JP7642000B2 - 培養装置 - Google Patents
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Description
培養液(L)中で微細藻類を培養する培養装置(100)は、前記培養液及び前記微細藻類を収容可能な収容部(42)と、前記収容部の内部に設けられ、前記収容部の深さ方向(Z)に沿って延在するガイド部(50)と、前記ガイド部における前記深さ方向の下部でガスを供給するガス供給部(84)と、を備える。前記ガス供給部は、前記ガイド部の前記深さ方向における上部から前記下部まで前記ガイド部に沿って延在する延在管部(84p)を有する。前記培養液中に供給された前記ガスによって前記培養液の対流(A、B)が生じる。前記対流のうち前記収容部における前記深さ方向の前記下部から前記収容部における前記深さ方向の前記上部に向かう上昇流が通過する部分を、上昇流領域(UA)とする。前記ガス供給部の前記延在管部は、前記ガイド部に沿って前記上昇流領域に配置される。
付記1に記載の培養装置において、前記ガイド部は、前記深さ方向に沿って延びるガイド本体(52)を有し、前記ガイド本体は、互いに向かい合う第1壁部(62)及び第2壁部(64)と、前記第1壁部と前記第2壁部との間に介在し且つ前記第1壁部及び前記第2壁部に連なる第3壁部(66)とを有してもよい。前記第1壁部、前記第2壁部及び前記第3壁部により、前記深さ方向に対して直交する方向に沿って該ガイド本体を切断したときの断面がU字形状をなし、前記ガイド本体の中空内部(53)は、前記上昇流領域の一部であってもよい。
付記2に記載の培養装置において、前記ガイド部は、前記ガス供給部の前記延在管部を前記ガイド本体に位置決め固定する1以上の支持部(60)を有し、前記1以上の支持部は、前記第1壁部の内面、前記第2壁部の内面、又は前記第3壁部の内面に設けられてもよい。
付記3に記載の培養装置において、前記1以上の支持部は、前記第1壁部の内面、前記第2壁部の内面、又は前記第3壁部の内面から前記ガイド本体の中空内部に向かって突出した突出部(67a~67c)と、前記突出部に形成されて前記ガイド本体の前記深さ方向に沿って延びる貫通孔(68a~68c)とを有し、前記貫通孔は前記ガス供給部の前記延在管部を支持してもよい。
付記3又は付記4に記載の培養装置において、前記1以上の支持部は、前記ガイド本体の延在方向に沿って並べられた複数個の支持部(60a~60c)を有し、前記複数個の支持部のうち前記深さ方向の最下方に位置する支持部を最下支持部(60a)とするとき、前記最下支持部に形成された貫通孔(68a)の開口面積は、前記最下支持部以外の支持部(60b、60c)に形成された貫通孔(68b、68c)の開口面積よりも小さくてもよい。
付記1~付記5のいずれかに記載の培養装置において、前記ガス供給部の前記延在管部は、前記収容部に向けてガスを吐出するガス吐出口(88)を有し、前記ガス吐出口は、前記収容部の底部(42B)に向かって開口してもよい。
付記1~付記6のいずれかに記載の培養装置において、前記ガイド部は、前記ガス供給部の前記延在管部から供給された前記ガスを水平方向に向かわせる偏向部(54)を有し、前記偏向部は、前記ガイド部における前記深さ方向の前記上部に配置され、且つ前記偏向部は、前記ガス供給部が挿通される挿通孔(72)を有してもよい。
40…貯水部 42…収容部
42B…底部 50、50a~50d…ガイド部
52…ガイド本体 53…中空内部
54…偏向部 56…被保持部
60、60a~60c…支持部 62…第1壁部
64…第2壁部 66…第3壁部
67a~…67c突出部 68a~68c…貫通孔
70…取込口 72…挿通孔
80…ガス供給装置 84…ガス供給部
84p…延在管部 86…ガス供給源
88…ガス吐出口 90…気泡
100、110…培養装置 L…培養液
W…貯留水 UA…上昇流領域
Claims (7)
- 培養液中で微細藻類を培養する培養装置であって、
前記培養液及び前記微細藻類を収容可能な収容部と、
前記収容部の内部に設けられ、前記収容部の深さ方向に沿って延在するガイド部と、
前記ガイド部における前記深さ方向の下部でガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記ガス供給部は、前記ガイド部の前記深さ方向における上部から前記下部まで前記ガイド部に沿って延在する延在管部を有し、
前記ガイド部は、前記深さ方向に沿って延びるガイド本体と、前記ガイド部における前記深さ方向の前記上部に配置された偏向部と、を有し、
前記ガイド本体は、少なくとも、互いに折れ曲がるようにして連なる2つの壁部を有し、
前記偏向部は、少なくとも2つの前記壁部のうち少なくとも1つから水平方向に突出し、
前記ガイド本体における前記深さ方向の下部から前記培養液中に供給された前記ガスによって前記培養液の対流が生じ、
前記対流のうち前記収容部における前記深さ方向の前記下部から前記収容部における前記深さ方向の前記上部に向かう上昇流が通過する部分を上昇流領域とするとき、前記ガイド本体の中空内部は前記上昇流領域の一部であり、前記ガス供給部の前記延在管部は、前記ガイド本体に沿って前記上昇流領域に配置される、培養装置。 - 請求項1記載の培養装置において、前記ガイド本体は、互いに向かい合う第1壁部及び第2壁部と、前記第1壁部と前記第2壁部との間に介在し且つ前記第1壁部及び前記第2壁部に連なる第3壁部とを有し、前記第1壁部、前記第2壁部及び前記第3壁部により、前記深さ方向に対して直交する方向に沿って該ガイド本体を切断したときの断面がU字形状をなす、培養装置。
- 請求項2記載の培養装置において、前記ガイド部は、前記ガス供給部の前記延在管部を前記ガイド本体に位置決め固定する1以上の支持部を有し、
前記1以上の支持部は、前記第1壁部の内面、前記第2壁部の内面、又は前記第3壁部の内面に設けられる、培養装置。 - 請求項3記載の培養装置において、前記1以上の支持部は、前記第1壁部の内面、前記第2壁部の内面、又は前記第3壁部の内面から前記ガイド本体の中空内部に向かって突出した突出部と、前記突出部に形成されて前記ガイド本体の前記深さ方向に沿って延びる貫通孔とを有し、前記貫通孔は前記ガス供給部の前記延在管部を支持する、培養装置。
- 請求項4記載の培養装置において、前記1以上の支持部は、前記ガイド本体の延在方向に沿って並べられた複数個の支持部を有し、前記複数個の支持部のうち前記深さ方向の最下方に位置する支持部を最下支持部とするとき、前記最下支持部に形成された貫通孔の開口面積は、前記最下支持部以外の支持部に形成された貫通孔の開口面積よりも小さい、培養装置。
- 請求項1記載の培養装置において、前記ガス供給部の前記延在管部は、前記収容部に向けてガスを吐出するガス吐出口を有し、前記ガス吐出口は、前記収容部の底部に向かって開口する、培養装置。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載の培養装置において、前記偏向部は、前記ガス供給部が挿通される挿通孔を有する、培養装置。
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