JP7635385B2

JP7635385B2 - 広帯域光の連続生成のためのレーザおよびドラム制御

Info

Publication number: JP7635385B2
Application number: JP2023536090A
Authority: JP
Inventors: ジアンシュウ; ローレンウィルソン
Original assignee: KLA Corp
Current assignee: KLA Corp
Priority date: 2020-12-30
Filing date: 2021-12-08
Publication date: 2025-02-25
Anticipated expiration: 2041-12-08
Also published as: TW202242555A; WO2022146633A1; US20220210901A1; EP4252491A4; IL303706A; TWI873385B; JP2024502549A; KR20230125215A; US11617256B2; EP4252491A1; KR102840351B1

Description

本開示は、概して広帯域照明の生成に関し、より詳細には、パルスレーザとターゲット材料で覆われた回転ドラムとを介した広帯域照明の生成に関する。

ますます小さいフィーチャを有するリソグラフィベースのデバイス構造に対する需要が増加し続けるにつれて、これらのますます縮小するデバイスをリソグラフィで印刷する関連するレチクルの検査に使用される改良された照明源の必要性が増大し続けている。そのような照明源の１つは、極端紫外（ＥＵＶ）光源を含む。ＥＵＶ光を生成する１つの方法は、キセノンなどの固体（凍結）プラズマ形成ターゲット材料の均一に厚い層でコーティングされたシリンダを回転させ、キセノンを励起してプラズマを生成するのに適したパルスレーザでシリンダのキセノンコーティング部分を露光することを含む。さらに、次の照射パルスの前に、円筒を回転および／または平行移動させて、固体キセノンの新鮮な領域を露出させなければならない。シリンダが回転すると、ガス状キセノンがシリンダの表面の冷たい非照明部分に噴霧され、レーザによって消費されるキセノン氷の部分を経時的に充填するために、以前に照明されたスポットにおいて凍結キセノン層を改質してもよい。特定のスポットまたはゾーンは、充分な時間が経過するまで再び露光されず、固体キセノン表面がその元の状態に戻ることを可能にする。隣接するスポットは、シリンダ表面への損傷を防止するために、ある最小距離だけ分離されなければならない。

関連する集光光学系は既知の位置に位置合わせされなければならず、移動するプラズマ源に従うことができないので、プラズマ生成は固定位置で行われる。プラズマ位置を固定する必要性により、移動する照明器レーザスポットの使用が妨げられる。これは、ＥＵＶ光源を含む用途において課題を生み出す。最大の動作時間及び検査の均一性を可能にするために、検査ツールは、中断されず、むしろ長期間（例えば、数ヶ月）にわたって選択されたパルス周波数で動作するパルスＥＵＶ光源を有するべきである。

回転シリンダ上で固体キセノンを使用するＥＵＶ光の生成は、一般に２つの方法で達成されてきた。第１に、一定速度で回転するシリンダは、一端から他端まで軸方向にゆっくりと移動し、シリンダに沿ってスポットの螺旋を形成する。螺旋がキセノン氷の使用可能な長さの頂部と交差するとき、照射レーザは、シリンダの垂直移動が停止するまで遮断またはオフにされ、移動方向は逆転される。同じ場所の後続の照射レーザ曝露の間の総時間長は、キセノン氷が再形成されることを可能にするのに充分でなければならない。第１の方法は、非連続的な照明出力を提供するので望ましくない。第２の方法では、シリンダは、中断されないパターンでレーザ源によって露光され、シリンダ表面上の標的領域の再調整を可能にする。この方法では、プラズマターゲットは、第１の螺旋パターン（上方経路）および戻りの第２の螺旋パターン（下方経路）で形成され得る。第２の螺旋パターンは、第１の螺旋パターンと交互配置されてよく、これはＥＵＶ照明の連続的な生成を可能にする。そのようなアプローチは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第８，９６３，１１０号に記載されている。第２の方法は、上向き経路および下向き戻り経路の間のレーザクレータ重複の潜在性に悩まされる。加えて、ターンアラウンド領域（すなわち、アップパスからダウンパスへの遷移）の間、第２の方法は、最初にシリンダの加速を必要とし、次いで、レーザコラムをシフトするためにシリンダの減速を必要とし、これは、運動制御を比較的複雑にし、また、機械的および信頼性の課題をもたらす。第２の方法は、シリンダの回転および回転ドラムの垂直作動の能動的制御を必要とする。

米国特許出願公開第２０１７／０１４２８１７号

したがって、上記で特定された以前の解決策の欠点を解決する方法およびシステムを提供することが望ましい。

本開示の１つ以上の実施形態による広帯域光源が開示される。実施形態では、広帯域光源は、プラズマ形成ターゲット材料で少なくとも部分的にコーティングされた回転ドラムを含む。実施形態では、広帯域光源は、回転ドラムを回転させるように構成された回転アクチュエータを含む。実施形態では、広帯域光源は、回転ドラムを軸方向に並進させるように構成されたリニアアクチュエータを含む。実施形態では、広帯域光源は、回転ドラムに接続されたロータリエンコーダを含み、ロータリエンコーダは、回転ドラムの回転位置を示す。実施形態では、広帯域光源は、回転ドラムに接続されたリニアエンコーダを含み、リニアエンコーダは、回転ドラムの軸方向位置を示す。実施形態では、広帯域光源は、回転アクチュエータが回転ドラムを回転させ、リニアアクチュエータが回転ドラムを軸方向に並進させるとき、プラズマ形成ターゲット材料を励起し、広帯域光を放出するために、回転ドラムの材料コーティング部分上のスポットの組（セット）にパルス照明を向けるように構成されたレーザ源を含む。実施形態では、広帯域光源は、制御システムを含み、制御システムは、ロータリエンコーダから１つ以上の回転位置インジケータを受け取り、ロータリエンコーダからの１つ以上の回転位置インジケータに基づいてレーザ源のトリガを制御するように構成される。実施形態では、広帯域光源は、ウェハまたはマスク／レチクル検査システム内に組み込まれる。

本開示の１つ以上の実施形態による広帯域光を生成する方法が開示される。実施形態では、方法は、プラズマ形成ターゲット材料でコーティングされた回転ドラムを回転させることを含む。実施形態では、方法は、回転可能ドラムを軸方向に作動させることを含む。実施形態では、方法は、回転ドラムに接続されたロータリエンコーダから回転位置情報を取得することを含む。実施形態では、本方法は、回転ドラムのダウンストロークのための第１の組の目標位置と、第１の組の目標位置からオフセットされた回転ドラムのアップストロークのための第２の組の目標位置とを形成するために、ロータリエンコーダから取得された回転位置情報に基づいてパルスレーザ源をトリガするステップを含む。実施形態では、方法は、回転ドラムの以前に標的とされたスポットをプラズマ形成ターゲット材料で再コーティングすることを含む。

