密度は、100W/cm以上、200W/cm以下とすることが好ましい。そして、レーザー光を照射しつつ、キャリアガスとともに原料ガスを、加熱されている基材101に対して供給することにより、無機固体材料からなる蛍光体の膜を形成することができる(蛍光体膜形成工程)。成膜温度は、700℃以上、1200℃以下とすることが好ましい。また、成膜速度は、15μm/h以上、200μm/h以下とすることが好ましい。
レーザー光の照射により、無機固体材料の結晶育成を活性化させることができる。また、レーザー光の照射により、速い成長速度での結晶の合成が可能であるため、結晶成長温度を低減させることができる。結晶成長速度は、レーザー光を用いない従来の気相プロセスでの結晶成長速度の約180倍となる。結晶成長温度は、従来の気相プロセスでの結晶成長温度の約50%となる。
蛍光体膜形成工程において、複数種類の原料ガスを供給することにより、自己組織化された共晶構造を有する本実施形態の蛍光体を製造することができる。原料ガスの含有比率を調整することによって、形成される蛍光体における各相の含有比率(組成比)、ひいては各相の幅を調整することができる。また、原料ガスを供給する時間、すなわち成膜時間を調整することにより、形成される蛍光体の厚みを調整することができる。
本実施形態の蛍光体は、上述した構成により、高速応答性と高い発光量を実現することができる。そのメカニズムは、次の通りである。
本実施形態の蛍光体10は、厚みが5μm以上200μm以下の範囲である。したがって、可視光Lの励起を活性化させる賦活元素については、添加しても偏析が起きにくく、高濃度で添加することができるため、高速応答を実現することができる。また、蛍光体10が十分な厚みを有することにより、照射された放射線Rが、可視光Lに変換されずに発光相11を透過するのを抑えることができる。また、蛍光体10が厚すぎないことにより、発光相11で変換され、蛍光体10の外部に向かって放射状に伝搬する可視光Lのうち、厚み方向Tに伝搬する成分が、発光相11で自己吸収される確率を低くすることもできる。したがって、本実施形態の蛍光体10によれば、発光相11において、照射された放射線Rを効率よく可視光Lに変換して発光させることができ、かつ自己吸収による発光量の減少を抑えることができ、その結果として、厚み方向Tにおける高い発光量を実現することができる。
また、本実施形態の蛍光体10は、厚み方向と交差する方向Wにおいて、発光相11と透光相12とが交互に並んで構成されている。発光相11から伝搬する可視光Lのうち、厚み方向と交差する方向Wに伝搬する成分の伝搬経路は、蛍光体10の厚み方向Tから傾くほど長くなるが、伝搬経路の長さに比例して多くの透光相12を含む。したがって、蛍光体10が発光相11だけで構成されている場合に比べて、可視光Lの伝搬経路に含まれる発光相11の長さの比率が小さくなり、発光相11内での可視光Lの伝搬距離を減らすことができる。そのため、発光相11での自己吸収による発光量の減少を抑えることができ、その結果として、厚み方向と交差する方向Wにおける高い発光量を実現することができる。また、発光相内や発光相間でのエネルギー回遊を抑えることができ、その結果として、高速応答性を実現することができる。
本実施形態の蛍光体10の製造方法では、上述したレーザーCVD法を用いることにより、単結晶育成法を用いる場合のような超高温プロセスを必要とせず、また、液相エピタキシー法を用いる場合のような不純物元素の混入の影響が少ない。そのため、本実施形態の蛍光体10の製造方法によれば、高い発光量と高速応答性を実現する蛍光体10を容易に製造することができる。
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
(実施例1)
上述した蛍光体の製造方法を用い、ガーネット構造を有するLuAG(LuAl12)を主相とし、賦活元素としてCe3+を9.0mоl%添加した発光相と、Alを主相とする透光相とで構成される共晶構造の蛍光体を、基材の一面に形成した。蛍光体の厚みを6.6μmとした。基材としては、アルミナ(Al)で構成されるものを用いた。蛍光体の主な製造条件については、下記のように設定した。
レーザー出力密度:79W/cm
Arガスの流量:100sccm
酸素ガスの流量:100sccm
原料気化温度:190~270℃
成膜温度:860℃
成膜圧力:200Pa
成膜速度:79μm/h
(比較例1)
シンチレータ結晶として一般的に知られている、GdAlGa12(GAGG)を主相とし、賦活元素としてCe3+を添加した発光相のみを、融液成長法を用いて形成した。形成されるシンチレータ層の厚みは、約1mmとした。
(比較例2)
