JP5395912B2 - 粒子線照射システム - Google Patents
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Description
本発明は、このような課題を解決することを目的とし、スキャニング照射法による粒子線照射システムにおいて、より高速で、より精度の高い線量分布を与えることを目的とする。
図2は、この発明の実施の形態1による粒子線照射システム全体の概略構成を示す鳥瞰図、図3は図2の鳥瞰図の全体構成に制御装置などを加えて示す実施の形態1による粒子線照射システムの概略構成のブロック図である。実施の形態1による粒子線照射システムは、図2および図3に示すように、粒子線発生部10と、粒子線輸送部20と、2つの粒子線照射部30A、30Bなどを備えている。図2では、代表的に粒子線照射部が2つ備えられているシステムを示したが、粒子線照射部はさらに多くあっても良く、また1つで
あっても良い。図3では簡単のため粒子線照射部30として粒子線照射部を一つのみとしている。放射線安全管理などの運用上の都合から粒子線発生部10と、粒子線照射部30A、30Bとは、遮蔽された部屋に設置される。粒子線輸送部20は、粒子線発生部10と、各粒子線照射部30A、30Bとを連結する。粒子線輸送部20は、粒子線発生部10で発生した粒子線を粒子線照射部30A、30Bのそれぞれに輸送する粒子線輸送路21、22を有する。粒子線輸送部20は、粒子線の方向を変えるための偏向電磁石50を備え、真空ダクト内を粒子線が通過するように構成される。粒子線照射部30A、30Bは、粒子線PBを患者の目標部位へ照射するように構成される。以後、粒子線照射部30A、30Bは、粒子線照射部30として説明する。
図6は、この発明の実施の形態2による粒子線照射システム全体の概略構成のブロック図である。図6において、図3と同一符号は同一または相当する部分を示す。この実施の形態2は、図6に示すように、変位位相検出部90を設け、この変位検出部90により検出される患部の位置の変位の信号を照射制御計算部70に出力するものである。変位位相検出部90では、患者の呼吸測定または照射目標の位置検出を行ない、これらの呼吸測定または照射目標の位置検出に基づき、患部の位置判定を行なう。照射制御計算部70では、判定された患部の移動周期の位相に同期して粒子線の照射を行うように照射制御部80を制御する。患者の呼吸等により、照射目標の位置が変化するため、粒子線の照射位置が変化し、照射精度が低下する。呼気時等には照射目標の位置の変化が小さいため、この期間に照射を行うと精度が高い照射ができる。本実施の形態2では、さらに、呼気1回で、XY全照射領域に亘って照射を行う。これにより非常に精度が高い照射が可能となる。
図9は、この発明の実施の形態3による粒子線照射システムの概略構成を示すブロック図である。図9において、図3および図6と同一符号は同一または相当する部分を示す。実施の形態1および実施の形態2では、リッジフィルタ43により深さ方向に一定のSOBPを形成するようにした。患部の形状は多様なため、深さ方法に一定のSOBPを形成するだけでは適用範囲が狭い。本実施の形態3では、図9に示すように、エネルギー幅拡大機器として、コーンリッジフィルタ431とボーラス46を用いている。コーンリッジフィルタ431は、非常に細い錘状体をビームの進行方向(Z方向)が軸となるよう、ビームの進行方向と垂直なXY面内に多数配置して形成される。図9に概念的に示すように、例えば錘状体の高さを変化させることで、通過する粒子線が受ける影響がXY面内で異なり、位置によってエネルギー幅の異なる粒子線を照射目標に照射することができる。
図13は、この発明の実施の形態4による粒子線照射システムの概略全体構成のブロック図である。図13において、図3、図6および図9と同一符号は同一または相当する部分を示す。粒子線のエネルギーを変更せずに、深さ方向に所定の照射領域を形成する、すなわちSOBPを形成するための構成は、種々の構成が可能である。図13においては、リッジフィルタ43とボーラス46を用いて深さ方向の照射領域を形成する構成としている。さらに、照射目標の横方向の形状に合わせた照射領域を形成するために、マルチリーフコリメータ(MLC)や患者コリメータといったコリメータを用いても良い。
図14は、本発明の実施の形態5による粒子線照射システムの動作を説明する線図である。図14(a)、(b)、および(c)は、図8(a)、(b)、および(c)と同様の図である。図14(d)は、図14(c)の拡大された時間軸に対応して、加速器12から出射されるビーム強度の時間変化を示すものであり、加速器から粒子線を出射させる状態を示している。例えば、実施の形態2において、1ゲートで全照射領域を照射するようにしたが、加速器から粒子線を出射させるタイミングを、照射のタイミングと同期させるものが本実施の形態5による粒子線照射システムの動作である。
12:加速器 13:加速器制御器
14:照射線量制御器 15:スポットサイズ制御器
16:ビーム走査制御器 20:粒子線輸送部
30、30A、30B:粒子線照射部 32:治療台
40:照射ノズル
41、41a、41b:走査用偏向電磁石
42:線量モニタ
43:リッジフィルタ(エネルギー幅拡大機器)
431:コーンリッジフィルタ(エネルギー幅拡大機器)
44:ビーム径変更器 60:治療計画部
70:照射制御計算部 80照射制御部
90:変位位相検出部 PB:粒子線
Claims (3)
- 加速器を備えた粒子線発生部と、この粒子線発生部で発生された粒子線を照射目標に照射する照射ノズルと、照射する粒子線を制御する照射制御部と、上記照射目標の変位の位相を検出する変位位相検出部と、治療計画部と、上記照射目標に粒子線を照射する照射パラメータを計算する照射制御計算部と、を有し、
上記照射ノズルが、上記粒子線の照射方向に直交する横方向の2次元に上記粒子線を偏向して走査する走査用偏向電磁石と、上記粒子線を通過させることにより、通過後の上記粒子線のエネルギー幅を拡大して、上記粒子線発生部で発生される粒子線のエネルギーを変更させることなく上記照射目標の上記粒子線の照射方向である深さ方向にSOBPを形成するためのエネルギー幅拡大機器と、を備えた粒子線照射システムにおいて、
上記エネルギー幅拡大機器は、当該エネルギー幅拡大機器のパラメータを変更することなく上記照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘って上記深さ方向のSOBPを形成するよう構成されており、
上記変位位相検出部は、上記照射目標の変位が所定の位相にある間、上記照射目標に上記粒子線の照射を許可するゲート信号を出力し、
上記照射制御部は、上記ゲート信号のうち一つのゲート信号が出力されている間に、上記粒子線が上記照射目標に形成する照射スポットを、上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させるよう上記走査用偏向電磁石を制御するとともに、
上記治療計画部から受け取るデータにより、上記ステップ状に移動する照射スポットの各々の照射スポットにおける照射パラメータを計算する上記照射制御計算部は、上記変位位相検出部から受け取るデータにより、上記照射目標の移動周期の位相を評価し、上記一つのゲート信号間に、上記照射目標の横方向の照射領域全体を照射するための上記照射パラメータを演算して、この演算された照射パラメータにより照射するためのデータを上記照射制御部に送出することを特徴とする粒子線照射システム。 - 上記加速器から粒子線を出射開始させるタイミングを、上記加速器の出射可能残時間がゲート内予定照射時間より長いかの判定結果に同期させることを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射システム。
- 上記エネルギー幅拡大機器は上記横方向にエネルギー幅が異なる分布を有するようにエ
ネルギー幅を拡大する素子であることを特徴とする請求項1または2に記載の粒子線照射システム。
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