前述の概要および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、必ずしも本開示を限定するものではないことを理解されたい。本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する添付の図面は、本開示の主題を示す。説明及び図面は共に、本開示の原理を説明する役割を果たす。

本開示の多数の利点は、添付の図面を参照することによって当業者によってよりよく理解され得る。

本開示の１つ以上の実施形態による、連続的またはほぼ連続的なプラズマベースの照明出力を生成するための広帯域光源の簡略化された概念図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、連続的またはほぼ連続的なプラズマベースの照明出力を生成するための広帯域光源の簡略化された概念図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、広帯域ソースの１つ以上の特性を制御するための制御システムのブロック図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面上にターゲットスポットのインターレースされたセットを生成することが可能な単一のトリガシーケンスを有するエンコーダを示す図である。本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面上にターゲットスポットのインターレースされた組を生成することが可能な２つのトリガシーケンスを有するエンコーダを示す図である。本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面上にターゲットスポットおよび遷移スポットのインターレースされた組を生成することができる３つのトリガシーケンスを有するエンコーダを示す図である。本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図を示す。本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、広帯域光源の回転ドラムの表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図を示す。本開示の一実施形態による広帯域光源を組み込んだ検査システムのブロック図を示す。本開示の１つ以上の実施形態による、連続的またはほぼ連続的な広帯域光を生成するための方法を示す流れ図を示す。

ここで、添付の図面に示される開示された主題を詳細に参照する。

図１Ａ～図１２は、概して、本開示の１つ以上の実施形態による、連続的またはほぼ連続的なプラズマベースの照明出力を生成するためのシステムおよび方法の実施形態を示す。

本開示の実施形態は、プラズマ形成材料（例えば、凍結キセノンまたは二酸化炭素）で覆われた回転ドラム（例えば、シリンダ）の露光を対象とし、これは、照明源（例えば、パルスレーザ）を介して励起され、一組の中断されない標的場所から広帯域光（例えば、広帯域ＥＵＶ光又は軟Ｘ線光）を放出し得る。本開示の実施形態は、レーザトリガ基準としての役割を果たすロータリエンコーダの実装を対象とする。レーザトリガ基準としてのロータリエンコーダの利用は、ドラムを横断するレーザの上向きおよび下向き経路中に引き起こされるレーザクレータの重複を排除するか、または少なくとも低減する。ターゲット材料は、ドラムが回転および平行移動して新しいターゲット表面を提供し、スパイラル（螺旋）パターンを作り出すときに、レーザで打たれた後に回復するのにある程度の時間を必要とする。最近影響を受けた場所（すなわち、クレータ）の１つにレーザが衝突することなくドラムが方向を逆転しなければならないので、移動経路の上部および底部は最大の課題を提示する。本開示の実施形態は、ｉ）折り返し（ターンアラウンド）位置においてレーザ周波数をわずかに調整することによってこの問題を解決する；あるいは、ｉｉ）シリンダの回転速度を調整して同様の効果を達成する。本開示の実施形態は、折り返し（ターンアラウンド）領域中に１回転の時間に１列だけクレータ間隔をシフトすることを対象とする。ｉ）レーザトリガ基準としてのロータリエンコーダの使用の組み合わせ；ｉｉ）クレータ間隔のシフトは、信頼性を改善しながら、一定の照射レーザパルス周波数、より容易なシリンダ制御、およびより少ない機械的設計課題を可能にする。いずれの実装においても、エンコーダは、同じ目標位置が短すぎる時間枠内で２回影響を受けないことを確実にするために利用される。追加の実施形態では、エンコーダ情報を使用して、レーザパルスを検査ツールのセンサ／カメラと同期させることもできる。

本開示の追加の実施形態は、本明細書に記載のプラズマベースの回転ドラム源を組み込んだレチクル検査システム、ウェハ検査システム、またはリソグラフィシステム（または他の光学システム）を提供する。

図１Ａおよび図１Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、連続的またはほぼ連続的なプラズマベースの照明出力を生成するための広帯域光源１００の簡略化された概念図を示す。

実施形態では、広帯域源１００は、軸の周りの回転に適した回転ドラム１０２を含む。例えば、ドラム１０２は、図１Ａに示すようにシリンダであってもよい。他の実施形態では、ドラム１０２は、当技術分野で知られている任意の円筒対称形状を含む。例えば、ドラム１０２は、円筒、円錐、球、楕円体などを含むことができるが、これらに限定されない。また、ドラム１０２は、２つ以上の形状からなる複合形状を有していてもよい。本明細書では、説明の便宜上、広帯域源１００および関連する実施形態は、図１Ａに示すように、回転可能または回転するドラム１０２の文脈で説明されるが、この実施形態は、本開示の範囲に対する限定として解釈されるべきではないことに留意されたい。

実施形態では、ドラム１０２は、プラズマ形成ターゲット材料１０３で少なくとも部分的にコーティングされる。ターゲット材料１０３は、ドラム１０２の表面に配置された固体材料を含むことができる。プラズマ形成ターゲット材料１０３は、照明源によって励起されるとプラズマを生成し、その後広帯域光を放出する、当技術分野で知られている任意の材料を含むことができる。プラズマによって放出される広帯域光は、広帯域軟Ｘ線光、広帯域ＥＵＶ光、広帯域ＤＵＶ光、広帯域ＶＵＶ光、広帯域ＵＶ光、広帯域可視光、及び／又は広帯域ＩＲ光を含んでもよいが、これらに限定されない。例えば、ターゲット材料１０３は、ドラム１０２の表面上に凍結されたキセノンを含んでもよいが、これに限定されない。ターゲット材料１０３としての凍結キセノンの利用は、広帯域ＥＵＶ光を生成する状況において特に有用であり得ることに留意されたい。別の例として、ターゲット材料１０３は、ドラム１０２の表面上に凍結された二酸化炭素を含んでもよいが、これに限定されない。ターゲット材料１０３としての凍結二酸化炭素の利用は、広帯域軟Ｘ線光を生成する状況において特に有用であり得ることに留意されたい。

実施形態では、広帯域光源１００は、パルス照明源１０４を含む。パルス照明源１０４は、当技術分野で知られている任意のパルス照明源または変調照明源を含むことができる。例えば、パルス源１０４は、パルスレーザを含んでもよいが、これに限定されない。さらに、パルス照明源は、材料１０３内でプラズマを開始および／または維持するのに適している。例えば、パルス照明源１０４は、限定はしないが、１つ以上の赤外線（ＩＲ）レーザを含むことができる。例えば、パルス照明源１０４は、１つ以上のＣＯ_２レーザを含んでもよいが、それらに限定されない。

