JP7523779B2 - フィードバックデフレクターシステム - Google Patents
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Description
粒子線ビームの照射位置を設定値から現在位置に補正する補正デフレクターと、
前記粒子線ビームを供給する加速器の主偏向電磁石の励磁電流波形が最大値に達するまでの時間帯で、前記補正デフレクターに前記主偏向電磁石の励磁電流波形と相似する励磁電流波形を形成させる駆動電源回路と、
からなることを特徴とするフィードバックデフレクターシステム。
(2)
前記駆動電源回路によって、前記補正デフレクターに、前回の粒子線ビーム照射時のガン標的の3次元ドーズプロフィールから粒子線ビーム照査前にガン標的プロフィールの位置に補正する磁場強度を発生させることで、前記粒子線ビームの照射位置を設定値から現在位置に補正することを特徴とする(1)に記載のフィードバックデフレクターシステム。
とした。
(A)
充電コンデンサーCの充電用サイリスタScをONにして直流高圧電源V0から充電コンデンサーCに充電する。
充電コンデンサーCが所定(ビーム照射全体を司る制御系が決定する)の電圧に達したら充電用サイリスタScをOFFする。充電用サイリスタScにトリガーによりOFFする機能が付いていな場合は、破線で囲まれた付属回路(S1 OFF circuit)により充電用サイリスタScを強制OFFする。
a.充電用サイリスタScをOFFしたいタイミングでScOFF回路用サイリスタS1をONする。
b.充電用サイリスタScは逆電流によりOFFする。又、ScOFF回路用サイリスタS1を流れる電流はScOFF回路用コンデンサーC1が充電されるとゼロとなり、その時点でScOFF回路用サイリスタS1はOFFとなる。
c.電荷放電用サイリスタS2をONにしてScOFF回路用コンデンサーC1に充電された電荷をC1電荷放電用抵抗R1を通して放電する。
d.ScOFF回路用コンデンサーC1の電荷がゼロとなったら電荷放電用サイリスタS2を流れる電流はゼロとなるのでC1電荷放電用サイリスタS2もOFFとなる。
e.上記の一連の動作は次に充電コンデンサーCの充電の為に充電用サイリスタScをONするまでに終了する。
補正デフレクターに正電流(即ち図3中の補正デフレクターにおいて上から下への向き)を流したいタイミング(ビーム照射全体を司る制御系が決定する)でサイリスタS0及び、補正デフレクター順方向電流発生用サイリスタSp1、Sp2を同時にONする。逆に負電流を流したい時(即ち図中のLで下から上への向き)はサイリスタS0及び、補正デフレクター逆方向電流発生用サイリスタSn1、Sn2を同時にONする。
充電コンデンサーCの電圧が減少してゼロ電位になった瞬間、サイリスタS0をOFFにする。この後、補正デフレクターに流れる電流は臨界減衰用抵抗Rにより速やかにゼロとなる。
これで一連の補正デフレクターを含む電源回路の周期動作は終了し、再び(A)に戻る。
V0 直流高圧電源
Rc 充電抵抗
S1 ScOFF回路用サイリスタ
C1 ScOFF回路用コンデンサー
S2 C1電荷放電用サイリスタ
R1 C1電荷放電用抵抗
Sc 充電用サイリスタ
S0 サイリスタ
C 充電コンデンサー
D 臨界減衰用ダイオード
R 臨界減衰用抵抗
Sp1、Sp2 補正デフレクター順方向電流発生用サイリスタ
Sn1、Sn2 補正デフレクター逆方向電流発生用サイリスタ
Claims (2)
- 粒子線ビームの照射位置を、前回の設定値から測定されたガン標的の現在位置にフィードバックして補正する補正デフレクターと、
前記粒子線ビームを供給する加速器の主偏向電磁石の励磁電流波形が最大値に達するまでの時間帯で、前記補正デフレクターに前記主偏向電磁石の励磁電流波形と相似する前記補正のための励磁電流波形を形成させる駆動電源回路と、
からなることを特徴とするフィードバックデフレクターシステム。 - 前記駆動電源回路によって、
前記補正デフレクターに、
前回の粒子線ビーム照射時のガン標的への粒子線ビームの3次元ドーズプロフィールから前回の次の粒子線ビーム照査前にガン標的プロフィールに補正する磁場強度を発生させることで、
前記粒子線ビームの照射位置を前記前回の設定値から前記現在位置に補正することを特徴とする請求項1に記載のフィードバックデフレクターシステム。
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Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006082651A1 (ja) | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 粒子線照射方法およびそれに使用される粒子線照射装置 |
JP2006310013A (ja) | 2005-04-27 | 2006-11-09 | High Energy Accelerator Research Organization | 全種イオン加速器及びその制御方法 |
WO2011058833A1 (ja) | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射システムおよび粒子線照射方法 |
US20110233423A1 (en) | 2008-05-22 | 2011-09-29 | Vladimir Yegorovich Balakin | Multi-field charged particle cancer therapy method and apparatus |
JP2012011038A (ja) | 2010-07-01 | 2012-01-19 | Hitachi Ltd | 偏向装置および粒子線治療装置 |
JP2012029821A (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム及び粒子線照射方法 |
WO2012120615A1 (ja) | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
WO2013157116A1 (ja) | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 三菱電機株式会社 | ガントリー型粒子線照射装置、およびこれを備えた粒子線治療装置 |
JP2016144573A (ja) | 2015-02-09 | 2016-08-12 | 株式会社日立製作所 | 画像処理装置および粒子線治療装置 |
JP2017029235A (ja) | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム輸送システム、及びそのセグメント |
JP2017196140A (ja) | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム輸送装置および照射治療装置 |
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006082651A1 (ja) | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 粒子線照射方法およびそれに使用される粒子線照射装置 |
JP2006310013A (ja) | 2005-04-27 | 2006-11-09 | High Energy Accelerator Research Organization | 全種イオン加速器及びその制御方法 |
US20110233423A1 (en) | 2008-05-22 | 2011-09-29 | Vladimir Yegorovich Balakin | Multi-field charged particle cancer therapy method and apparatus |
WO2011058833A1 (ja) | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射システムおよび粒子線照射方法 |
JP2012011038A (ja) | 2010-07-01 | 2012-01-19 | Hitachi Ltd | 偏向装置および粒子線治療装置 |
JP2012029821A (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム及び粒子線照射方法 |
WO2012120615A1 (ja) | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
WO2013157116A1 (ja) | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 三菱電機株式会社 | ガントリー型粒子線照射装置、およびこれを備えた粒子線治療装置 |
JP2016144573A (ja) | 2015-02-09 | 2016-08-12 | 株式会社日立製作所 | 画像処理装置および粒子線治療装置 |
JP2017029235A (ja) | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム輸送システム、及びそのセグメント |
JP2017196140A (ja) | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム輸送装置および照射治療装置 |
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