シンチレータ結晶として一般的に知られている、LuAG(LuAl12)を主相とし、賦活元素としてCe3+を添加した発光相のみを、融液成長法を用いて形成した。形成されるシンチレータ層の厚みは、約1mmとした。
図3A、3Bは、実施例1として形成した蛍光体の断面、表面のSEM画像である。発光相(黒色部分)と透光相(白色部分)とが交互に並んで重なり、共晶構造を有する蛍光体として、約6.6μmで一様な厚みTの膜が形成されていることが分かる。発光相と透光相の重なり方向の幅は、いずれも約0.7μmとなっている。
実施例1、比較例1、比較例2の蛍光体に対し、α線とγ線を含む放射線を照射し、それぞれの発光相内で変換された可視光について、パルス波高スペクトルを調べる測定を行った。図4は、測定結果を示すグラフである。グラフの横軸は発光量に相当するデジタルチャンネル値[ch]を示し、グラフの縦軸は発光強度を示している。
比較例1、比較例2のパルス波高スペクトル201、202は、いずれも700~1100chのエネルギー領域にエッジを有しており、それ以上の高エネルギー領域では大きく減衰している。したがって、比較例1、2の蛍光体では、高い発光量が得られていないことが分かる。これは、比較例1、2の蛍光体では発光相が厚く形成されており、発光相内での可視光の伝搬距離が長くなり、自己吸収による発光量の減少が起きているためであると考えられる。
一方、実施例1のパルス波高スペクトル203は、1500chのエネルギーにエッジを有しており、1500ch以上の高いエネルギー領域では緩やかに減衰している。検出信号のピークがある。したがって、実施例1の蛍光体では、高い発光量が得られていることが分かる。これは、蛍光体の内部に透光相を備えることにより、可視光の伝搬経路に含まれる発光相の長さの比率が小さくなり、発光相内での可視光の伝搬距離を減らすことができ、自己吸収による発光量の減少が抑えられているためであると考えられる。
実施例1の蛍光体に対しα線を照射し、蛍光寿命特性を調べる測定を行った。図5は、測定結果を示すグラフである。グラフの横軸は経過時間[μs]を示し、グラフの縦軸は蛍光体のエネルギー状態に対応する電圧[mV]を示している。
蛍光体のエネルギー状態は、時刻0[μs]に照射されたα線を吸収して励起状態となり、その後、時間の経過とともに可視光を放出して基底状態に遷移している。減衰時における時定数は、最も速い成分で17nsとなり、一般的なバルク単結晶のLuAGで得られる時定数70nsよりも小さくなっている。蛍光体の厚みを5μm以上100μm以下の範囲(ここでは6.6μm)として、Ceを高濃度でドープすることにより濃度消光を促進することができ、蛍光体に透光相を含むことにより発光体内でのエネルギー回遊を抑えることが可能となり。その結果として、蛍光体の蛍光寿命が短くなり、高速応答性を実現できることが分かる。
(実施例2~6)
実施例1と同様の製造条件にて、実施例1の蛍光体と厚みが異なる、実施例2~6の蛍光体を形成した。厚み以外の構成については、実施例1の蛍光体と同様とした。
実施例1~6の蛍光体に対し、α線を照射し、それぞれの蛍光体から得られた発光量を測定した。α線源としては、Amの放射性同位体(質量数241)を用い、パルス波高分布スペクトル測定を行った。得られた蛍光体の厚みと発光量の関係を、表1および図6に示す。
図6は、蛍光体の厚みと発光量の関係を示すグラフである。グラフの横軸は蛍光体の厚み[μm]を示し、グラフの縦軸は最大値(飽和値)で規格化した発光量(Light Yield)を示す。
本実施例の条件においては、厚みを9μm以上とした場合に、発光領域の増加による発光量の増加と、自己吸収領域の増加による発光量の減少が均衡し、結果として得られる発光量の値が最大値になって飽和している。すなわち、ここでは厚みを9μm以上とした場合に、単位厚み当たりの発光量が最大となっている。この結果から、蛍光体の厚みが、単位厚み当たりの発光量が最大となる厚みの0.8倍以上1.2倍以下であれば、発光効率がより高められることが分かる。
本発明によれば、高い発光量と高速応答性を実現する蛍光体と、その蛍光体を容易に製造することを可能とする蛍光体の製造方法を提供することができる。
10 蛍光体
11 発光相
12 透光相
100 レーザーCVD装置
101 チャンバ
102 基材支持部
102A ステージ
102B 熱電対
103 レーザー光照射部
104 原料ガス供給部
104A キャリアガスの供給源(供給部)
104B ヒーター室(原料前駆体の供給源)
104C キャリアガスの供給源(供給部)
104D ヒーター室(原料前駆体の供給源)
104E 原料前駆体ガスの供給ノズル
104F 酸素ガスの供給源
104G 酸素ガスの供給ノズル

