JP7754100B2 - マレイミドポリエチレングリコール脂質の製造方法 - Google Patents
マレイミドポリエチレングリコール脂質の製造方法Info
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Description
その製法として、PEG誘導体とマレイミドの反応を記述した非特許文献1が挙げられるが、記載される製造方法では、トリフェニルホスフィンとジイソプロピルジアゾジカルボキシレート存在下、-78℃でPEG誘導体におけるPEG末端の水酸基に対しマレイミドを反応させると、マレイミドPEG誘導体の収率は31%であり、この低収率の原因については言及されていない。
すなわち、本発明は、下記[1]~[6]に関する。
[2]前記一般式(1)において、R1、R2、R3、およびR4がそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である上記[1]に記載の製造方法。
[3]前記一般式(1)及び(2)において、Aが式(7)で表す基であり、R5及びR6が、それぞれ独立して炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基から選択される上記[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]前記一般式(1)及び(2)において、nが2~6の整数である上記[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]前記一般式(1)及び(2)において、nが2である上記[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]前記一般式(1)及び(2)において、mが20~150の整数である上記[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
なお、上記した保護基を有するマレイミドポリエチレングリコール脂質のことを、「保護基を有するマレイミドPEG脂質」又は「化合物1」と記載する場合がある。また、上記したマレイミドポリエチレングリコール脂質のことを、「マレイミドPEG脂質」又は「化合物2」と記載する場合がある。
[式中、R1、R2、R3、およびR4はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、ハロゲン、シアノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アシロキシ基、アルキルカルボニルオキシメチル基から選択されるいずれかの基である。nはメチレン基の繰り返し単位数を表す2~10の整数である。mはポリエチレングリコールの繰り返し単位数を表す10~2000の整数である。Zは、エーテル基、メチレン基、ジメチルビニリデン基から選択されるいずれかの基を示す。Yは下記一般式(3)~(6)で表されるいずれかの基であり、
(式(5)中、MはNaまたはKを示し、lはメチレン基の繰り返し単位を表す1~5の整数である。)
Aは、下記一般式(7)又は(8)で表される基である。
(R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子、炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基から選択されるいずれかの基である。)]
本発明の製造方法において、原料として一般式(1)で表される保護基を有するマレイミドPEG脂質を使用する。
これらの中でも、R1、R2、R3、およびR4はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~5のアルキル基であることが好ましい。中でも、R1、R2、R3、およびR4が水素原子、または、R2、R3およびR4が水素原子かつR1がメチル基、または、R1、R2、およびR3が水素原子かつR4がメチル基、または、R2、R3が水素原子かつR1、R4がメチル基、であることが特に好ましい。
式(5)中、MはNaまたはKを示し、lはメチレン基の繰り返し単位を表す1~5の整数である。なお、上記式(3)~(6)で表されるそれぞれの基において、両端の「-」は結合手を表す。
製造の容易性の観点から、Yは、上記した中でも、式(3)で表される基(すなわち酸素原子)であることが好ましい。