実施形態では、広帯域源１００は、ドラム１０２を回転および軸方向に作動させるように構成された１つ以上のアクチュエータを含む。実施形態では、広帯域源１００は、ドラム１０２を軸を中心に回転させるように構成された回転アクチュエータ１０７を含む。回転アクチュエータ１０７は、限定はしないが、１つ以上のサーボモータを含む、当技術分野で知られている任意の回転アクチュエータを含むことができる。さらに、広帯域源１００は、軸方向１１１（例えば、図１Ａに示される例における垂直方向である）に沿ってドラム１０２を平行移動させるように構成されたリニアアクチュエータを含むことができる。本明細書では、本開示は、図１Ａの回転アクチュエータ１０７およびリニアアクチュエータ１１１に限定されないことが認識される。したがって、上記で提供された説明は、単に例示として解釈されるべきである。例えば、パルス源１０４は、ドラム１０２に対するビーム１０５の平行移動を提供する作動ステージ（図示せず）上に配置されてもよい。

リニアアクチュエータ１１１によって与えられる軸方向運動および回転アクチュエータ１０７によって引き起こされるドラム１０２の回転運動は、ドラム１０２の表面を横切るスポットの組におけるパルス照明１０５の追跡を可能にする。スポットの組は、第１のスパイラルパターンで配列される第１のスポットの組と、第２のスパイラルパターンで配列される第２のスポットの組とを含んでもよい。第１の組のスポットおよび第２の組のスポットは、第２の組のスポットからのスポットが第１の組のスポットからのスポットと重ならないように交互配置される。これに関して、第１の組のスポットは、ドラム１０２の回転および軸方向加速中に第１のスパイラルパターンを形成し得るが、第２の組のスポットは、第１のパターンと重なり合うのを回避する戻りの第２のスパイラルパターンを形成する。そのようなパターンの例は、本明細書でさらに詳細に論じられる。

実施形態では、広帯域源１００は、１つ以上のエンコーダを含む。例えば、図１Ｂに示すように、システムはロータリエンコーダ１１６を含むことができる。ロータリエンコーダ１１６は、回転アクチュエータ１０７（例えば、サーボモータ）に機械的に取り付けられてもよい。この意味で、ロータリエンコーダ１１６は、回転アクチュエータ１０７と統合されてもよく、回転ドラム１０２の回転位置を示すように構成されてもよく、回転ドラムは、シャフトを介して回転アクチュエータ１０７に連結される。実施形態では、ロータリエンコーダ１１６からの位置インジケータ情報は、制御システム１１４を介してロータリエンコーダ１１６から電子的に読み出され得る（例えば、ロータリエンコーダ１１６からの電線を介して）。次いで、この位置インジケータ情報は、パルスレーザ源１０４および／または回転ドラム１０２の運動を制御または調整するために制御システム１１４によって利用され得る。例えば、ロータリエンコーダ１１６からの位置インジケータ情報は、パルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用されてもよい。別の例として、ロータリエンコーダ１１４からの位置インジケータ情報は、ドラム１０２の回転／直線速度（例えば、回転作動１０７および／またはリニアアクチュエータ１１１を制御することによって、）を調整するために使用され得る。追加の実施形態では、位置インジケータ情報は、制御システム１１４によって利用されて、パルス照明源１０４と、検査試料からの照明を検出する検出器（例えば、カメラ又は１つ以上のセンサである）とを同期させることができる。実施形態では、広帯域源１００は、ドラム１０２の特定の態様を制御するためにリニアエンコーダ１１８を利用することができる。リニアエンコーダ１１８は、リニアアクチュエータ１０７に機械的に取り付けられてもよい。この意味で、リニアエンコーダ１１８は、リニアアクチュエータ１１１と統合されてもよく、回転ドラム１０２の軸方向（例えば、垂直）位置を示すように構成されてもよい。実施形態では、リニアエンコーダ１１８からの位置インジケータ情報はまた、制御システム１１４を介してリニアエンコーダ１１８から電子的に読み出され得る（例えば、リニアエンコーダ１１８からの電線を介して）。次いで、リニアエンコーダ１１８からの位置インジケータ情報は、パルスレーザ源１０４および／または回転ドラム１０２の運動を制御または調整するために制御システム１１４によって利用され得る。例えば、リニアエンコーダ１１８からの位置インジケータ情報は、パルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用され得る。別の例として、リニアエンコーダ１１８からの位置インジケータ情報は、ドラム１０２の回転／直線速度（例えば、回転作動１０７および／またはリニアアクチュエータ１１１を制御することによって、）を調整するために使用され得る。追加の実施形態では、リニアエンコーダ１１８からの位置インジケータ情報は、制御システム１１４によって利用されて、パルサレーザ源１０４と検査試料からの照明を検出する検出器とを同期させることができる。追加の実施形態では、広帯域光源１００は、ロータリエンコーダ１１６及びリニアエンコーダ１１８を同時に実装して、パルスレーザ光源１０４のトリガ及び／又はドラム１０２の回転位置及び直線位置、並びに検出器／レーザ光源の同期を制御することができる。

実施形態では、広帯域源１００は、制御システム１１４を含む。制御システム１１４は、回転および／またはリニアアクチュエータ１０７、１１１および／またはパルスレーザ源１０４に通信可能に結合されてもよい。実施形態では、制御システム１１４は、パルスレーザ源１０４のトリガ及び／又はドラム１０２の回転方向及び／又は軸方向に沿った作動を制御する。この点に関して、制御システム１１４は、本開示に記載される任意の様式で、シリンダが回転し、軸方向に並進するにつれて、シリンダの表面を横断してパルス照明１０５をトレースするように、アクチュエータ１０７、１１１およびドラム１０２に指示してもよい。

実施形態では、広帯域源１００は、材料源１１２を含む。材料源１１２は、ドラム１０２をコーティングするために使用される材料を含むことができる。例えば、材料源１１２は、選択された材料をドラム１０２の表面に塗布するために使用され得る。実施形態では、材料源１１２は、ドラム１０２が回転し、選択された材料の凝固点未満の温度に維持されるときに、ドラム１０２の表面上にガス、液体流、または噴霧を向けることができる。例えば、選択された材料は、キセノン、二酸化炭素、および同様の材料を含んでもよいが、これらに限定されない。例えば、キセノンの場合、ドラム１０２は、キセノン凝固点（例えば、－１１．８°Ｃである）未満に冷却され得る。その後、ドラム１０２の表面にキセノンが塗布され、回転しながらドラム１０２の表面にキセノンが凍結し、ドラム１０２の表面に固体のキセノン層が形成される。別の例では、炭素の場合、ドラム１０２は、二酸化炭素凍結点（例えば、－７８°Ｃ）未満に冷却され得る。そして、ドラム１０２の表面に二酸化炭素が塗布され、回転しながらドラム１０２の表面に二酸化炭素が凍結し、ドラム１０２の表面に固体の二酸化炭素層が形成される。実施形態では、ドラム１０２は、冷却剤材料を収容するための内部リザーバを含むことができる。例えば、ドラム１０２は、適用されたキセノンまたは二酸化炭素をそれぞれの材料の凝固点未満に冷却するために使用される液体窒素の体積を保持する内部リザーバを含むことができる。実施形態では、材料源１１２は、回転ドラム１０２の部分をプラズマ形成材料１０３で再コーティングするように構成される。例えば、材料源１１２は、ドラム１０２の以前に照射された部分をプラズマ形成材料１０３で再コーティングするように構成される。例えば、材料源１１２は、限定はしないがキセノンまたは二酸化炭素などのプラズマ形成材料で照明１０５によって事前にクレーティングされたスポットを再コーティングすることができる。さらに、ドラム１０２の長さおよびドラム１０２の垂直速度は、プラズマ形成材料（例えば、キセノンまたは二酸化炭素）が次の照射露光の前にドラム１０２上で凝固するのに充分な時間を提供するように選択することができる。

