JP7601151B2 - 光学素子、および、認証体 - Google Patents
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Description
図1から図35を参照して、本発明の光学素子の第1実施形態を説明する。なお、各図面において、同一または類似した機能を発揮する構成要素には全て同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、本開示の本発明の実施形態は、背景からの独自の単一の発明を元とする一群の実施形態である。また、本開示の各側面は、単一の発明を元とした一群の実施形態の側面である。本開示の各構成は、本開示の各側面を有しうる。本開示の各特徴(feature)は組合せ可能であり、各構成をなせる。したがって、本開示の各特徴(feature)、本開示の各構成、本開示の各側面、本開示の各実施形態は、組合せることが可能であり、その組合せは相乗的機能を有し、相乗的な効果を発揮しうる。
図4が示すように、光学素子10の観察面10Sに沿う任意の方向が、X方向であり、X方向に直交する方向がY方向である。本実施形態では、X方向が方位角において基準となる方向であり、X方向と格子構造が延びる方向とが形成する角度が方位角φである。そのため、第1セルPx1における方位角φは0°であり、第2セルPx2における方位角φは45°である。また、第3セルPx3における方位角φは90°であり、第4セルPx4における方位角φは135°である。なお、X方向は光学素子10の水平方向と一致する場合が多く、その場合に利用する格子構造の方位角φは0°、90°、または、0°および90°であることが好ましい。このような設計とすることによって、光学素子10の製造が容易であり、光学素子10の生産効率を高めることができる。第1格子構造の方位角と、第2格子構造の方位角の差が1°以下のとき、それぞれの方位角は等しいと定義できる。
図9が示すように、周期dの格子構造の凸部に相当する領域の屈折率をnaとし、凹部に相当する領域の屈折率をnbとし、周期dのうち凸部の占める幅をaとし、凹部の占める幅をbとする。周期dに対する凸部の占有率をFとすると、入射光のうちTE波およびTM波に対する有効屈折率neffはそれぞれ式(2)および式(3)のように表される。
k=2π/λ … 式(5)
K=2π/d … 式(6)
β=(2π/λ)・neff… 式(7)
d(neff-R)=mλ … 式(8)
屈折率n1および入射角θは、材料および入射角度を固定して考える場合には一定であるため、ここではn1sinθを定数Rとして取り扱う。導波モード共鳴に寄与するのは主に1次回折光であるため、式8においてm=1とすることができる。第1格子構造11G1および第2格子構造11G2について、式(8)より導かれる共鳴波長λをそれぞれλ1、λ2とすると、式(9)が成り立つ。
|λ1-λ2|=|d1(n21-R)-d2(n22-R)|… 式(9)
sinθ1+sinθ2 = mλ/nd … 式(10)
なお、式(10)において、θ1は回折格子に対する入射光の入射角であり、θ2は回折格子が射出する回折光の回折角であり、mは回折光の回折次数である。λは波長であり、nは回折格子の屈折率であり、dは回折格子の格子周期である。
sinθ2は-1以上1以下であるため、式(11)における右辺(λ/d)が1よりも大きいとき、式(11)は成り立たない。言い換えれば、右辺(λ/d)が1よりも大きいとき、1次回折光は回折格子から射出されない。したがって、上述した前提のもとでは、回折格子の格子周期が波長よりも小さいときに、回折格子はゼロ次回折光のみを射出する。
sinθ2は-1以上1以下であるため、式(12)の左辺(1/2+sinθ2)は-0.5以上1.5以下であり、屈折率nと格子周期dとの積が0以上400以下を満たすとき、屈折率nと格子周期dとの組み合わせによって、回折格子が1次回折光を射出する。例えば、1次回折光が射出されるときの屈折率nと格子周期dとの組み合わせ(n,d)は、以下の通りである。
このように、回折格子の屈折率nによっては、回折格子の格子周期dが波長λ以下であっても、1次回折光やより高次の回折光が射出されることがある。言い換えれば、回折格子の格子周期dと、回折格子の屈折率nとの調整によって、回折格子がゼロ次回折光を射出する一方で、ゼロ次回折光よりも高次の回折光を射出しないように回折格子を構成することが可能である。
図12が示すように、無指向性の散乱構造は、構造の幅や高さが不規則な構成である。図示の便宜上、図12では構造がX方向とY方向にランダムに並んだ形態としているが、方向も関係なく完全にランダムに凹凸構造が形成された形態であってもよい。この無指向性の散乱構造は、モチーフ領域11S1の格子構造や背景領域11S2の格子構造を形成する工程で同時に形成してもよいし、第1層11から第3層13を含む積層体を別の基材に転写したり、ラミネートしたりするときに物理的に生成されるものであってもよい。
図13が示すように、指向性の散乱構造において、構造の幅や高さが不規則ではあるが、構造の並ぶ方向が揃っている。観察者が紙面手前から観察しているとすると、図13に示す構造断面図に対して紙面の奥から紙面の手前に向けて光が入射する場合には、観察者側に散乱光が入ってくるため白色として知覚される。一方で、構造断面図に対して紙面の左から紙面の右に向けて光が入射する場合には、射出方向から観察しても光が弱く、散乱構造は、実質的に黒またはグレーに見える。つまり、光学素子10を平面視した状態でどの方向に指向性の散乱構造を設けるかによって、境界領域を白色にも黒色にも表示可能である。例えば、境界領域11S3に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造によれば、第3領域が、正反射方向では黒色を呈する。これにより、導波モード共鳴によって正反射方向に特定の色を表示するモチーフ領域11S1および背景領域11S2における境界がより明確になる。
