JP7793290B2 - 顆粒又は粉末及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(a)
(A)一般式(Ia)
[CH3-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M3-xHx (Ia)
[式中、Mは、同じ又は異なるアルカリ金属陽イオン及びアンモニウムから選択され、xは、0.01から1.0までの範囲にある]、
又は(Ib)
[OOC-CH2CH2-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M4-xHx (Ib)
[式中、Mは、上に定義された通りであり、式(Ib)中のxは、0.01から2.0までの範囲にある]
で表される少なくとも1種のキレート化剤と、
(B)少なくとも1種のポリマーであって、
(B1)平均分子量Mwが1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテート、並びに
(B2)コポリマー形態で
(α)エチレン性不飽和モノ又はジカルボン酸の少なくとも1種のエステル、及び
(β)少なくとも1種のエチレン性不飽和N含有モノマー
を含むコポリマー
から選択される少なくとも1種のポリマーと
の水溶液又は水性スラリーを用意するステップと、
(b)前記溶液又はスラリーを噴霧乾燥又は造粒するステップと
を含む方法に関する。
[CH3-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M3-xHx (Ia)
[式中、Mは、同じ又は異なるアンモニウム及びアルカリ金属陽イオン、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムの陽イオン、及び以上のうちの少なくとも2つの組合せから選択され、アンモニウムはアルキルで置換されていてもよいが、非置換アンモニウムNH4 +が好ましく、アルカリ金属陽イオンの好ましい例は、ナトリウム及びカリウム並びにナトリウム及びカリウムの組合せであり、一般式(Ia)で表される化合物において、全てのMが同じであり、それらが全てNaであることがさらに好ましく;
式(Ia)中のxは、0.01から1.0まで、好ましくは0.015から0.2の範囲にある]、
又は(Ib)
[OOC-CH2CH2-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M4-xHx (Ib)
[式中、Mは、上に定義された通りであり、式(Ib)中のxは、0.01から2.0まで、好ましくは0.015から1.0の範囲にある]
で表される少なくとも1種のキレート化剤の水溶液又は水性スラリーを用意することを含む。
一般式(Ia)で表されるキレート化剤が好ましい。
(B1)平均分子量Mwが1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテート、並びに
(B2)コポリマー形態で
(α)以下コモノマー(α)とも称される、エチレン性不飽和モノ又はジカルボン酸の少なくとも1種のエステル、及び
(β)以下コモノマー(β)とも称される、少なくとも1種のエチレン性不飽和N含有モノマー
を含むコポリマー
から選択される。好ましいコモノマー(β)は、pH値とは独立した陽イオン性のコモノマーである、いわゆる永久陽イオン性電荷を有するエチレン性不飽和N含有モノマーである。
(1)アスパラギン酸の熱重縮合、及びそれに続く中間体ポリスクシンイミドのアルカリ加水分解;
(2)酸触媒、例えばリン酸、硫酸又はメタンスルホン酸の存在下でのアスパラギン酸の熱重縮合、及びそれに続く中間体ポリスクシンイミドのアルカリ加水分解;
(3)アンモニア又はアンモニウム塩の存在下での無水マレイン酸の重合、及びそれに続く中間体ポリスクシンイミドのアルカリ加水分解。
CH2=C(R1)-CO-O-R2
式中、R1は、水素及びメチルからであり、
R2は、
C1~C4アルキル、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、及びtert-ブチル、並びに以上のうちの少なくとも2つの組合せから選択され、メチル及びエチル並びにその組合せが好ましく、C1~C4アルキルはメチルであることがさらに好ましく、
2-ヒドロキシエチル及び3-ヒドロキシプロピル、並びに