R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子、炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基から選択されるいずれかの基であり、中でも、炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基であることが好ましく、炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基が特に好ましい。なお、式(7)の一番下に表示した炭素原子における「-」、及び式(8)における真ん中の炭素原子における「-」はそれぞれ結合手を表し、具体的には、式(1)におけるYと結合する結合手を表す。
式(9)において、R7は、飽和もしくは不飽和の炭素数7~23の炭化水素基であり、該炭化水素基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。R7は、飽和かつ直鎖状の炭素数10~22の炭化水素基であることが好ましく、飽和かつ直鎖状の炭素数16~18の炭化水素基が特に好ましい。
上記マレイミド保護体は、例えばマレイミドと、フラン又は置換基を有するフランなどの5員環化合物とのディールズアルダー反応により得られる。
上記PEG脂質は、例えば、1,2-イソプロピリデングリセロールなどを原料として製造され、その3位水酸基をポリエチレングリコールで修飾させた化合物を用いて、PEG末端の水酸基をベンジル基で保護しイソプロピリデンを脱保護後、該化合物の残りの二つの水酸基にアシル基又はアルキル基を修飾し、脱ベンジル化させるとよい。
本発明の下記一般式(2)で表されるマレイミドPEG脂質の製造方法は、上記した一般式(1)で表される保護基を有するマレイミドPEG脂質を、シリカゲル存在下、溶媒中で加熱することで、脱保護させる反応工程を含む、製造方法である。
式(2)におけるn、m、Y、及びAは、上記した一般式(1)のものと同義である。
シリカゲルの平均粒子径は特に限定されないが、好ましくは5~425μmであり、より好ましくは50~150μmである。
シリカゲルの平均細孔径は特に限定されないが、好ましくは2~15nmであり、より好ましくは6~13nmである。
シリカゲルの細孔容量は特に限定されないが、好ましくは0.5~1.5mL/gであり、より好ましくは0.6~1.2mL/gである。
シリカゲルの比表面積は特に限定されないが、好ましくは200~800m2/gであり、より好ましくは250~550m2/gである。
平均粒子径、平均細孔径、細孔容量、および比表面積は、上記数値範囲の下限値以上であると脱保護反応に有効であり、上記数値範囲の上限値以下であると、シリカゲルを濾別後、ろ物からの目的物の抽出量が高くなり、生産性が向上する。
なお、シリカゲルの平均粒子径はレーザー回折式粒度分布測定法により測定される値である。シリカゲルの平均細孔径、細孔容量、及び比表面積は、窒素ガス吸着法により測定される値である。また、比表面積に関してはBET式を用いて算出される値である。
1H-NMRの分析方法の分析では、日本電子データム(株)製JNM-ECP400およびJNM-ECA600を用いた。NMR測定値における積分値は理論値である。
m=45
マレイミド保護体(A)の合成
スクリュー管にマレイミド157.1mg(1.61mmol)、メチルt-ブチルエーテル1.5g、フラン876.7mg(12.88mmol)を加え、窒素雰囲気下、30℃で8時間攪拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾取、真空乾燥させ、下記に示すマレイミド保護体(A)(122.9mg, 0.74mmol)を得た。
イソプロピリデングリセロールPEGのベンジル保護および脱イソプロピリデン化工程
温度計、窒素吹込み管、撹拌機、および冷却管を付した2L丸底フラスコへ、イソプロピリデングリセロールPEG 100g(47.3mmol)、t-ブトキシカリウム10.6g(94.6mmol)、トルエン1000gを入れ、窒素を吹き込みながら室温で10分間攪拌した。その後、ベンジルクロライド12.0g(94.8mmol)を入れ、80℃で2時間攪拌した。室温に放冷しpH=1.4のリン酸水溶液1930gを加え、20分攪拌した。静置分層後、上層のトルエン層を廃棄し、水溶液がpH=1.5になるように85%リン酸15gを加えた後、室温で2時間攪拌した。400g/L NaOH水溶液を50g加えpH=6.8とし、塩化ナトリウムを300g加え溶解させた。その後、400g/L NaOH水溶液 33.9gを加えpH=7.1とした。そこへクロロホルム300gを加え、20分攪拌し静置分層後、下層のクロロホルム層を抜き取る抽出を行った。以後、同様の抽出を2回繰り返し、抽出1回目から3回目のクロロホルム層をロータリーエバポレーターにより40℃で濃縮した。その後、酢酸エチル400gを加え溶液とし、硫酸マグネシウム30gを加え脱水を行った。硫酸マグネシウムを加圧濾過により濾別し酢酸エチル200gで洗浄後、得られた濾液を5℃以下に冷却した。そこへ、ヘキサン400gを加え再沈殿を行い、析出した結晶を加圧濾過により濾取、真空乾燥させ、下記に示すグリセロールベンジル保護PEG(C)(94g、43.48 mmol)を得た。