図14が示すように、モスアイ構造による反射防止の原理とは、ナノオーダーの針状構造を設けることで、構造周辺の屈折率がゆるやかに変化するため、入射した光の反射や屈折が極めて小さくなり、結果的に黒色に見えるという原理である。図14では、円錐状の構造を正方配列した例を示しているが、構造のXY方向の断面積がZ方向に変化する微細構造であればよく、配列も正方配列に限定されるものではない。
図18が示すように、α入射、β入射どちらの場合も格子周期dと反射ピーク波長の関係が線形性を有している。しかし、α入射の場合は終始一貫した変化であるのに対して、β入射の場合は格子周期における360nmから380nm付近を境に、両者の関係が異なっている。このことから、α入射となる格子構造11Gの方が設計面および製造面において制御しやすいといえる。
図19が示すように、全体的にα入射の方がβ入射よりも反射率が高い。これは、図17において、格子周期dの細かい格子構造11Gの反射ピークが、主成分である長波長側以外に短波長側にも現れていることに起因する。これらは格子方向と入射方向の関係で生じる偏光の影響によるものといえる。α入射となる構造設計では、主となる色相に該当する波長における反射率が高いほど、表示される色の発色が強くなり、視認性が高まる。
図25(a)が示すように、境界領域11S3は画像要素11R1に接する部位と、パターン要素11P1に接する部位とにそれぞれ輪郭を有しているが、この輪郭上の任意の点と、当該点における接線に直交し、もう一方の輪郭と交わる点との距離を境界領域11S3の幅Wbとする。
図26では、モチーフ領域11S1が3つの画像要素から形成され、モチーフ領域11S1の外周に境界領域11S3が設けられている。なお、境界領域11S3および背景領域11S2は格子構造11Gを備えなくてもよく、平均粗さSaが20μm以下の実質的に平坦な面であってもよい。このような構造とすることで、例えば国旗のようなシンボルを表示させる場合に、モチーフ領域11S1以外は白色となるため、シンボルのイメージを損なうことなく、見せたいデザインを強調させることができる。
図29が示すように、一見すると意味をもたない図形であっても、デザイン全体に配置され、それ自体が「柄」という意味をもつ場合には、「柄」の一つひとつをモチーフ領域11S1として扱ってもよい。このとき、モチーフ領域11S1のそれぞれに境界領域11S3を設ける場合は、表面11Sのなかでモチーフ領域11S1が位置しない領域を背景領域11S2として扱える。デザイン全体の外観を考慮して境界領域11S3を設けない場合には、近接する複数のモチーフ領域11S1間を背景領域11S2と見なしてもよいし、表面11Sにおいてモチーフ領域11S1が位置しない領域を境界領域11S3とみなしてもよい。複数のモチーフ領域11S1の最近接点の距離が1mm以下であれば、モチーフ領域11S1同士が近接していると定義できる。
図30は、XY平面上に方位角φで配列された格子構造11Gを示している。図30において格子構造11Gに直交するVII‐VII線における断面形状を図31および図32に示す。
図35が示すように、複数のセルPxは、表面11Sと対向する平面視において、各セルPxの一部に位置する第1格子構造11G1を備えるセルPxを含んでもよい。図3を参照して先に説明した例では、第1格子構造11G1は、各セルPxの全体に位置している。これに限らず、各セルPxにおいて、そのセルPxの一部のみに第1格子構造11G1が位置してもよい。各セルPxにおいて、セルPxの面積に対する第1格子構造11G1の面積の比が面積率である。複数のセルPxには、面積率が互いに異なるセルPxが含まれてもよい。
図36から図38を参照して、光学素子の第2実施形態を説明する。本発明の第2実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、格子構造を備える格子パターンの形状が異なる。そのため以下では、こうした相違点について詳しく説明する一方で、第2実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子に対応する構成には、第1実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。なお、以下に参照する図36から図38では、図示の便宜上、格子構造を平坦面から離れる方向に突出する凸部が並ぶ構造として示している。また、第2実施形態の光学素子では、観察者によって観察される格子構造の色が、ゼロ次回折光よりも高次の回折光に基づく場合もある。そのため以下では、格子構造が発色する効果が最も高い効率で現れる角度をm次とし、m次における回折光をm次回折光とする。
なお、式(13)の右辺において、第1項の単位がμmであり、第2項の単位がcmである。式(13)より、分解能Rは87.24μmである。そのため、各格子20AG,20BG,20CGの幅が85μm以下であれば、人の目の分解能では、各格子20AG,20BG,20CGを分解することができない確実性を高めることができる。このため、各格子20AG,20BG,20CGの幅が85μm以下であると、ジャギーのような像の違和感を抑制しやすい。
図37が示すように、格子パターンは、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPを含んでいる。第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが、第1方向D1に沿って記載の順に並んでいる。これにより、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが1つの格子群GPGを構成している。格子パターンにおいて、複数の格子群GPGが、第1方向D1に沿って繰り返されている。
