JP7580604B2 - 液状金属るつぼを用いた高融点金属酸化物の還元システムおよび方法 - Google Patents
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Description
2Mg+TiO2→Ti+2MgO
Ti+Ni+2MgO→TiNi(合金)+2MgO(分離)
2Mg+MgTiO3→Ti+3MgO
Ti+Ni+3MgO→TiNi(合金)+3MgO(分離)
2Mg+TiO2→Ti+2MgO
Ti+Ni+2MgO→TiNi(合金)+2MgO(分離)
2Mg+MgTiO3→Ti+3MgO
Ti+Ni+3MgO→TiNi(合金)+3MgO(分離)
*第1重量:初期電解槽に投入されたCuTiの液状金属るつぼの総量+金属酸化物に含まれたTiの化学理論的還元量
**第2重量:収得されたCuTiの総量
Claims (20)
- 金属酸化物から金属M1を還元させるためのシステムであって、
電解槽と、
前記電解槽の底面から収容され、互いに共晶相(eutectic phase)を形成する金属M1と金属M2の液状金属合金を含む液状金属るつぼと、
前記液状金属るつぼの上に混入しない状態で層を形成しつつ前記電解槽に収容される液状の電解質と、
前記金属酸化物、金属M2、および還元剤金属M3を含む固体原料モジュールと、を含み、
前記固体原料モジュールが前記液状金属るつぼに到達して溶融されつつ前記金属酸化物と還元剤金属M3が反応してM1を還元させ、還元されたM1とM2が液状金属合金を形成しつつ液状金属るつぼに連続的に混入され、
M 1 は、Ti、Zr、Hf、W、Fe、Ni、Zn、Co、Mn、Cr、Ta、Ga、Nb、Sn、Ag、La、Ce、Pr、Nd、Nb、Pm、Sm、Eu、Al、V、Mo、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ac、Th、Pa、U、Np、Pu、Am、Cm、Bk、Cf、Es、Fm、Md、およびNoからなる群から選択される1種であり、
M 2 は、Cu、Ni、Fe、Sn、Zn、Pb、Bi、Cd、およびこれらの合金から選択される1種以上であり、
M 3 は、Ca、Mg、Al、およびこれらの合金から選択される1種以上である、システム。 - 前記還元されたM1とM2が形成した液状金属合金を回収し、電解精錬して金属M1を収得する電解精錬部をさらに含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記金属酸化物は、M1 xOzおよびM1 xM3 yOzからなる群から選択される少なくとも1つを含む、請求項1に記載のシステム。
ここで、x、yはそれぞれ1ないし3の実数であり、zは1ないし4の実数である。 - 前記固体原料モジュールは、前記金属酸化物および前記還元剤金属M3を含むコア層と、前記コア層を覆いM2で構成されたシェル層と、を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記固体原料モジュールは、前記金属酸化物を含むコア層と、前記コア層の外殻表面を覆いつつコーティングされたシェル層と、を含む多層構造であり、
前記シェル層は、前記金属M2および前記金属M3の合金相を含む、請求項1に記載のシステム。 - 前記固体原料モジュールが電解質を通じて前記液状金属るつぼに到達するまで前記電解槽内から垂直に下降するように構成され、
前記電解槽の深さに対して0.1%ないし10%の距離/分(min)の速度で下降する、請求項1に記載のシステム。 - 前記固体原料モジュールが溶融されつつ金属酸化物と還元剤金属M3が反応してM1を還元させるとき、酸化物M3 aObが生成され、前記M3 aObは前記電解質に比べて相対的に低い比重を有する、請求項1に記載のシステム。
ここで、aおよびbは、それぞれ1ないし3の実数である。 - 前記M3 aObは、密度差によって前記電解質の上に浮上して副産物層を形成する、請求項7に記載のシステム。
- 工程進行度によって前記電解槽の下部を通じて前記液状金属合金を連続的に収得し、前記電解槽の上部を通じて前記副産物層を連続的に回収して、連続工程が可能なようにする、請求項8に記載のシステム。
- 前記副産物層を回収し、M1 xOzと混合して、M1 xM3 yOzを製造するリサイクル装置をさらに含む、請求項9に記載のシステム。
- 前記金属酸化物と還元剤金属の反応は、不活性気体中および/または大気中においてなされる、請求項1に記載のシステム。
- 前記コア層が前記金属酸化物粉末および前記還元剤金属M3粉末を含む粉末の混合物からなる、請求項4に記載のシステム。
- 前記コア層が前記金属酸化物からなる第1コアおよび前記第1コアの外殻表面を覆いつつコーティングされており、前記金属M3からなる第2コアを含む多層構造である、請求項4に記載のシステム。
- 前記固体原料モジュールが前記シェル層を覆っており、前記コア層および/または前記シェル層に含まれた金属の酸化を防止するための酸化防止層をさらに含む、請求項4に記載のシステム。
- 前記酸化防止層がLiF、MgF2、CaF2、BaF2、CaCl2、MgCl2、MgO、CaO、BaO、Al2O3、およびSiO2からなる群から選択される1種以上を含む、請求項14に記載のシステム。
- 前記電解質がアルカリ金属およびアルカリ土類金属群から1つまたは2つ以上選択される金属のハロゲン化物の溶融塩を含む、請求項1に記載のシステム。
- 金属酸化物から金属M1を還元させる方法であって、
電解槽を備える段階と、
液状の電解質を前記電解槽に投入する段階と、
前記電解槽に互いに共晶相(eutectic phase)を形成する金属M1と金属M2を投入して前記電解質に比べて相対的に高い比重を有し、前記電解質の下において混入しない状態で層を形成しつつ前記電解槽に収容される液状金属るつぼを製造する段階と、
前記電解槽に前記金属酸化物、金属M2、および還元剤金属M3を含む固体原料モジュールを前記電解質を通じて前記液状金属るつぼに到達するまで移動させる段階と、
前記固体原料モジュールの金属酸化物から由来した金属M1およびM2を含む液状金属合金を収得する段階と、を含み、
M 1 は、Ti、Zr、Hf、W、Fe、Ni、Zn、Co、Mn、Cr、Ta、Ga、Nb、Sn、Ag、La、Ce、Pr、Nd、Nb、Pm、Sm、Eu、Al、V、Mo、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ac、Th、Pa、U、Np、Pu、Am、Cm、Bk、Cf、Es、Fm、Md、およびNoからなる群から選択される1種であり、
M 2 は、Cu、Ni、Fe、Sn、Zn、Pb、Bi、Cd、およびこれらの合金から選択される1種以上であり、
M 3 は、Ca、Mg、Al、およびこれらの合金から選択される1種以上である、方法。 - 収得された金属M1およびM2を含む金属合金を電解精錬して金属M1を収得する段階をさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記固体原料モジュールを移動させる段階および/または前記液状金属合金を収得する段階において、副産物である酸化物M3 aObが生成され、前記M3 aObが前記電解質に比べて相対的に低い比重を有し、
電解質の上において層を形成するM3 aObを連続的に回収し、前記M3 aObにM1 xOzを添加および混合して、前記副産物であるM3 aObおよび添加されたM1 xOzから由来するM1 xM3 yOzで表される金属酸化物を製造する段階をさらに含む、請求項17に記載の方法。 - 前記金属合金の全重量に比べ還元剤金属M3の残存含量が0.1重量%以下であり、酸素含有量が1,000ppm以下である、請求項17に記載の方法。
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