実施形態では、広帯域光源１００は、ドラム１０２上のプラズマ形成領域から放射されるプラズマベースの照明を集光するように配置された１つ以上の集光光学素子１０６を含む。例えば、パルス源１０４によって励起されたプラズマによって光が生成された後、光は集光光学系１０６によって集光されてもよい。例えば、集光光学系１０６は、当技術分野で知られている任意の集光光学系または収集光学系を含むことができる。例えば、ＥＵＶ光生成の場合、集光光学系１０６は、ＥＵＶ光に適合する当技術分野で知られている任意の集光光学系又は収集光学系を含むことができる。別の例では、軟Ｘ線光生成の場合、集光光学系１０６は、軟Ｘ線光に適合する当技術分野で知られている任意の集光光学系または収集光学系を含むことができる。実施形態では、集光光学系１０６は、ドラム１０２から発する照明１０９を１つ以上の下流の光学素子に向けるおよび／または集束させることができる。実施形態では、集光光学系１０６は、図１Ａに示すように、ドラム１０２から発する照明を中間焦点１０８に集束させるように構成することができる。

図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、制御システム１１４のブロック図２００を示す。実施形態では、制御システム１１４は、運動コントローラ２０２と、プロセスコントローラ２１０と、レーザコントローラ２１２とを含む。加えて、制御システム１１４は、コンピュータ２１４（または任意の他のＧＵＩ対応デバイス）を含んでもよい。実施形態では、運動コントローラ２０２は、ドラム１０２の回転および／または直線運動（位置、速度、および加速度）を制御するために、回転アクチュエータ１０７および／またはリニアアクチュエータ１１１に指示する。実施形態では、運動コントローラ２０２からの信号は、回転増幅器２０４およびリニア増幅器２０６を介して増幅され、それぞれ、回転アクチュエータ１０７（例えば、サーボモータ）およびリニアアクチュエータ１１１に伝送されてもよい。次に、回転アクチュエータ１０７およびリニアアクチュエータ１１１は、運動コントローラ２０２によって指示されるようにドラム１０２を作動させることができる。１つ以上の論理要素２０８（例えば、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ））は、回転アクチュエータ１０７と統合されたロータリエンコーダ１１６および／またはリニアアクチュエータ１１１と統合されたリニアエンコーダ１１８から位置情報を読み出すことができる。例えば、１つ以上の論理要素２０８は、ロータリエンコーダ１１６および／またはリニアエンコーダ１１８から出力されるケーブル／ワイヤから電気信号を読み出すことができる。次いで、この回転および直線位置情報は、プロセスコントローラ２１２および／またはレーザコントローラ２１２に送信されてもよい。レーザ制御の場合、１つ以上の論理要素からの位置情報は、パルスレーザ源１０４のトリガ基準として働くことができる。この点に関して、レーザコントローラ２１２は、１つ以上の論理要素から位置情報を受信し、次いで、位置情報に基づいてパルスレーザ源１０４を発射してもよい。例えば、回転ドラム１０２のダウンストロークの場合、レーザコントローラ２１２は、ロータリエンコーダ１１６のインデックスが１つ以上の論理要素２０８によって読み出されるときまで、瞬時に（またはほぼ瞬時に）パルスレーザ源１０４を発射してもよい。次いで、アップストロークターゲティングの場合、レーザコントローラ２１２は、インデックスの読み出しとパルスレーザ源１０４の発射との間に選択された時間遅延を与え得るか、または第２のインデックスセット（第１のインデックスセットに対するオフセット）を有するエンコーダを利用し得る。プロセス制御の場合、プロセスコントローラ２１０は、位置情報を分析し、その情報を運動コントローラ２０２にフィードバックすることができ、次いで運動コントローラは、ドラム１０２の回転および／もしくはリニア運動の調整ならびに／またはレーザコントローラ２１２を介したパルスレーザ源への調整を行うことができる。追加のレーザ制御および／またはドラム位置制御のシナリオは、本明細書でさらに説明される。

図３は、本開示の１つ以上の実施形態による、ドラム１０２の表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図３００を示す。実施形態では、ドラム１０２が回転すると、パルス照明源１０４は、第１の方向３０３にドラム１０２の材料コーティングされた部分を横断する第１の組のスポット３０２にパルス照明１０５を向ける。さらに、ドラム１０２が回転し続けると、パルス照明源１０４は、パルス照明１０５を、ドラム１０２の材料コーティングされた部分を第２の方向３０５に横断する第２の組のスポット３０４に向ける。実施形態では、第１の組のスポット３０２および第２の組のスポット３０４はそれぞれ、回転ドラム１０２の表面の周囲にスパイラルパターンを形成し、図３に描写される表面は、回転方向３０７に沿って円筒の軸の周囲に－１８０°～＋１８０°に及ぶ円筒表面を表すことに留意されたい。実施形態では、ドラム１０２は、回転方向に沿って重複領域３０６内で選択された一定の回転速度（例えば、一定のドラムＲＰＭ）で回転され得る。実施形態では、ドラム１０２は、折り返し領域３０９、３１１において回転減速／加速され得る。