なお、式(14)において、dは回折格子の周期であり、mは回折次数であり、λは光の波長である。周期および波長の単位はnmである。なお、図37に示される格子構造11Gでは、周期dが上述した格子群GPGの周期Dに相当する。式(14)において、角度αを45°に設定し、波長λを500nmに設定するとき、周期dを5000nmに設定すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
また、周期dを10000nmに変更すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
また、周期dを20000nmに変更すると、以下のように回折次数mと角度βとが決まる。
このように、周期dが大きくなるほど、回折次数の異なる回折光間において、角度βの差が小さくなる。
図38が示すように、格子構造11Gは、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPを含んでいる。第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが、第1方向D1に沿って記載の順に並んでいる。これにより、第1格子構造AGP、第2格子構造BGP、および、第3格子構造CGPが1つの格子群GPGを構成している。格子パターンにおいて、複数の格子群GPGが、第1方向D1に沿って繰り返されている。
(1)複数の格子パターンにおいて、第1方向D1に沿う断面形状が互いに同一である場合と比べて、格子構造11Gから射出される光を観察者が視認することが可能な観察角度を広げることができる。
なお、上述した第2実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
[断面形状]
・格子構造11Gは、断面形状が互いに異なる格子構造を含んでもよい。また、断面形状は、4種以上の格子構造を含んでもよい。また、複数種の格子構造は、格子パターン内においてランダムに位置してもよい。
図39を参照して、光学素子の第3実施形態を説明する。本発明の第3実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子10と比べて、第1層がフィラーを含む点が異なっている。そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第3実施形態の光学素子において、第1実施形態の光学素子に対応する構成には、第1実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。
式(15)を用いることによって、フィラー31によって生じる散乱現象が、レイリー散乱であるか、あるいは、ミー散乱であるかを簡易的に判断することができる。散乱断面積αが0.4以上である場合には、主にレイリー散乱が生じる一方で、散乱断面積αが、0.4よりも大きく、かつ、3未満である場合には、主にミー散乱が生じることが知られている。それゆえに、フィラー31に入射する光が可視域の光であって、例えば光の波長が400nmである場合には、フィラー31の平均粒径が50nm以下であれば、フィラー31によって主にレイリー散乱を生じさせることができる。これにより、第1層11における透明性が高い状態で、第1層11に入射した光をフィラー31によって散乱させることができる。
(3)第1層11がフィラーを含まない場合と比べて、光学素子30から射出される光の射出角の範囲が広がる。そのため、光学素子30が呈する色を観察者が観察することが可能な観察角度の範囲が広がる。
図40および図41を参照して、光学素子の第4実施形態を説明する。本発明の第4実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子10と比べて、第3層13において、第2層12に接する面とは反対側の面の状態が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第3実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また、以下では、第4実施形態における第1例と第2例とを順に説明する。
図40が示すように、光学素子40において、第3層13は、熱可塑性を有した接着層である。第3層13は、第3層13の厚さ方向における中央よりも第2層12に接する面とは反対側の面寄りの部分に分散したフィラー41を含んでいる。第3層13において、第2層12に接する面が表面13Fであり、表面13Fとは反対側の面が裏面13Rである。第3層13において、フィラー41は、上述したように、第3層13の厚さ方向における中央よりも裏面13R寄りに位置することが好ましく、裏面13Rの近傍に位置することが好ましい。
図41が示すように、光学素子40は、第3層13に接する第4層42をさらに備えている。第4層42は、第3層13に接する表面42Fを含んでいる。表面42Fは、凹凸を含んでいる。
(4)フィラー41に起因する凹凸が格子パターンGPに付与されるため、複数の格子構造11Gが、格子構造11Gに対する光の入射角が互いに異なる格子構造11Gを含むことができる。これにより、格子構造11Gにおける射出角も異なるため、格子パターンGPから射出される光が観察される観察角度を広げることができる。
図42および図43を参照して、光学素子の第5実施形態を説明する。本発明の第5実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、第1層から第3層の他に、樹脂層を備える点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第5実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には、第1実施形態の光学素子10と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。