(AO)yH又は(AO)y-C1~C4アルキルであり、yは、1から100までの範囲にあり、AOは、同じ又は異なるC2~C4アルキレンオキシドから選択され、好ましくはCH2-CH2-O、(CH2)3-O、(CH2)4-O、CH2CH(CH3)-O、CH(CH3)-CH2-O-及びCH2CH(n-C3H7)-Oから選択される。AOの最も好ましい例は、CH2-CH2-O(「EO」)である。
R1は、水素又はメチルであり、
Y1は、酸素又はN-Hであり、
A1は、C2~C4アルキレン、例えば-CH2-CH2-、-(CH2)3-又は-(CH2)4-から選択される。CH2-CH2-及び-(CH2)3-が好ましい。
R2は、異なり又は好ましくは同じであり、ベンジル及びn-C1~C4アルキル、例えばメチル、エチル、n-プロピル、又はn-ブチルから選択され、好ましくはそれらが同じで、全てメチルである。
X-は、ハロゲンイオン、例えばヨウ素イオン、臭素イオン、特に塩素イオンから、またモノC1~C4アルキル硫酸イオン及び硫酸イオンから選択される。モノC1~C4アルキル硫酸イオンの例は、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、イソプロピル硫酸イオン及びn-ブチル硫酸イオン、好ましくはメチル硫酸イオン及びエチル硫酸イオンである。X-が硫酸イオンとして選択される場合、X-は、2分の1当量の硫酸イオンである。
(A)一般式(Ia)で表される少なくとも1種のキレート化剤を含有する。
[CH3-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M3-xHx (Ia)
式中、Mは、同じ又は異なるアルカリ金属陽イオン及びアンモニウム、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムの陽イオン、及び以上のうちの少なくとも2つの組合せから選択され、アンモニウムはアルキルで置換されていてもよいが、非置換アンモニウムNH4 +が好ましく、アルカリ金属陽イオンの好ましい例は、ナトリウム及びカリウム並びにナトリウム及びカリウムの組合せであり、一般式(Ia)で表される化合物において、全てのMが同じであり、それらが全てNaであることがさらに好ましい。
[OOC-CH2CH2-CH(COO)-N(CH2-COO)2]M4-xHx (Ib)
式中、Mは、上に定義された通りであり、式(Ib)中のxは、0.01から2.0まで、好ましくは0.015から1.0の範囲にある。
(B)少なくとも1種のポリマーであって、
(B1)平均分子量Mwが1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテート、並びに
(B2)コポリマー形態で
(α)エチレン性不飽和モノ又はジカルボン酸の少なくとも1種のエステル、及び
(β)少なくとも1種のエチレン性不飽和N-含有モノマー
を含むコポリマー
から選択される少なくとも1種のポリマー
を含有する。
CH2=C(R1)-CO-O-R2
式中、R1は、水素及びメチルからであり、
R2は、
C1~C4アルキル、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、及びtert-ブチル、並びに以上のうちの少なくとも2つの組合せから選択され、メチル及びエチル並びにその組合せが好ましく、C1~C4アルキルはメチルであることがさらに好ましく、
2-ヒドロキシエチル及び3-ヒドロキシプロピル、並びに
(AO)yH又は(AO)y-C1~C4アルキルであり、yは、1から100までの範囲であり、AOは、同じ又は異なるC2~C4アルキレンオキシドから選択され、好ましくはCH2-CH2-O、(CH2)3-O、(CH2)4-O、CH2CH(CH3)-O、CH(CH3)-CH2-O-及びCH2CH(n-C3H7)-Oから選択される。AOの最も好ましい例は、CH2-CH2-O(「EO」)である。
R1は、水素又はメチルであり、
Y1は、酸素又はN-Hであり、
A1は、C2~C4アルキレン、例えば-CH2-CH2-、-(CH2)3-又は-(CH2)4-から選択される。CH2-CH2-及び-(CH2)3-が好ましい。
R2は、異なり又は好ましくは同じであり、ベンジル及びn-C1~C4アルキル、例えばメチル、エチル、n-プロピル、又はn-ブチルから選択され、好ましくはそれらが同じで、全てメチルである。