図４は、本開示の１つ以上の実施形態による、ドラム１０２の表面上にターゲットスポット３０２、３０４のインターレースされた組を生成することが可能な単一のトリガシーケンスを有するエンコーダ４００を示す。エンコーダ４００は、インデックス４０２の単一の組を含む。実施形態では、エンコーダ４００は、図３に示されるように、第２の組２０４のスポットと重複しないように、スポットの第１の組３０２を形成するように、制御特徴を広帯域源１００に提供する。前述のように、インデックス４０２は、ｉ）パルスレーザ源１０４のためのトリガ基準としての機能を果たすように、制御システム１１４によって使用されてもよい；ｉｉ）ドラム１０２の回転速度および／または線速度を調整する；及び／又はｉｉｉ）パルスレーザ源１０４と検出器とを同期させる。例えば、ロータリエンコーダ４００からの読み出し信号（例えば、電線を介する）は、パルスレーザ源１０４への外部トリガとして働くことができる。折り返し領域３０９の間、制御システム１１４は、アップストローク３０５の第２の組のスポット３０４が第１の組のスポット（例えば、半サイクルだけシフトされる）に対してシフトされるようにシフトを引き起こすことができる。例えば、単一のエンコーダ４００の場合、ダウンストローク３０３の間、パルスレーザ源１０４は、インデックス４０２のそれぞれで瞬時に（またはほぼ瞬時に）トリガされてもよく、アップストローク３０５の間、パルスレーザ源１０４のトリガは、ある固定遅延によって遅延されてもよい。この遅延は、スポットの第２の組３０４をスポットの第１の組３０２に対してシフトさせる。

図５は、本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、ドラム１０２の表面にわたって分散され、２シーケンスエンコーダによって生成されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図５００を示す。図３に描写されるスポットの配列の種々の特徴は、別様に指摘されない限り、図５の配列に及ぶように解釈されるべきであることに留意されたい。

図６は、本開示の１つ以上の実施形態による、ドラム１０２の表面上にターゲットスポット５０２、５０４のインターレースされた組を生成することができる２つのトリガシーケンスを有するエンコーダ６００を示す。本明細書では、エンコーダ４００の様々な一般的な特徴は、エンコーダ６００に拡張されると解釈されるべきであり、簡潔にするためにここでは繰り返さないことに留意されたい。エンコーダ６００は、２組のインデックス６０２、６０４を含む。この実施形態では、第１の組のインデックス６０２は、ダウンストローク中のパルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用されてもよく、第２の組のインデックス６０４は、アップストローク中のパルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用されてもよい。例えば、ダウンストローク５０３中に、エンコーダベースのインデックス６０２は、パルスレーザ源１０４に選択された周波数でレーザパルスを生成させることができる。次いで、折り返し領域５０９（ダウンストロークからアップストロークに移動する）中に、制御システム１１４は、アップストローク５０５中に実装するためにトリガ基準をインデックスの第２の組６０４に切り替えることができる。同様に、折り返し領域５１１（アップストロークからダウンストロークへの移動）中に、制御システム１１４は、ダウンストローク５０３中に実装するためにトリガ基準をインデックスの第１の組６０２に切り替えて戻すことができる。エンコーダ６００上のインデックスの切り替えは、ドラム１０２上の切り替えの発生５１３ａ、５１３ｂに対応する。ダウンストロークからアップストロークへの（およびその逆の）切り替えは、制御システム１１４の論理要素２０８を介して実行される選択された期間にわたって実行されてもよい。この実施形態では、シングルトリガシーケンスの場合とは異なり、広帯域源１００は、アップストロークのパルスのためのトリガ遅延を必要としない。例えば、パルスレーザ源１０４は、ダウンストローク５０３のインデックス６０２及びアップストロークのインデックス６０４に対して瞬時に（又はほぼ瞬時に）トリガされてもよい。エンコーダ６００上のインデックス６０２、６０４の個々のインデックスのインターリーブにより、アップストローク５０５のターゲット位置は、ダウンストローク５０３のターゲット位置に対してオフセットされる。

図７は、本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、ドラム１０２の表面にわたって分散され、３シーケンスエンコーダによって生成されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図７００を示す。図５に描写されるスポットの配列の種々の特徴は、別様に指摘されない限り、図７の配列に及ぶように解釈されるべきであることに留意されたい。

図８は、本開示の１つ以上の実施形態による、ドラム１０２の表面上にターゲットスポット７０２、７０４および遷移スポット７１３および７１５のインターレースされた組を生成することができる３つのトリガシーケンスを有するエンコーダ８００を示す。本明細書では、エンコーダ６００の様々な一般的な特徴は、エンコーダ８００に拡張されると解釈されるべきであり、簡潔にするためにここでは繰り返さないことに留意されたい。エンコーダ８００は、３組のインデックス８０２、８０４、８０６を含む。この実施形態では、第１の組のインデックス８０２を、ダウンストローク中のパルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用することができ、第２の組のインデックス８０４を、アップストローク中のパルスレーザ源１０４のトリガ基準として使用することができる。加えて、インデックスの第３の組８０６は、動的符号化システムと見なされ得、ダウンストロークスポット７０２とアップストロークスポット７０４との間の遷移領域を提供する。この意味で、第３の組の指標８０６は、第１の組の指標８０２によって引き起こされるトリガと、第２の組の指標８０４によって引き起こされるトリガとから、第１及び第２の指標８０２、８０４によって実施されるものからレーザ発射の周波数を変更することによって、領域７１３／７１５を切り替える間にレーザクレーティングプロセスを切り替えるために使用され得る。ダウンストロークスポット７０２とアップストロークスポット７０４との間の転送中の変更された周波数パーセンテージは、第３のインデックスセット８０６の数によって制御され得る。例えば、周波数の変化は、５０個のスイッチングショット（すなわち、スイッチング領域７１３／７１５内のショットの数である）がある場合、約１％であり、１００個のスイッチングショットがある場合、約０．５％である。

図９は、本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、ドラム１０２の表面にわたって分散され、３シーケンスエンコーダによって生成されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図９００を示す。図７に描写されるスポットの配列の種々の特徴は、別様に指摘されない限り、図９の配列に及ぶように解釈されるべきであることに留意されたい。実施形態では、折り返し領域９０９、９１１において、ドラム１０２は、ドラム１０２の回転速度の一時的な増加（または減少）を与えるために加速（または減速）されてもよい。例えば、折り返し領域９０９では、ダウンストローク９０３の終了時に、ドラム回転速度（ＲＰＭ）は、一定速度領域９０６に対してある期間にわたって増加（または減少）され、次いで、アップストローク９０５の開始時に領域９０６の一定速度に戻るように減少（または増加）される。同様に、折り返し領域９１１では、アップストローク９０５の終了時に、ドラム回転速度（ＲＰＭ）は、一定速度領域９０６に対してある期間にわたって増加（または減少）され、次いで、ダウンストローク９０３の開始時に、一定速度領域９０６に戻るように減少（または増加）される。実施形態では、遷移期間９１３（または９１５）の間、レーザパルス期間は、ドラムの回転速度が増加している間、同じままであり得る。実施形態では、動的符号化シーケンス８０６は、インデックス８０２およびインデックス８０４によって生成されるダウンストロークターゲットスポット９０２とアップストロークターゲットスポット９０４との間（およびその逆）をシフトするように、ドラムの加速／減速と組み合わせて実装されてもよい。