図42が示すように、光学素子50は、第1層11に対して第2層12とは反対側に樹脂層14を備える。樹脂層14は、第1層11に接している。第1層11の硬度は、第3層13の硬度および樹脂層14の硬度よりも高い。なお、これらの層の積層体において、第2層12の厚さは他の層の厚さと比べて薄い。そのため、第2層12の硬度は、光学素子50が有する特性に対してあまり影響しないと見なすことが可能であるとして省略した。
[第2例]
図43は、第1例の構造を含むカード50Cの構造における一例を示している。
図44から図50を参照して、光学素子の第6実施形態を説明する。本発明の第6実施形態の光学素子は、第1実施形態の光学素子と比べて、レリーフ面を備えるレリーフ層を備える点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第6実施形態の光学素子において第1実施形態の光学素子10と対応する構成には、第1実施形態の光学素子10と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また以下では、第6実施形態の光学素子における2つの例を順に説明する。
[光学素子の構成]
図44を参照して、第1例の光学素子における構成を説明する。
図45から図49を参照して、光学素子60の作用を説明する。
図45が示すように、光源LSが放出した入射光ILが光学素子60に入射する角度が入射角αであり、光学素子60が射出する射出光ELが射出される角度が射出角βである。観察者OBの視線方向を含む平面と、光学素子60が広がる平面とが形成する角度が、観察角度θOBである。上述した正反射方向とは、入射角αと同一の大きさを有した射出角βで、射出光ELが射出される方向である。光学素子60において、格子構造11Gは、正反射方向を含む反射方向に有色像を表示する一方で、レリーフ面13Reは、正反射方向とは異なる方向を含む反射方向に白色光による反射像を表示する。光学素子60は、観察角度θOBに応じて、以下の4つの状態のいずれかを有する。
図46が示すように、光学素子60の第1状態では、光学素子60において、第1像P1および第2像P2の両方が消失する。第1状態において、第1像P1を形成するための光における輝度、および、第2像P2を形成するための光における輝度が、観察者OBによって第1像P1および第2像P2が識別されない程度に低い。言い換えれば、観察者OBが光学素子60を観察する観察角度θOBでは、格子構造11Gが反射した光、および、レリーフ面13Reが反射した光の輝度は、いずれも光学素子60が貼られた媒体の反射光と比べて低いため、観察者OBによって第1像P1および第2像P2が識別されない。
図47が示すように、光学素子60の第2状態では、光学素子60において、第1像P1が出現し、第2像P2は消失する。第1像P1が出現するとは、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度よりも高い状態で、光学素子60が、第1像P1を表示することである。そのため、第2状態には、第1像P1が識別される一方で、第2像P2は識別されない状態が含まれる。また、第2状態には、光学素子60において第1像P1および第2像P2が出現し、かつ、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度よりも高い状態が含まれる。
図48が示すように、光学素子60の第3状態では、光学素子60において、第2像P2が出現する。第2像P2が出現するとは、第2像P2における光の輝度が、第1像P1における光の輝度よりも高く、光学素子60が、少なくとも第2像P2を表示することである。そのため、第3状態には、第2像P2が識別される一方で、第1像P1が識別されない状態が含まれる。また、第3状態には、光学素子60が第2像P2および第1像P1を表示し、かつ、第2像P2における光の輝度が、第1像P1における光の輝度よりも高い状態が含まれる。
図49が示すように、光学素子60の第4状態では、光学素子60において、第1像P1および第2像P2の両方が出現する。第1像P1および第2像P2の両方が出現するとは、光学素子60が第1像P1および第2像P2の両方が観察者に識別される。この状態では、第1像P1における光の輝度が、第2像P2における光の輝度とほぼ等しくてもよい。言い換えれば、観察者OBが光学素子50を観察する観察角度θOBでは、格子構造11Gが反射した光と、レリーフ面13Reが反射した光の強度は、観察者OBが識別できる程度である。なお、光学素子60は第1状態から第3状態を有していればよく、光学素子60において、第4状態は必須ではない。
図50を参照して、光学素子60の第2例を説明する。
図50が示すように、第2例の光学素子60は、第1例の光学素子60と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13を備えている。一方で、第2例の光学素子60では、第2層12がレリーフ層である。第2層12は、第2層12の表面12Fとは反対側の面、すなわち裏面12Rとしてレリーフ面12Reを含んでいる。なお、図50では、裏面12Rの全体にレリーフ面12Reが位置しているが、レリーフ面12Reは、裏面12Rの全体に位置してもよいし、裏面12Rの一部のみに位置してもよい。
(6)光学素子60が、有色像と白色光による反射像とを表示するため、2つの像の判別に個人差が生じにくい。それゆえに、光学素子60では、真正の検証に個人差が生じにくく、また、真正を検証する基準が、簡単に記述できる。