X-は、ハロゲンイオン、例えばヨウ素イオン、臭素イオン、特に塩素イオンから、またモノC1~C4アルキル硫酸イオン及び硫酸イオンから選択される。モノC1~C4アルキル硫酸イオンの例は、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、イソプロピル硫酸イオン及びn-ブチル硫酸イオン、好ましくはメチル硫酸イオン及びエチル硫酸イオンである。X-が硫酸イオンとして選択される場合、X-は、2分の1当量の硫酸イオンである。
R2は、同じ又は異なり、水素及び直鎖C1~C10アルキルから選択され、好ましくはそれぞれの場合に同じであり、エチル、特に好ましくは、水素又はメチルであり、
R3は、分枝又は直鎖C8~C22アルキル、例えば、n-C8H17、n-C10H21、n-C12H25、n-C14H29、n-C16H33、又はn-C18H37から選択され、
R4は、C1~C10アルキル、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、sec-ペンチル、ネオペンチル、1,2-ジメチルプロピル、イソアミル、n-ヘキシル、イソヘキシル、sec-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、n-ノニル、n-デシル又はイソデシルから選択され、
変数e及びfは、eとfの合計が少なくとも1であり、0から300の範囲にあり、好ましくは3から50の範囲にある。好ましくは、eが1から100までの範囲にあり、fが0から30までの範囲にある。
R2は、同じ又は異なり、水素及び直鎖C1~C4アルキルから選択され、好ましくはそれぞれの場合に同じであり、エチルであり、特に好ましくは水素又はメチルであり、
R5は、分枝又は直鎖C6~C20アルキル、特にn-C8H17、n-C10H21、n-C12H25、n-C13H27、n-C15H31、n-C14H29、n-C16H33、n-C18H37から選択され、
aは、0から10、好ましくは1から6までの範囲にある数であり、
bは、1から80、好ましくは4から20までの範囲にある数であり、
dは、0から50、好ましくは4から25までの範囲にある数である。
R2は、同じ又は異なり、水素及び直鎖C1~C10アルキルから選択され、好ましくはそれぞれの場合に同じであり、エチル、特に好ましくは水素又はメチルであり、
R3は、分枝又は直鎖C8~C22アルキル、例えばイソ-C11H23、イソ-C13H27、n-C8H17、n-C10H21、n-C12H25、n-C14H29、n-C16H33又はn-C18H37から選択され、
R5は、C6~C20アルキル、例えばn-ヘキシル、イソヘキシル、sec-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、n-ノニル、n-デシル、イソデシル、n-ドデシル、n-テトラデシル、n-ヘキサデシル、及びn-オクタデシルから選択される。
R6は、C1~C4アルキル、特にエチル、n-プロピル、又はイソプロピルであり、
R7は、-(CH2)2-R6であり、
G1は、4個から6個の炭素原子を有する単糖、特にグルコース及びキシロースから選択され、
yは、1.1から4の範囲にあり、yは平均値である。
EOは、エチレンオキシド、CH2CH2-Oであり、
R8は、分枝又は直鎖C8~C18アルキルから選択され、R5は、上記の通り定義されており、
A3Oは、プロピレンオキシド及びブチレンオキシドから選択され、
wは、15から70、好ましくは30から50の範囲にある数であり、
w1及びw3は、1から5の範囲にある数であり、
w2は、13から35の範囲にある数である。
R9R10R11N→O (IX)
式中、R9、R10、及びR11は、脂肪族、脂環式、又はC2~C4アルキレンC10~C20アルキルアミド部分からそれぞれ独立に選択される。好ましくは、R9は、C8~C20アルキル又はC2~C4アルキレンC10~C20アルキルアミドから選択され、R10及びR11は共にメチルである。
5リットルの撹拌フラスコに、1,170gの脱イオン水を充填し、40℃まで加熱した。668.5gのL-アラニン(99.2重量%、7.44molを表し、98%を超えるeeを有する)を添加した。得られたスラリーに、390.0gの50重量%水酸化ナトリウム水溶液(4.88mol)を30分間にわたり添加した。添加中に、温度が60℃まで上昇した。水酸化ナトリウムの添加完了後、スラリーを60℃で30分間撹拌した。透明溶液を得た。