本開示の多くは、パルスレーザ源のレーザ発射を制御するためのエンコーダインデックスの利用に焦点を当てているが、図９のドラム加速／減速スキームは、本開示の様々な符号化シーケンスの有無にかかわらず実装され得ることに留意されたい。代替実施形態では、制御システム１１４は、トリガ基準として、（ロータリエンコーダインデックスとは対照的に）レーザクロックを利用してもよい。この点に関して、レーザクロックは、パルスレーザ源１０４の主要なトリガ基準として作用することができ、ドラム１０２の回転及び／又は垂直運動を制御する際の基準として使用することができる。

図１０は、本開示の１つ以上の追加および／または代替の実施形態による、ドラム１０２の表面にわたって分散されたスポットの第１の組およびスポットの第２の組の概念図１０００を示す。図９に描写されるスポットの配列の種々の特徴は、別様に指摘されない限り、図１０の配列に及ぶように解釈されるべきであることに留意されたい。この実施形態では、スポットの第１の組１００２およびスポットの第２の組１００４は、インデックスの第１の組内のインデックスの数がインデックスの第２の組内のインデックスの数とは異なる２シーケンスエンコーダを介して生成され得る。たとえば、図１０に示すように、インデックスの第１の組に関連する列の数は偶数であり、インデックスの第２の組に関連する列の数は奇数である。この例では、エンコーダ（図示せず）の第１および第２のインデックスによって制御されるパルスレーザ源１０４のレーザ発射周波数は、選択された周波数であってもよい。第１および第２のインデックスセット内で異なる数のインデックスを有するエンコーダを使用することは、アップストローク１００５のスポット９０４がダウンストローク１００３のスポット９０２と完全に一致しないことを保証するが、このアプローチは、領域１０１３に描写されるもの等のいくらかの重複がないことを保証することができないことに留意されたい。これは、インデックスの第１の組のインデックスのうちのいくつかとインデックスの第２の組のインデックスのうちのいくつかとの交差に対応する。

図１１は、本開示の１つ以上の実施形態による、プラズマベースの照明源１００を組み込んだ検査システム１１００のブロック図を示す。実施形態では、システム１１００は、照明サブシステム１１０２を含む。照明サブシステム１１０２は、本開示全体にわたって説明される広帯域光源１００を組み込むことができる。実施形態では、図１１には示されていないが、システム１１００は、照明光学系のセットを含む。実施形態では、イルミネータ光学系は、広帯域光源１００から発せられる照明１０９を、試料ステージ１１０６上に配置された１つ以上の試料１１０４に向けることができる。例えば、１つ以上の試料１１０４は、ウエハ（例えば、半導体ウエハ）を含んでもよいが、これに限定されない。別の例として、１つ以上の試料１１０４は、レチクルまたはフォトマスクを含み得るが、これらに限定されない。実施形態では、システム１１００は、１つ以上の検出器１１１０を含む。実施形態では、システム１１００は、試料から散乱、反射、回折、または別様に発する光を集光し、光を１つ以上の検出器（例えば、ＣＣＤ、ＴＤＩ－ＣＣＤ、ＰＭＴなどである）に指向するために好適な投影光学系のセット１１０９を含む。実施形態では、システム１１００は、検出器１１１０から測定結果を受信および／または分析するためのコントローラ１１１２を含む。

実施形態では、検査システム１１００は、ウェハ検査システムまたはレチクル／フォトマスク検査システムとして構成される。例えば、検査システム１１００は、ＥＵＶスペクトル範囲で動作するのに適した当技術分野で知られている任意のウェハ又はレチクル／フォトマスク検査光学アーキテクチャを含むことができる。別の例として、検査システム１１００は、軟Ｘ線スペクトル範囲で動作するのに適した当技術分野で知られている任意のウェハまたはレチクル／フォトマスク検査光学アーキテクチャを含むことができる。検査システム１１００は、ＥＵＶマスクまたはマスクブランク検査システムとして構成され得ることがさらに認識される。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、概して米国特許第８，７１１，３４６号（Ｓｔｏｋｏｗｓｋｉ、２０１４年４月２９日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。ＥＵＶベースのマスクブランク検査は、概して米国特許出願第１３／４１７，９８２号（Ｘｉｏｎｇら、２０１２年３月１２日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。ＥＵＶベースのレチクル検査は、概して、２０１３年５月３０日に出願された米国特許出願第１３／９０５，４４８号（Ｎａｓｓｅｒ－Ｇｈｏｄｓｉら）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

実施形態では、図示されていないが、本開示全体にわたって説明される広帯域光源１００は、光学リソグラフィシステム内に実装され得る。実施形態では、光学リソグラフィシステム（図示せず）は、広帯域光源１００からの出力光をＥＵＶ適合リソグラフィマスク（例えば、ＥＵＶ反射マスク）又は軟Ｘ線適合リソグラフィマスクに向けるように構成された照明光学系のセットを含むことができる。実施形態では、光学リソグラフィシステムは、マスクから反射された照明を受け取り、マスクからの反射された照明をウェハステージ上に配置された１つ以上のウェハに向けるように構成された投影光学系のセットを含む。光学リソグラフィシステムは、当技術分野で知られている任意の広帯域リソグラフィシステムを含むことができる。ＥＵＶベースのリソグラフィは、概して米国特許出願第１３／４１９，０４２号（Ｗａｎｇ、２０１２年３月１３日）に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

図１２は、本開示の一実施形態による、連続的またはほぼ連続的なプラズマベースの照明を生成するための方法１２００を示す流れ図を示す。

ステップ１２０２において、プラズマ形成ターゲット材料で少なくとも部分的にコーティングされた回転ドラムを回転させる。例えば、図１Ａに示すように、ドラム１０２を回転させることができる。例えば、回転ドラム１０２は、限定されないが、サーボモータなどの回転アクチュエータ１０７によって、選択された回転速度で回転され得る。

ステップ１２０４において、回転ドラム１０２を軸方向に作動させる。例えば、図１Ａに示すように、回転ドラム１０２は、リニアアクチュエータ１１１を介して軸方向（例えば、図１Ａの垂直方向である）に沿って平行移動することができる。回転およびリニア作動の組み合わせは、パルスレーザ源１０４からドラム１０２の表面に、第１のスパイラルパターンでドラムの材料コーティング部分を第１の方向に横断する第１の組のスポットに、および第２のスパイラルパターンでドラムの材料コーティング部分を第２の第１の方向に横断する第２の組のスポットにパルスレーザを向けるために使用される。

ステップ１２０６では、ドラム１０２の回転位置情報を取得する。例えば、図１Ａ－１０に示されるように、制御システム１１４は、回転アクチュエータ１０７（例えば、サーボモータ）と統合され、回転ドラム１０２に接続されるロータリエンコーダ１１６から１つ以上の電気信号を読み出してもよい。加えて、制御システム１１４は、リニアアクチュエータ１１１と統合され、回転ドラム１０２に接続されたリニアエンコーダ１１８から１つ以上の電気信号を読み出すことができる。