Claims (8)

  1. 放射線を可視光に変換して発光させる発光相と、
    前記可視光を透過させる透光相と、を含み、
    厚みが5μm以上200μm以下の範囲であり、
    前記発光相が賦活元素を含み、
    前記発光相と前記透光相とが、前記厚み方向と交差する方向に交互に並び、
    前記発光相と前記透光相とが交互に並んで重なる重なり方向において、前記発光相の幅が0.2μm以上3μm以下であることを特徴とする蛍光体。
  2. 前記厚みが、単位厚み当たりの発光量が最大となる厚みの0.8倍以上1.2倍以下であることを特徴とする請求項1に記載の蛍光体。
  3. 前記発光相が、前記賦活元素を0.01mol%以上20mol%以下の比率で含むことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の蛍光体。
  4. (削除)
  5. 前記重なり方向において、前記透光相の幅が0.2μm以上3μm以下であることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の蛍光体。
  6. 前記発光相が、ガーネット構造、ビックスバイト構造、ペロブスカイト構造、カスピディン構造、オルソシリケート構造、パイロシリケート構造、パイロクロア構造のうち、一つまたは二つ以上を組み合わせた結晶構造を有することを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の蛍光体。
  7. 前記透光相が、前記発光相を構成する金属元素のうちの一つまたは二つ以上を組み合わせた酸化物を主成分として含むことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の蛍光体。
  8. 請求項1または2のいずれかに記載の蛍光体の製造方法であって、
    基材の一面に対し、前記厚み方向が直交するように、レーザーCVD法を用いて前記蛍光体を形成することを特徴とする蛍光体の製造方法。
JP2023541466A 2021-08-12 2022-08-10 蛍光体とその製造方法 Active JP7842413B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021131653 2021-08-12
JP2021131653 2021-08-12
PCT/JP2022/030630 WO2023017845A1 (ja) 2021-08-12 2022-08-10 蛍光体とその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2023017845A1 JPWO2023017845A1 (ja) 2023-02-16
JPWO2023017845A5 JPWO2023017845A5 (ja) 2024-07-01
JP7842413B2 true JP7842413B2 (ja) 2026-04-08

Family

ID=85200664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023541466A Active JP7842413B2 (ja) 2021-08-12 2022-08-10 蛍光体とその製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7842413B2 (ja)
WO (1) WO2023017845A1 (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11271453A (ja) * 1998-03-25 1999-10-08 Toshiba Corp 放射線弁別測定方法および放射線弁別測定装置
JP2004037281A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Toshiba Corp 汚染検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2023017845A1 (ja) 2023-02-16
WO2023017845A1 (ja) 2023-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Yanagida Inorganic scintillating materials and scintillation detectors
CN103249805B (zh) 包含掺杂稀土硅酸盐的发光材料
CN102888652B (zh) 含Pr的闪烁体用单晶及其制造方法和放射线检测器以及检查装置
US7655157B2 (en) Doped cadmium tungstate scintillator with improved radiation hardness
US6818896B2 (en) Scintillator crystals and their applications and manufacturing process
JP5952746B2 (ja) シンチレータ用ガーネット型単結晶、及びこれを用いた放射線検出器
US20180284300A1 (en) A method of shortening the scintillation
CN1995274A (zh) 闪烁体材料以及包含该材料的辐射检测器
CN106459758A (zh) 发光体及辐射探测器
JP2012180399A (ja) シンチレータ用ガーネット型結晶、及び、これを用いる放射線検出器
EP4209565B1 (en) Ceramic scintillator, photon counting-type x-ray detector, and ceramic scintillator manufacturing method
JP2013002882A (ja) 放射線検出器
JP2012046642A (ja) シンチレータ用ガーネット型結晶およびこれを用いる放射線検出器
JP2013040274A (ja) シンチレータ用ガーネット型結晶およびこれを用いる放射線検出器
Zhang et al. High-efficiency narrow-band green-emitting Tb-doped fluorosilicate glass for X-ray detectors
JP2013043960A (ja) シンチレータ用ガーネット型結晶およびこれを用いる放射線検出器
JP7842413B2 (ja) 蛍光体とその製造方法
Kamada et al. 2-inch size crystal growth of Ce: Gd 3 Al 2 Ga 3 O 12 with various Ce concentration and their scintillation properties
RU2328755C1 (ru) Способ получения прозрачной керамики и сцинтиллятор на основе этой керамики
CN101084329A (zh) 含Pr的闪烁体用单晶及其制造方法和放射线检测器以及检查装置
JP7624175B2 (ja) 蛍光体とその製造方法、およびα線検出器
JP2007217456A (ja) 蛍光材料およびそれを用いた放射線検出器
JP2023511511A (ja) 平面パネルx線検出器で使用するための発光ガラスセラミック、平面パネルx線検出器、および画像化システム
EP4703454A1 (en) Ceramic scintillator, photon counting type x-ray detector, and method for manufacturing ceramic scintillator
Roos Scintillation Detectors

Legal Events

Date Code Title Description
A529 Written submission of copy of amendment under article 34 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A5211

Effective date: 20240207

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20240207

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20250606

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20260224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20260318

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7842413

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150