m=45
グリセロールベンジル保護PEGのジアシル化工程
温度計、窒素吹込み管、撹拌機、および冷却管を付した1L丸底フラスコへ、グリセロールベンジル保護PEG(C) 50g(23.1 mmol)、ステアリン酸26.3g(92.5 mmol)、トルエン200gを入れ、窒素を吹き込みながら40℃で攪拌し、溶液とした。そこへN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド 19.1g(92.5 mmol)と4-ジメチルアミノピリジン1.13g(9.25mmol)を加え、60℃で3時間攪拌した。析出物を吸引濾過により濾別し、濾液をロータリーエバポレーターにより50℃で濃縮した。アセトニトリル150gとヘキサン300gを加え溶液とし、上層のヘキサン層を廃棄した。その後、ヘキサンを200g加え50℃で30分攪拌し、上層のヘキサン層を廃棄するヘキサン洗浄を行った。以後同様のヘキサン洗浄を3回繰り返した後、アセトニトリル層へアセトニトリル150gを加え、キョーワード 700(協和化学工業社製)10gとキョーワード 1000(協和化学工業社製)10gを添加し、室温で30分攪拌した。その後、キョーワード 700とキョーワード 1000を吸引濾過で濾別し、50℃で濃縮後、真空乾燥させ、下記に示すベンジル保護PEG脂質(D)(55.4g、20.56mmol)を得た。
m=45
ベンジル保護PEG脂質の脱ベンジル化工程
温度計、窒素吹込み管、撹拌機、および冷却管を付した1L丸底フラスコへ、ベンジル保護PEG脂質(D) 53g(19.7mmol)、5%Pd/C 26.5g、メタノール422.1g、シクロヘキセン71.9gを入れ、窒素を吹き込みながら55℃で2時間攪拌した。30℃まで放冷し、濾過助剤としてキョーワード 300(協和化学工業社製)を用い5%Pd/Cを加圧濾過により濾別し、クロロホルム318gで4回洗浄を行った。濾液にジブチルヒドロキシトルエン0.053gを加えロータリーエバポレーターにより55℃で濃縮後、酢酸エチル424gで溶液とした。硫酸マグネシウム26.5gを加え脱水し、吸引濾過を行い、酢酸エチル106gで洗浄した。得られた濾液を5℃以下に冷却し、メチルtert-ブチルエーテル 954gを加え再沈殿を行った。析出した結晶を濾取、真空乾燥させ、下記に示すPEG脂質(E)(42.2g、16.20mmol)を得た。
m=45
温度計、窒素吹込み管、撹拌機、および冷却管を付した500mL丸底フラスコへ、PEG脂質(E) 18.0g(6.86mmol)、脱水トルエン45g、クロロホルム180g、マレイミド保護体(A) 1.36g(8.23mmol)、トリフェニルホスフィン9.00g(34.3mmol)を入れ、窒素を吹き込みながら室温で攪拌し、溶液とした。溶液を10℃に冷却後、ジイソプロピルジアゾジカルボキシレート(34.3mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。メタノールを1.0g(34.3mmol)加え、50℃で濃縮した。濃縮物をシリカゲル(PSQ100B)を用いたカラムクロマトグラフィーにより精製した。ヘキサン/酢酸エチル=20/80で不純物を溶出させ、クロロホルム/メタノール=95/5で目的物を溶出させた。目的物を含むフラクションを濃縮後、真空乾燥させ、下記に示す保護基を有するマレイミドPEG脂質(B)(18.0g、6.49mmol)を得た。
m=45
m=45
マレイミド保護体(G)の合成
スクリュー管にマレイミド157.1mg(1.61mmol)、メチルt-ブチルエーテル1.5g、2-メチルフラン877.7mg(12.89mmol)を加え、窒素雰囲気下、30℃で8時間攪拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾取、真空乾燥させ、下記に示すマレイミド保護体(G)(483.1mg,0.48mmol)を得た。
m=45