ステップ１２０８において、ロータリエンコーダから取得された回転位置情報に基づいてパルスレーザ源がトリガされる。例えば、制御システム１１４は、ロータリエンコーダ１１６から取得された回転位置情報に基づいてパルスレーザ源１０４をトリガして、回転式ドラム１０２のダウンストロークのための第１の組の目標位置と、回転式ドラム１０２のアップストロークのための第２の組の目標位置とを形成してもよく、それにより、第２の組の目標位置は、第１の組の目標位置からオフセットされる。

ステップ１２１０において、回転ドラム１０２の以前に照明されたスポットは、プラズマ形成材料で再コーティングされる。例えば、図１Ａに示されるように、パルスレーザ源１０４からの照明１０５への露光後、材料源１１２は、選択されたプラズマ形成材料（例えば、キセノンまたは二酸化炭素）で回転ドラム１０２を再コーティングしてもよく、本明細書に前述される第１および第２のパターンのスポットが、１つ以上の後続パス上で照明１０５に再露光されることを可能にする。

当業者であれば、本明細書で説明されるプロセスおよび／またはシステムおよび／または他の技術が具現化され得る、種々の車両が存在すること（例えば、ハードウェア、ソフトウェア、及び／又はファームウェア）、および好ましい媒体は、プロセスおよび／またはシステムおよび／または他の技術が展開される文脈とともに変動するであろうことを理解するであろう。いくつかの実施形態では、様々なステップ、機能、および／または動作は、以下のうちの１つ以上によって実行される：電子回路、論理ゲート、マルチプレクサ、プログラマブル論理デバイス、ＦＰＧＡ、ＡＳＩＣ、アナログもしくはデジタル制御／スイッチ、マイクロコントローラ、またはコンピューティングシステム。コンピューティングシステムは、パーソナルコンピューティングシステム、メインフレームコンピューティングシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、または当技術分野で知られている任意の他のデバイスを含み得るが、それらに限定されない。一般に、本開示の用語「制御システム」および「コントローラ」は、メモリ媒体からのプログラム命令を実行する１つ以上のプロセッサを有する任意のデバイスを包含するように広く定義される。メモリ媒体は、読取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、ソリッドステートメモリ、磁気もしくは光ディスク、または磁気テープを含み得るが、それらに限定されない。

本明細書で説明される方法のすべては、方法の実施形態の１つ以上のステップの結果を記憶媒体に記憶することを含み得る。結果は、本明細書で説明される結果のいずれかを含んでもよく、当技術分野で公知の任意の様式で記憶されてもよい。記憶媒体は、本明細書で説明する任意の記憶媒体または当技術分野で知られている任意の他の好適な記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、記憶媒体内でアクセスされ、本明細書で説明される方法またはシステム実施形態のいずれかによって使用される、ユーザへの表示のためにフォーマットされる、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステムによって使用される等することができる。さらに、結果は、「永久的に」、「半永久的に」、一時的に、またはある期間にわたって記憶され得る。例えば、記憶媒体は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であってもよく、結果は、必ずしも記憶媒体内に無期限に持続しなくてもよい。

本発明の特定の実施形態を説明してきたが、当業者であれば、前述の開示の範囲および精神から逸脱することなく、本発明の様々な修正および実施形態をなし得ることは明らかである。したがって、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ限定されるべきである。