なお、上述した第6実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
[レリーフ層]
・光学素子60において、第1層11がレリーフ層であってもよい。すなわち、第1層11のなかで、格子構造11Gを含む面とは反対側の面が、レリーフ面を含んでもよい。こうした場合にも、上述した(6)に準じた効果を得ることができる。
図51から図54を参照して、光学素子の第7実施形態を説明する。本発明の第7実施形態の光学素子は、第6実施形態の光学素子60と比べて、第1層11、第2層12、および、第3層13以外の層がレリーフ層である点が異なる。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第7実施形態の光学素子において、第6実施形態の光学素子60と対応する構成には、第6実施形態と同じ符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。また以下では、第7実施形態の光学素子として4つの例を順に説明する。
図51を参照して、第1例の光学素子を説明する。
図51が示すように、光学素子70は、第1層11、第2層12、および、第3層13を備えている。光学素子70は、レリーフ面71Reを含むレリーフ層71をさらに備えている。レリーフ面71Reは、上述した裏面11Rおよび表面12Fとは異なる面である。レリーフ面71Reは複数の反射面を含み、互いに隣り合う反射面間のピッチが、格子構造11Gのピッチよりも大きい。レリーフ面71Reは、レリーフ層71の裏面71Rに含まれる。
第1例の光学素子70によれば、第1層11、第2層12、および、第3層13から形成される第1多層体と、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73から形成される第2多層体とを個別に製造することができる。また、第1例の光学素子70によれば、接着層73を用いて光学素子70を被接着体に貼り付けることができる。
図52を参照して、第2例の光学素子を説明する。
図52が示すように、光学素子70は、上述した第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。第2例の光学素子70は、さらに、第3層13とレリーフ層71との間に基材74を備えている。基材74において互いに隣り合う一対の面では、第3層13が一方の面に位置し、レリーフ層71が他方の面に位置している。基材74は光透過性を有している。基材74は、光学素子70の製造時に、基材74に対して形成される第1層11およびレリーフ層71の支持層として機能することができる。第2例の光学素子70は、レリーフ層71に対して基材74側から観察される。
図53を参照して、第3例の光学素子を説明する。
図53が示すように、光学素子70では、上述した第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。第3例の光学素子70は、さらに、第1基材75と第2基材76とを備えている。第1基材75は、第3層13とレリーフ層71との間に位置している。第3層13は接着層として機能し、これにより、第1層11および第2層12から構成される多層体が第3層13によって第1基材75に接着されている。接着層73は、第2基材76に接着されている。第1基材75は、光透過性を有する。一方で、第2基材76は、光透過性を有してもよいし、光透過性を有しなくてもよい。
図54を参照して、第4例の光学素子を説明する。
図54が示すように、光学素子70は、第1例の光学素子70と同様、第1層11、第2層12、および、第3層13に加えて、レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備えている。光学素子70は、さらに、第1基材75、および、第2基材76を備えている。第3層13は接着層として機能し、第3層13はレリーフ層71に接着している。接着層73は、第2基材76に接着している。
(8)第1層11、第2層12、および、第3層13以外の層がレリーフ面を備えるレリーフ層であるため、レリーフ層における設計の自由度が高まる。
なお、上述した第7実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
[基材]
・第1例から第4例の光学素子70において、格子構造11Gと対向する平面視において、各基材は、第1多層体および第2多層体の少なくとも一方よりも小さくてもよい。
図55を参照して、光学素子を備える転写箔を説明する。本発明の第8実施形態では、転写箔が備える光学素子が、第6実施形態の光学素子60における第1例である場合を、転写箔の一例として説明する。
[転写箔]
・格子構造11Gを含む第1転写箔と、レリーフ面13Reを含む第2転写箔とを準備し、2つの転写箔を用いて光学素子を形成することが可能である。この場合には、光学素子の厚さ方向から見て、第1転写箔が含む格子構造11Gと、第2転写箔が含むレリーフ面13Reとが重なるように、被転写体に対して第1転写箔の一部と第2転写箔の一部とを転写すればよい。この場合には、光学素子を形成するときに、第1転写箔の一部が転写される位置と、第2転写箔の一部が転写される位置との位置合わせが必要である。そのため、光学素子において、偽造に対する耐性が高められる。
・転写箔は、上述した光学素子60に代えて、第1実施形態の光学素子10、第2実施形態の光学素子20、第3実施形態の光学素子30、および、第4実施形態の光学素子40を含んでもよい。また、転写箔は、上述した光学素子60に代えて、第6実施形態における第2例の光学素子60、第7実施形態における第1例および第2例の光学素子70を含んでもよい。
図56から図58を参照して、第9実施形態の光学素子を説明する。本発明の第9実施形態では、第6実施形態と比べて、第6実施形態におけるレリーフ面を、格子構造と同じ面に備える点が異なっている。