供給原料1: 69.1g(0.51モル)のメタクリル酸2-ヒドロキシエチル(α-1)
供給原料2: 402g(0.91モル)の(3-メタクリルアミドプロピル)トリメチルアンモニウムクロリド(β.1-1)(「MAPTAC」)の50重量%水溶液
供給原料3: 112gの2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)の5重量%水溶液
噴霧造粒を、ラボ用造粒機(ジグザグ型空気分級機を付属したVario3インサートを備えるGlatt LabSystem)内で行った。
II.1.1 噴霧溶液SL.1の製造
容器に、14.63kgの(A.1)の40重量%水溶液及び507gのコポリマー(B2.1)の水溶液を充填した。そのようにして得られた溶液SL.1を撹拌し、50℃まで加熱し、次いで噴霧造粒を施した。
造粒機に、0.9kgの固体MGDA-Na3粒子(残留水分:12%)及び600gのMGDA-Na3の粉砕顆粒を充填した。顆粒は、ハンマミル(Kinetatica Polymix PX-MFL 90D)を4000rpm(1分当たりの回転速度)、2mmメッシュで使用して粉砕した。165から170℃の温度の空気を200Nm3/時間で底部から造粒機内に導入することにより、固体MGDA-Na3を流動化した。流動層内に底部から二流体ノズルを通して(パラメータ:霧化空気の絶対圧力:5bar)、6.2kg/時間のSL.1(溶液の温度:50℃)を噴霧することにより、SL.1を導入した。顆粒が形成され、流動層中の固形物の表面温度に対応する層温度は95から100℃であった。
II.2.1 比較噴霧溶液C-SL.2の製造
容器に、14.63kgのMGDA-Na3の40重量%水溶液及び507gのコポリマー(B2.1)の30重量%水溶液を充填した。そのようにして得られた溶液C-SL.2を撹拌し、50℃まで加熱し、次いで噴霧造粒を施した。
造粒機に、実施例II.1.2.の造粒の最後に造粒機に残存していた1.5kgの固体顆粒を充填した。165から170℃の温度の空気を200Nm3/時間で底部から造粒機内に導入することにより、固体MGDA-Na3を流動化した。流動層内に底部から二流体ノズルを通して(パラメータ:霧化空気の絶対圧力:5bar)、1時間あたり6.3kgのSL.2(溶液の温度:50℃)を噴霧することにより、上述の溶液SL.2を導入した。
造粒プロセスの開始後、実施例II.1.2のプロトコルに原則的に従ったが、溶液C-SL.2を使用した。比較顆粒Gr.2を得た。
好ましい自動皿洗い製剤の例は、表1に従って選択できる。
40%の有効成分MGDA及び2.5%の(B2.1)の有効成分ポリマーを含有する2種の100g溶液を作製した。
以下は、本発明の実施形態の一つである。
(1)顆粒又は粉末を製造する方法であって、
(a)
(A)一般式(Ia)
[CH 3 -CH(COO)-N(CH 2 -COO) 2 ]M 3-x H x (Ia)
[式中、Mは、同じ又は異なるアルカリ金属陽イオン及びアンモニウムから選択され、xは、0.01から1.0までの範囲にある]、
又は(Ib)
[OOC-CH 2 CH 2 -CH(COO)-N(CH 2 -COO) 2 ]M 4-x H x (Ib)
[式中、Mは、上に定義された通りであり、式(Ib)中のxは、0.01から2.0までの範囲にある]
で表される少なくとも1種のキレート化剤と、
(B)少なくとも1種のポリマーであって、
(B1)平均分子量M w が1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテート、並びに
(B2)コポリマー形態で
(α)エチレン性不飽和モノ又はジカルボン酸の少なくとも1種のエステル、及び
(β)少なくとも1種のエチレン性不飽和N含有モノマー
を含むコポリマー
から選択される少なくとも1種のポリマーと
の水溶液又は水性スラリーを用意するステップと、
(b)前記溶液又はスラリーを噴霧乾燥又は造粒するステップと
を含む方法。
(2)ステップ(a)で用意される前記水性スラリー又は水溶液が、30から65重量%までの範囲の濃度のキレート化剤(A)を有する、(1)に記載の方法。
(3)ステップ(b)が、流動層又は噴流層内で行われる、(1)又は(2)に記載の方法。
(4)ステップ(b)において、ガス注入温度が少なくとも120℃である、(1)から(3)のいずれかに記載の方法。