Claims

広帯域光源であって、
プラズマ形成ターゲット材料で少なくとも部分的にコーティングされた回転ドラムと、
前記回転ドラムを回転させるように構成された回転アクチュエータと、
前記回転ドラムを軸方向に並進させるように構成されているリニアアクチュエータと、
前記回転ドラムに接続され、前記回転ドラムの回転位置を示すロータリエンコーダと、ここで、前記ロータリエンコーダは、ダブルシーケンスエンコーダ又はトリプルシーケンスエンコーダの少なくともいずれかを含み、
前記回転ドラムに接続され、前記回転ドラムの軸方向位置を示すリニアエンコーダと、
前記回転アクチュエータが前記回転ドラムを回転させ、前記リニアアクチュエータが前記回転ドラムを軸方向に並進させるとき、前記プラズマ形成ターゲット材料を励起し、広帯域光を放出するために、前記回転ドラムの材料コーティング部分上のスポットの組にパルス照明を向けるように構成されるレーザ源と、
前記ロータリエンコーダから１つ以上の回転位置インジケータを受け取り、前記ロータリエンコーダからの前記１つ以上の回転位置インジケータに基づいて前記レーザ源のトリガを制御するように構成される制御システムと、
を備え、
前記ダブルシーケンスエンコーダは、２組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、前記トリプルシーケンスエンコーダは、３組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第３の組のインデックスは、ダウンストロークスポットとアップストロークスポットとの間の遷移領域を提供する広帯域光源。
前記スポットの組は、
スパイラルパターンに配置された第１の組のスポットと、
スパイラルパターンに配列された第２の組のスポットであり、前記第１の組のスポットおよび第２の組のスポットは、第２の組のスポットからのスポットが前記第１の組のスポットからのスポットと重複しないように交互配置される、第２の組のスポットと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記ロータリエンコーダは、前記レーザ源のトリガ基準として機能することを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記制御システムは、前記ロータリエンコーダからの前記１つ以上の回転位置インジケータまたは前記リニアエンコーダからの１つ以上の軸方向位置インジケータの少なくとも１つに基づいて前記回転ドラムの回転および軸方向運動を制御するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記制御システムは、前記第２の組のスポットからのスポットが前記第１の組のスポットからのスポットと重ならないように前記第２の組のスポットをオフセットするために、前記回転ドラムの折り返し部分の開始時に前記回転ドラムを加速させ、前記回転ドラムの折り返し部分の終了時に前記回転ドラムを減速させるように前記回転アクチュエータに指示するように構成されることを特徴とする請求項２に記載の光源。
前記制御システムは、前記レーザ源のトリガを１つ以上のセンサのデータ取得サイクルと同期させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記制御システムは、
前記回転アクチュエータおよび前記リニアアクチュエータに通信可能に結合され、前記回転ドラムの回転運動を制御するために前記回転アクチュエータを制御し、前記回転ドラムの軸方向運動を制御するために前記リニアアクチュエータを制御するように構成された運動コントローラと、
レーザ源に通信可能に結合され、ロータリエンコーダからの位置情報に基づきレーザ源のトリガを制御するように構成されるレーザコントローラと、
前記ロータリエンコーダまたは前記リニアエンコーダの少なくとも１つからの位置情報に基づき、前記運動コントローラに位置フィードバック情報を提供するように構成されるプロセスコントローラと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記レーザ源はパルスレーザ源を含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記プラズマ形成ターゲット材料の励起に応答して生成されるプラズマから発せられる照明を受け取るように構成される１つ以上の集光光学素子をさらに含む請求項１に記載の光源。
前記回転ドラムは、シリンダであることを特徴とする請求項１に記載の光源。
前記回転ドラムの以前に照射された部分を前記プラズマ形成ターゲット材料で再コーティングするように構成された材料源をさらに含む請求項１に記載の光源。
前記プラズマ形成ターゲット材料は、凍結キセノンまたは凍結二酸化炭素の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
放出された広帯域光は、軟Ｘ線広帯域光またはＥＵＶ広帯域光のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の光源。
検査システムであって、
照明サブシステムであって、
プラズマ形成ターゲット材料で少なくとも部分的にコーティングされた回転ドラムと、
前記回転ドラムを回転させるように構成された回転アクチュエータと、
前記回転ドラムを軸方向に並進させるように構成されるリニアアクチュエータと、
前記回転ドラムに接続され、前記回転ドラムの回転位置を示すロータリエンコーダと、ここで、前記ロータリエンコーダは、ダブルシーケンスエンコーダ又はトリプルシーケンスエンコーダの少なくともいずれかを含み、
前記回転ドラムに接続され、前記回転ドラムの軸方向位置を示すリニアエンコーダと、
前記回転アクチュエータが前記回転ドラムを回転させ、前記リニアアクチュエータが前記回転ドラムを軸方向に並進させるとき、前記プラズマ形成ターゲット材料を励起し、広帯域光を放出するために、前記回転ドラムの材料コーティング部分上のスポットの組にパルス照明を向けるように構成されるレーザ源と、
前記ロータリエンコーダから１つ以上の回転位置インジケータを受け取り、前記ロータリエンコーダからの前記１つ以上の回転位置インジケータに基づいて前記レーザ源のトリガを制御するように構成される制御システム、
を備える照明サブシステムと、
前記プラズマ形成ターゲット材料の励起に応答して生成されるプラズマから発せられる照明を集光するように構成された１つ以上の集光光学系と、
前記１つ以上の集光光学系からの照明をステージ上に配置された１つ以上の試料に向けるように構成された照明光学系の組と、
検出器と、
前記１つ以上の試料の表面から照明を受け取り、前記１つ以上の試料からの照明を前記検出器に向けるように構成される投影光学系の組と、
を備え、
前記ダブルシーケンスエンコーダは、２組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、前記トリプルシーケンスエンコーダは、３組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記レーザ源のトリガ基準として使用され、第３の組のインデックスは、ダウンストロークスポットとアップストロークスポットとの間の遷移領域を提供する検査システム。
前記検査システムは、ウェハ検査システムとして構成されることを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記検査システムは、レチクル又はフォトマスク検査システムとして構成されることを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記照明は極紫外線を含むことを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記スポットの組は、
スパイラルパターンに配置された第１の組のスポットと、
スパイラルパターンに配置された第２の組のスポットであり、前記第１の組のスポットおよび第２のセットのスポットは、第２の組のスポットからのスポットが前記第１の組のスポットからのスポットと重複しないように交互配置される、第２の組のスポットと、
を含むことを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記ロータリエンコーダは、前記レーザ源のトリガ基準として機能することを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記制御システムは、前記ロータリエンコーダからの前記１つ以上の回転位置インジケータまたは前記リニアエンコーダからの１つ以上の軸方向位置インジケータの少なくとも１つに基づいて前記回転ドラムの回転および軸方向運動を制御するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記制御システムは、前記第２の組のスポットからのスポットが前記第１の組のスポットからのスポットと重ならないように前記第２の組のスポットをオフセットするために、前記回転ドラムの折り返し部分の始まりで前記回転ドラムを加速させ、前記回転ドラムの折り返し部分の終わりで前記回転ドラムを減速させるように前記回転アクチュエータに指示するように構成されることを特徴とする請求項１８に記載の検査システム。
前記制御システムは、前記レーザ源のトリガを１つ以上のセンサのデータ取得サイクルと同期させるように構成されることを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記制御システムは、
前記回転アクチュエータおよび前記リニアアクチュエータに通信可能に結合され、前記回転ドラムの回転運動を制御するために回転アクチュエータを制御し、前記回転ドラムの軸方向運動を制御するために前記リニアアクチュエータを制御するように構成された運動コントローラと、
前記レーザ源に通信可能に結合され、前記ロータリエンコーダからの位置情報に基づき前記レーザ源のトリガを制御するように構成されるレーザコントローラと、
前記ロータリエンコーダまたは前記リニアエンコーダの少なくとも１つからの位置情報に基づき、前記運動コントローラに位置フィードバック情報を提供するように構成されるプロセスコントローラと、
を備える請求項１４に記載の検査システム。
前記レーザ源はパルスレーザ源を含むことを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記プラズマ形成ターゲット材料の励起に応答して生成されるプラズマから発せられる照明を受け取るように構成される１つ以上の集光光学素子をさらに含む請求項１４に記載の検査システム。
前記回転ドラムは、シリンダであることを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
前記回転ドラムの以前に照射された部分を前記プラズマ形成ターゲット材料で再コーティングするように構成された材料源をさらに含む請求項１４に記載の検査システム。
前記プラズマ形成ターゲット材料は、凍結キセノンまたは凍結二酸化炭素の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
放出された広帯域光は、軟Ｘ線広帯域光またはＥＵＶ広帯域光のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１４に記載の検査システム。
方法であって、
プラズマ形成ターゲット材料でコーティングされた回転ドラムを回転させるステップと、
前記回転ドラムを軸方向に作動させるステップと、
前記回転ドラムに接続されたロータリエンコーダから回転位置情報を取得するステップと、ここで、前記ロータリエンコーダは、ダブルシーケンスエンコーダ又はトリプルシーケンスエンコーダの少なくともいずれかを含み、
前記回転ドラムのダウンストロークのための第１の組の目標位置と、前記第１の組の目標位置からオフセットされた前記回転ドラムのアップストロークのための第２の組の目標位置とを形成するために、前記ロータリエンコーダから取得された回転位置情報に基づいてパルスレーザ源をトリガするステップと、
前記回転ドラムの以前にターゲットにされたスポットを前記プラズマ形成ターゲット材料で再コーティングするステップと、
を備え、前記ダブルシーケンスエンコーダは、２組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記パルスレーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記パルスレーザ源のトリガ基準として使用され、前記トリプルシーケンスエンコーダは、３組のインデックスを含み、第１の組のインデックスは、ダウンストローク中の前記パルスレーザ源のトリガ基準として使用され、第２の組のインデックスは、アップストローク中の前記パルスレーザ源のトリガ基準として使用され、第３の組のインデックスは、ダウンストロークスポットとアップストロークスポットとの間の遷移領域を提供する方法。