図58(a)が示すように、セルPxとセルPxrとは市松状に配置されてもよい。また、図58(b)が示すように、セルPxとセルPxrとはストライプ状に配置されてもよい。また、図58(c)が示すように、セルPxとセルPxrとは、1つのセルPxrの周りを8つのセルPxによって取り囲むように配置されてもよい。なお、領域Aにおいて、セルPxおよびセルPxrの配置、および、セルPxの面積とセルPxrの面積との比は、光学素子90が表示する像に応じて変更可能である。例えば、領域Aにおいて第1像P1の一部を第2像P2の一部よりも強調したい場合には、領域AにおいてセルPxが占める割合をセルPxrが占める割合よりも大きくしてもよい。
図59および図60を参照して、本発明の第10実施形態の認証体を説明する。以下では、認証体の実例であるカードについて説明する。カードの実例は、IDカードや免許証、ライセンスカード、メンバーカード、クレジットカードである。なお、カードは、第7実施形態の光学素子70における第3例をカードの一部として含んでいる。
図59が示すように、カード100は、カード100の表面100Fと対向する平面視において、2次元的に広がる板状を有している。カード100は、表面100Fを介して、第1画像101、第2画像102、および、第3画像103を表示する。また、カード100は、表面100Fを介して第1像P1および第2像P2を表示する。
図60が示すように、認証体の一例であるカード100は、光学素子70を備えている。光学素子70は、識別情報を覆っていてもよい。カード100が備える光学素子70では、第1層11、第2層12、および、第3層13を備える第1多層体が、剥離層78をさらに備えている。剥離層78は、第1層11を覆っている。レリーフ層71、反射層72、および、接着層73を備える第2多層体は、剥離層79をさらに備えている。剥離層79は、レリーフ層71を覆っている。光学素子70において、第2多層体は、第1基材75によって覆われている。
[認証体]
・認証体は、カードに限らず、例えばパスポートなどの所有者を認証するために用いられる他の認証体として具体化されてもよい。
・認証体は、上述した光学素子70に代えて、第1実施形態の光学素子10、第2実施形態の光学素子20、第3実施形態の光学素子30、第4実施形態の光学素子40、第6実施形態の光学素子60、および、第9実施形態の光学素子90を含んでもよい。また、認証体は、上述した光学素子70に代えて、第7実施形態の第1例、第2例、および、第4例における光学素子70を備えてもよい。
図61から図68を参照して、本発明の第11実施形態の認証体を説明する。以下では、認証体の一例としてカードの他の例を説明する。
図61を参照して、カードの構成を説明する。カードの一例として、第1実施形態の光学素子10を備えるカードについて説明するが、カードは、第1実施形態の光学素子10に限らず、第2実施形態から第9実施形態の各々における光学素子を備えてもよい。
図62から図68を参照して、カード120の作用を説明する。以下では、カード120の第1例における作用と、カード120の第2例における作用とを順に説明する。なお、カード120の第1例は、格子構造11Gとレリーフ面とを含む光学素子を備え、かつ、観察者の目視によってカード120の真正が検証される構成である。これに対して、カード120の第2例は、格子構造11Gを含む一方で、レリーフ面を含まない光学素子を備え、かつ、検証器によってカード120の真正が検証される構成である。
図62から図65を参照して、カード120の第1例における作用を説明する。
図62は、観察者OBが目視によってカード120の真正を検証する方法を模式的に示している。
図66から図68を参照して、カード120の第2例における作用を説明する。
図66は、検証器Vによってカード120の真正を検証する方法を模式的に示している。
これに対して、偽のカード200は、第3像P3の一部としてQRコードP3aを示すと同時に、第1像P1も表面200Fを介して表示している。ここで、検証器Vは、上述した観察条件において、カード100が表示するQRコードP3aを読み取った場合に、カード120が真正であると判定する。この場合には、カード120は、第3像P3の一部としてQRコードP3aを表示し、かつ、QRコードP3aが他の像とは重ならないため、検証器Vは、カード120を真正のカード120であると判定する。これに対して、カード200は、第3像P3の一部としてQRコードP3aを表示するものの、カード120の厚さ方向から見て、QRコードP3aに重なるように第1像P1を表示する。言い換えれば、検証器Vが読み取った情報には、QRコード以外の情報も含まれる。そのため、検証器Vは、カード200が偽物であると判定する。
以下、光学素子の形成に用いることが可能な材料を説明する。以下では、光学素子のなかで、第1層11、第2層12、および、第3層13の各々を形成するための材料を説明する。
第1層11および第3層13の各々を形成するための材料には、以下の各種の樹脂を本質的に含むことができる。各層を形成するための材料には、例えば、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、アセタール系樹脂、および、セルロース系樹脂などを用いることができる。第1層および第3層の形成材料には、これらの樹脂のうちの1つのみを用いてもよいし、2つ以上を混合または、複合して用いてもよい。第1層11および第3層13を形成するための材料は、硬化剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、および、光安定化剤などの少なくとも1つを含んでもよい。