PEG脂質へのマレイミド保護体(G)の導入工程
9mLのスクリュー管に、PEG脂質(E) 100.0mg(0.0381mmol)、脱水トルエン0.25g、クロロホルム1.0g、マレイミド保護体(G) 11.2mg(0.0580mmol)、トリフェニルホスフィン50.6mg(0.193mmol)を入れ、窒素を吹き込みながら室温で攪拌し、溶液とした。溶液を10℃に冷却後、ジイソプロピルジアゾジカルボキシレーと41.3mg(0.204mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。メタノールを1.0g(34.3mmol)加え、50℃で濃縮した。濃縮物をシリカゲル(PSQ100B)を用いたカラムクロマトグラフィーにより精製した。ヘキサン/酢酸エチル=20/80で不純物を溶出させ、クロロホルム/メタノール=95/5で目的物を溶出した。目的物を含むフラクションを濃縮後、真空乾燥させ、下記に示す保護基を有するマレイミドPEG脂質(F) (96.3mg,0.0346mmol)を得た。
m=45
m=45
マレイミド保護体(I)の合成
スクリュー管にマレイミド386.9mg(3.99mmol)、メチルt-ブチルエーテル3.7g、2,5-ジメチルフラン3.09mg(32.14mmol)を加え、窒素雰囲気下、50℃で8時間攪拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾取、真空乾燥させ、下記に示すマレイミド保護体(I)(522.3mg,2.70mmol)を得た。
PEG脂質(E)へのマレイミド保護体(I)の導入工程
9mLのスクリュー管に、PEG脂質(E) 151mg(0.0575mmol)、脱水トルエン0.37g、クロロホルム1.5g、マレイミド保護体(I) 12.2mg(0.0680mmol)、トリフェニルホスフィン74.6mg(0.284mmol) を入れ、窒素を吹き込みながら室温で攪拌し、溶液とした。溶液を10℃に冷却後、ジイソプロピルジアゾジカルボキシレート61.0mg(0.302mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。メタノールを27.5mg(0.859mmol)加え、50℃で濃縮した。濃縮物をシリカゲル(PSQ100B)を用いたカラムクロマトグラフィーにより精製した。ヘキサン/酢酸エチル=20/80で不純物を溶出させ、クロロホルム/メタノール=95/5で目的物を溶出した。目的物を含むフラクションを濃縮後、真空乾燥させ、下記に示す保護基を有するマレイミドPEG脂質(H) (143.5mg, 0.0515 mmol)を得た。
m=45
マレイミドPEG脂質の製造方法
100mLの枝付き試験管に保護基を有するマレイミドPEG脂質(B)150mg(0.0554mmol)、トルエン1.5g、シリカゲル(富士シリシア製:PSQ100B) 150mgを加え、窒素雰囲気下、110℃で5時間攪拌した。反応液をデカントした後、目的物をシリカゲルからメタノール3gで2回抽出した。反応液と抽出液を50mLナスフラスコに移し、濃縮乾固させた。その後、6時間真空乾燥させマレイミドPEG脂質(J)を得た(収量:135.3mg、0.0512mmol、収率92%、マレイミド化率98%)。なお、本実施例で用いたシリカゲル(富士シリシア製:PSQ100B)は、平均粒子径100μm、平均細孔径7nm、細孔容量0.8mL/g、比表面積500m2/gである。
m=45
実施例1で得られたマレイミドPEG脂質(J)の1H-NMRによれば、6.51ppmおよび6.42ppmに保護基を有するマレイミドPEG脂質(B)に由来するピークが存在しないことから、脱保護が完結していることが分かった。また、マレイミド基のビニルプロトンに由来する6.71ppmのピークの積分値が1.96であったことから、式(2)で表される目的のマレイミドPEG脂質(J)がマレイミド化率98%で得られていることが確認された。
マレイミドPEG脂質の製造方法
100mLの枝付き試験管に保護基を有するマレイミドPEG脂質(F) 100mg(0.0359mmol)、トルエン1.0g、シリカゲル(富士シリシア性:PSQ100B) 100mgを加え、窒素雰囲気下、110℃で5時間攪拌した。反応液をデカントした後、目的物をシリカゲルからメタノール2gで2回抽出した。反応液と抽出液を50mLなすフラスコに移し、濃縮乾固させた。その後、6時間真空乾燥させマレイミドPEG脂質(J)を得た(収量:91.0mg、0.0327mmol、収率91%、マレイミド化率98%) なお、本実施例で用いたシリカゲル(富士シリシア製:PSQ100B)は、平均粒子径100μm、平均細孔径7nm、細孔容量0.8mL/g、比表面積500m2/gである。