(5)ステップ(a)で用意される前記水性スラリー又は水溶液が、100:1から1:10の範囲のキレート化剤(A)とポリマー(B)との重量比を有する、(1)から(4)のいずれかに記載の方法。
(6)前記流動層中の粒子が、100から800μmまでの範囲の平均直径(D50)を有する、(1)から(5)のいずれかに記載の方法。
(7)ステップ(b)において噴霧造粒を施される水性スラリーが、シリカ、ケイ酸塩、及びポリマー(B)以外の有機(コ)ポリマーから選択される少なくとも1種の添加剤をさらに含有する、(1)から(6)のいずれかに記載の方法。
(8)ポリマー(B2)が、2,000から200,000g/モルまでの範囲の平均分子量M w を有する、(1)から(7)のいずれかに記載の方法。
(9)(A)一般式(Ia)
[CH 3 -CH(COO)-N(CH 2 -COO) 2 ]M 3-x H x (Ia)
[式中、Mは、同じ又は異なるアルカリ金属陽イオン及びアンモニウムから選択され、xは、0.01から1.0までの範囲にある]、
又は(Ib)
[OOC-CH 2 CH 2 -CH(COO)-N(CH 2 -COO) 2 ]M 4-x H x (Ib)
[式中、Mは、上に定義された通りであり、式(Ib)中のxは、0.01から2.0までの範囲にある]
で表される少なくとも1種のキレート化剤と、
(B)少なくとも1種のポリマーであって、
(B1)平均分子量M w が1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテート、並びに (B2)コポリマー形態で
(α)エチレン性不飽和モノ-又はジカルボン酸の少なくとも1種のエステル、及び
(β)少なくとも1種のエチレン性不飽和N含有モノマー
を含むコポリマー
から選択される少なくとも1種のポリマーと
を含有する、顆粒又は粉末。
(10)250から1,250μmまでの範囲の平均直径(D50)を有する、(9)に記載の顆粒。
(11)5から100μmまでの範囲の平均直径(D50)を有する、(9)に記載の粉末。
(12)ポリマー(B2)が、2,000から200,000g/モルまでの範囲の平均分子量M w を有する、(9)から(11)のいずれかに記載の粉末又は顆粒。
(13)硬質表面洗浄剤又は洗濯洗剤の製造のための、(9)から(10)若しくは(12)のいずれかに記載の顆粒、又は(9)若しくは(11)から(12)のいずれかに記載の粉末の使用。
(14)前記硬質表面洗浄剤が、自動皿洗い洗剤である、(13)に記載の使用。
Claims (7)
- キレート化剤(A)及びポリマー(B)を分子分散形態で含む顆粒又は粉末を製造する方法であって、
(a)(A)一般式(Ia)
[CH 3 -CH(COO)-N(CH 2 -COO) 2 ]M 3-x H x (Ia)
[式中、Mは、同じ又は異なるアルカリ金属陽イオン及びアンモニウムから選択され、xは、0.01から1.0までの範囲にある]、
で表されるキレート化剤と、
(B)平均分子量Mwが1,000から20,000g/モルの範囲にあるポリアスパルテートであるポリマーと
の水溶液又は水性スラリーを用意するステップと、
(b)前記水溶液又は水性スラリーを噴霧乾燥又は造粒するステップと
を含む方法。 - ステップ(a)で用意される前記水性スラリー又は水溶液が、30から65重量%までの範囲の濃度のキレート化剤(A)を有する、請求項1に記載の方法。
- ステップ(b)が、流動層又は噴流層内で行われる、請求項1又は2に記載の方法。
- ステップ(b)において、ガス注入温度が少なくとも120℃である、請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
- ステップ(a)で用意される前記水性スラリー又は水溶液が、100:1から1:10の範囲のキレート化剤(A)とポリマー(B)との重量比を有する、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記流動層中の粒子が、100から800μmまでの範囲の平均直径(D50)を有する、請求項3から5のいずれか1項に記載の方法。
- ステップ(b)において噴霧造粒を施される水性スラリーが、シリカ、ケイ酸塩、及びポリマー(B)以外の有機(コ)ポリマーから選択される少なくとも1種の添加剤をさらに含有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
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