第2層12を形成するための材料には、上述したように、光透過性を有した誘電体を用いることができる。誘電体には、金属、金属化合物、ケイ素化合物、または、これらの混合物を用いることができる。誘電体は、例えば、ZnS、ZnO、ZnSe、SiNx、SiOx、TixOx、Ta2O5、Cr2O3、ZrO2、Nb2O5、および、ITOとできる。
[試験例1]
以下、実施例1を説明する。実施例1は、上述した第10実施形態の認証体に対応する試験例である。試験例1では、第1層11を含む第1転写箔と、レリーフ層71を含む第2転写箔とを準備した。そして、第1転写箔の一部を第1基材75に転写し、かつ、第2転写箔の一部を第2基材76に転写した。第2基材76としてレーザー光線の照射によって発色する基材を用いた。第1基材75と第2基材76とをラミネートすることによって、試験例1の認証体としてIDカードを得た。
[剥離層用インキ]
アクリル樹脂 70.0質量部
メチルエチルケトン 30.0質量部
[第1層用インキ/レリーフ層用インキ]
紫外線硬化型アクリルアクリレート樹脂 70.0質量部
メチルエチルケトン 30.0質量部
[第3層用インキ/接着層用インキ]
ウレタン樹脂 50.0質量部
シリカフィラー 10.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
以下、試験例2を説明する。試験例2の転写箔は、上述した第8実施形態の転写箔に対応する試験例である。試験例1では、まず、試験例1と同じ支持層82を準備した。支持層が備える1つの面に、試験例1と同様の方法で、剥離層83を形成した。そして、試験例1と同様の方法で、剥離層83上に第1層11を形成し、かつ、第1層11上に第2層12を形成した。
(付記1)
第1層と、前記第1層に接する第2層と、前記第2層に接する第3層とを備え、各層が透光性を有する光学素子であって、
前記第1層は第1の屈折率を有する樹脂製の層であり、前記第2層に接する第1面を有し、前記第1面の少なくとも一部に凹部および凸部によって形成された格子構造を含み、
前記第2層は前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率を有する誘電体製の層であり、前記格子構造に追従した凹凸状を有し、
前記第3層は、前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率を有する樹脂製の層であり、
前記第1面は凹凸面を有し、
前記格子構造は第1格子構造と第2格子構造とを含み、
前記凹凸面は、前記第1格子構造が位置する第1領域と、前記第1面に対向する平面視において前記第1領域に近接し、前記第2格子構造が位置する第2領域とを含み、
前記第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角とが互いに平行か、または直交し、
前記第1格子構造および前記第2格子構造の格子周期が、250nm以上500nm以下であり、
第1領域と第2領域の平均色彩値L*a*b*の色差ΔE*abが13以上である
光学素子。
前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域をさらに備え、
前記第2層に対して前記第3層とは反対側に位置する光源から前記光学素子に対し光が照射されている状態を前記光源の側からある観察角度で観察するとき、前記光学素子は、前記第3領域が呈する色が、前記第1領域が呈する色、および、前記第2領域が呈する色の両方と異なる状態を有する
付記1に記載の光学素子。
前記第1領域および前記第2領域の少なくとも一方において、前記格子構造の方位角、前記格子構造の格子周期、前記格子構造の構造高さ、および、前記格子構造の凹部と凸部との比率のいずれかが変化している
付記1または2に記載の光学素子。
前記第3領域は、前記第1層の前記第1面において平坦面によって形成され、
前記平坦面の平均粗さSaが、20μm以下である
付記2に記載の光学素子。
前記第3領域は、前記第3領域に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造、または、反射防止構造を含む
付記2に記載の光学素子。
前記第3領域は、一定な幅を有する
付記2に記載の光学素子。
前記第3領域は、第1部分と第2部分とを含み、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅と異なる
付記2に記載の光学素子。
前記第3領域の幅は、30μm以上3000μm以下である
付記2に記載の光学素子。
前記第1領域および前記第2領域は、各々0.1mm2以下の面積を有するように区画された複数のセルをそれぞれ含み、
前記第1領域および前記第2領域は、前記セルの少なくとも一部に前記格子構造が位置する前記セルを含む
付記1から8のいずれか一つに記載の光学素子。
各セルにおいて、前記第1領域および前記第2領域の少なくとも一方は、面積率が互いに異なるセルを含む
付記9に記載の光学素子。
前記第1領域および前記第2領域の少なくとも一方は、前記面積率が漸次的に変化する部分を含む
付記10に記載の光学素子。
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層の硬度が、前記樹脂層の硬度および前記第3層の硬度よりも高い
付記1から11のいずれか一つに記載の光学素子。
前記第1層は、紫外線硬化性樹脂によって形成され、
前記第1層の厚さが、1μm以上10μm以下であり、
前記樹脂層および前記第3層は、熱可塑性樹脂によって形成される
付記12に記載の光学素子。
前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層、前記第3層、および、前記樹脂層の少なくとも1つがフィラーを含み、
前記フィラーの平均粒径は、400nm以下である
付記1から11に記載の光学素子。