マレイミドPEG脂質の製造方法
100mLの枝付き試験管に保護基を有するマレイミドPEG脂質(H) 100mg(0.0357mmol)、トルエン1.0g、シリカゲル(富士シリシア製:PSQ100B) 100mgを加え、窒素雰囲気下、110℃で5時間攪拌した。反応液をデカントした後、目的物をシリカゲルからメタノール2gで2回抽出した。反応液と抽出液を50mLナスフラスコに移し、濃縮乾固させた。その後、6時間真空乾燥させマレイミドPEG脂質(J)を得た(収量:88.7mg、0.0336mmol、収率94%、マレイミド化率99%)。なお、本実施例で用いたシリカゲル(富士シリシア製:PSQ100B)は、平均粒子径100μm、平均細孔径7nm、細孔容量0.8mL/g、比表面積500m2/gである。
マレイミドPEG脂質の製造方法
300mL三口丸底フラスコに保護基を有するマレイミドPEG脂質(B)12g(4.4 mmol)、トルエン120gを加え、窒素雰囲気下、110℃で5時間攪拌した。反応液を300mLナスフラスコに移し、濃縮乾固させた。その後、6時間真空乾燥させマレイミドPEG脂質(J)を得た(収量:11.73g、4.4mmol、収率100%、マレイミド化率89%)
マレイミドPEG脂質の製造方法
100mLの枝付き試験管に、保護基を有するマレイミドPEG脂質(B)150mg(0.0554mmol)、トルエン1.5g、キョーワード2000(酸化アルミニウム・酸化マグネシウム固溶体、協和化学工業製)150mgを加え、窒素雰囲気下、110℃で5時間攪拌した。反応液をデカントした後、目的物をメタノール3gで2回抽出した。反応液と抽出液を50mLナスフラスコに移し、濃縮乾固させた。その後、6時間真空乾燥させマレイミドPEG脂質(J)を得た(収量:89.1mg、0.0337mmol、収率61%、マレイミド化率65%)。
Claims (6)
- 下記一般式(1)で表される保護基を有するマレイミドポリエチレングリコール脂質を、シリカゲル存在下、溶媒中で加熱することで、脱保護させる反応工程を含む、下記一般式(2)で表されるマレイミドポリエチレングリコール脂質の製造方法。
[式中、R1、R2、R3、およびR4はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、ハロゲン、シアノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アシロキシ基、アルキルカルボニルオキシメチル基から選択される基である。nはメチレン基の繰り返し単位数を表す2~10の整数である。mはポリエチレングリコールの繰り返し単位数を表す10~2000の整数である。Zは、エーテル基を示す。Yは下記式(3)で表される基であり、
Aは、下記一般式(7)又は(8)で表される基である。
(R5及びR6は、それぞれ独立して水素原子、炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基から選択される基である。)] - 前記一般式(1)において、R1、R2、R3、およびR4がそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である請求項1に記載の製造方法。
- 前記一般式(1)及び(2)において、Aが式(7)で表す基であり、R5及びR6が、それぞれ独立して炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアシル基、又は炭素数8~24の飽和もしくは不飽和のアルキル基から選択される請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記一般式(1)及び(2)において、nが2~6の整数である請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記一般式(1)及び(2)において、nが2である請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記一般式(1)及び(2)において、mが20~150の整数である、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。
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