請求項1から14のいずれか一つに記載の光学素子を備え、前記光学素子が識別情報を覆う
認証体。
Claims (14)
- 第1層と、前記第1層に接する第2層と、前記第2層に接する第3層とを備え、各層が透光性を有する光学素子であって、
前記第1層は第1の屈折率を有する樹脂製の層であり、前記第2層に接する第1面を有し、前記第1面の少なくとも一部に凹部および凸部によって形成された格子構造を含み、
前記第2層は前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率を有する誘電体製の層であり、前記格子構造に追従した凹凸状を有し、
前記第3層は、前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率を有する樹脂製の層であり、
前記第1面は凹凸面を有し、
前記格子構造は第1格子構造と第2格子構造とを含み、
前記凹凸面は、前記第1格子構造が位置する第1領域と、前記第1面に対向する平面視において前記第1領域に接するまたは前記第1領域から離れて配置され、前記第2格子構造が位置する第2領域とを含み、
前記第1格子構造の方位角と、前記第2格子構造の方位角とが互いに等しく、
前記第1格子構造および前記第2格子構造の格子周期が、250nm以上500nm以下であり、
前記第1格子構造の格子周期と、前記第2格子構造の格子周期との差が、20nm以上であり、
前記第1領域に位置する格子パターンは、第1方向に沿って繰り返される格子群を含み、
前記格子群は、前記第1格子構造、第3格子構造、および、第4格子構造を含み、各格子群において、前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造が、前記第1方向に沿って並び、
前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造において、格子周期が互いに異なり、前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造における前記格子周期の差が20nmよりも小さい
光学素子。 - 前記第1領域が含む前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造の少なくとも1つにおける高さは、前記第2領域が含む前記第2格子構造における高さと異なる
請求項1に記載の光学素子。 - 前記第2領域は、前記第1領域から離れて配置され、
前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域をさらに備え、
前記第2層に対して前記第3層とは反対側に位置する光源から前記光学素子に対し光が照射されている状態を前記光源の側からある観察角度で観察するとき、前記光学素子は、前記第3領域が呈する色が、前記第1領域が呈する色、および、前記第2領域が呈する色の両方と異なる状態を有する
請求項1または2に記載の光学素子。 - 前記第3領域は、前記第1層の前記第1面において平坦面によって形成され、
前記平坦面の平均粗さSaが、20μm以下である
請求項3に記載の光学素子。 - 前記第3領域は、前記第3領域に入射した光の正反射方向とは異なる方向に指向性を有した散乱構造、または、反射防止構造を含む
請求項3に記載の光学素子。 - 前記第3領域は、一定な幅を有する
請求項3から5のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第3領域は、第1部分と第2部分とを含み、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅と異なる
請求項3から5のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第3領域の幅は、30μm以上3000μm以下である
請求項3から7のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第1領域および前記第2領域は、各々0.1mm2以下の面積を有するように区画された複数のセルをそれぞれ含み、
前記第1領域および前記第2領域は、前記セルの少なくとも一部に前記格子構造が位置する前記セルを含む
請求項1から8のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層の硬度が、前記樹脂層の硬度および前記第3層の硬度よりも高い
請求項1から9のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第1層は、紫外線硬化性樹脂によって形成され、
前記第1層の厚さが、1μm以上10μm以下であり、
前記樹脂層および前記第3層は、熱可塑性樹脂によって形成される
請求項10に記載の光学素子。 - 前記第1層に対して、前記第2層とは反対側に位置する樹脂層をさらに備え、
前記第1層、前記第3層、および、前記樹脂層の少なくとも1つがフィラーを含み、
前記フィラーの平均粒径は、400nm以下である
請求項1から9のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造は、前記第1方向に沿う断面構造において、1つの山部が2つの谷部によって挟まれた形状を有し、一方の前記谷部と前記山部とを結ぶ斜面に対する接線と、前記谷部を結ぶ直線とが形成する角度が接線角度であり、
前記第1格子構造、前記第3格子構造、および、前記第4格子構造において、前記接線角度が互いに異なる
請求項2に記載の光学素子。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載の光学素子を備え、前記光学素子が識別情報を覆う
認証体。
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