JP7519786B2 - Optical laminate and method for producing same - Google Patents

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Description

本発明は、位相差積層体、光学積層体、及びこれらの製造方法に関する。 The present invention relates to a retardation laminate, an optical laminate, and a method for manufacturing the same.

有機発光ダイオード(OLED)を用いた有機EL表示装置は、液晶表示装置等に比べて軽量化や薄型化が可能であるだけでなく、幅広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト等の高画質を実現できるため、スマートフォンやテレビ、デジタルカメラ等、様々な分野で用いられている。有機EL表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板等を用いて反射防止性能を向上させることが知られている。 Organic EL display devices using organic light-emitting diodes (OLEDs) are not only lighter and thinner than liquid crystal display devices, but also offer high image quality with a wide viewing angle, fast response speed, and high contrast, and are therefore used in a variety of fields, including smartphones, televisions, and digital cameras. It is known that in organic EL display devices, the anti-reflection performance is improved by using circular polarizers, etc., to prevent a decrease in visibility due to reflection of external light.

例えば特許文献1及び2には、有機EL表示装置等の画像表示パネルに適用される反射防止機能を有する光学積層体として、直線偏光層を含む偏光板に、液晶化合物により形成され互いに接着層を介して積層された2層の位相差層を設けた構造の光学積層体が開示されている。 For example, Patent Documents 1 and 2 disclose an optical laminate having an anti-reflection function that is applied to image display panels such as organic EL display devices, in which a polarizing plate including a linear polarizing layer is provided with two retardation layers formed of liquid crystal compounds and laminated to each other via an adhesive layer.

特開2017-102286号公報JP 2017-102286 A 特開2015-40953号公報JP 2015-40953 A

位相差層に用いる液晶化合物が重合性液晶化合物である場合、位相差層の光学耐久性を向上させるために重合度(硬化度)を高くすることが求められている。重合性液晶化合物の重合度が高い位相差層を他の位相差層と積層して位相差積層体を製造し、これを円偏光板等の光学積層体の製造に供した場合に、位相差積層体に発生するカールが発生することがあった。このようなカールは、位相差積層体の取扱い性を低下させ、光学積層体の製造過程での作業性を低下させる原因となり得る。 When the liquid crystal compound used in the retardation layer is a polymerizable liquid crystal compound, it is required to increase the degree of polymerization (degree of hardening) in order to improve the optical durability of the retardation layer. When a retardation layer having a high degree of polymerization of a polymerizable liquid crystal compound is laminated with another retardation layer to produce a retardation laminate, and this is used to produce an optical laminate such as a circular polarizing plate, curling may occur in the retardation laminate. Such curling reduces the handleability of the retardation laminate and may cause a decrease in workability in the manufacturing process of the optical laminate.

本発明は、光学積層体等の製造に際して取扱い性が良好な位相差積層体、光学積層体、及びこれらの製造方法の提供を目的とする。 The present invention aims to provide a retardation laminate, an optical laminate, and a method for producing the same that are easy to handle when producing optical laminates, etc.

本発明は、以下の位相差積層体、光学積層体、及びこれらの製造方法を提供する。
〔1〕 第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含む位相差積層体であって、
前記第1位相差層は、重合性液晶化合物の硬化物層である第1液晶層を含み、
前記第2位相差層は、重合性液晶化合物の硬化物層である第2液晶層を含み、
前記第1位相差層の突刺し弾性率E1は、35g/mm以上であり、
前記突刺し弾性率E1と、前記第2位相差層の突刺し弾性率E2とは、下記式(1)の関係を満たす、位相差積層体。
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
〔2〕 前記突刺し弾性率E2は、55g/mm以下である、〔1〕に記載の位相差積層体。
〔3〕 前記第1位相差層の厚みt1と、前記第2位相差層の厚みt2とは、下記式(2)の関係を満たす、〔1〕又は〔2〕に記載の位相差積層体。
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
〔4〕 前記第1位相差層は、前記第1液晶層と第1配向層との積層体であり、
前記第1配向層は、前記第1液晶層の前記第1貼合層側とは反対側に設けられる、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の位相差積層体。
〔5〕 前記第2位相差層は、前記第2液晶層と第2配向層との積層体であり、
前記第2配向層は、前記第2液晶層の前記第1貼合層側とは反対側に設けられる、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の位相差積層体。
〔6〕 さらに、前記第2位相差層の前記第1貼合層側とは反対側に第2基材層を有し、
前記第2基材層は、当該第2基材層と前記第2液晶層との間で分離可能に設けられている、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の位相差積層体。
〔7〕 さらに、前記第1位相差層の前記第1貼合層側とは反対側に第1基材層を有し、
前記第1基材層は、当該第1基材層と前記第1液晶層との間で分離可能に設けられている、〔6〕に記載の位相差積層体。
〔8〕 〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の位相差積層体と、第2貼合層と、光学フィルムとをこの順に有する光学積層体であって、
前記位相差積層体の第1位相差層側に、前記第2貼合層を介して前記光学フィルムが設けられている、光学積層体。
〔9〕 前記光学フィルムは、直線偏光層の片面又は両面に保護層が設けられた偏光板を含む、〔8〕に記載の光学積層体。
〔10〕 第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含む位相差積層体の製造方法であって、
第1基材層と前記第1位相差層とを有する基材層付き第1位相差層、及び、第2基材層と前記第2位相差層とを有する基材層付き第2位相差層を準備する工程と、
前記基材層付き第1位相差層の前記第1位相差層側と前記基材層付き第2位相差層の前記第2位相差層側とを、前記第1貼合層を介して貼合する工程と、を含み、
前記第1位相差層は、前記第1基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した第1液晶層を含み、
前記第2位相差層は、前記第2基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した第2液晶層を含み、
前記第1位相差層の突刺し弾性率E1は、35g/mm以上であり、
前記突刺し弾性率E1と、前記第2位相差層の突刺し弾性率E2とは、下記式(1)の関係を満たす、位相差積層体の製造方法。
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
〔11〕 前記第1位相差層の厚みt1と、前記第2位相差層の厚みt2とは、下記式(2)の関係を満たす、〔10〕に記載の位相差積層体の製造方法。
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
〔12〕 前記基材層付き第1位相差層は、前記第1基材層と前記第1液晶層との間に第1配向層を有する、〔10〕又は〔11〕に記載の位相差積層体の製造方法。
〔13〕 前記基材層付き第2位相差層は、前記第2基材層と前記第2液晶層との間に第2配向層を有する、〔10〕~〔12〕のいずれかに記載の位相差積層体の製造方法。
〔14〕 光学フィルム、第2貼合層、第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含む光学積層体の製造方法であって、
〔7〕に記載の位相差積層体、又は、〔10〕~〔13〕のいずれかに記載の位相差積層体の製造方法によって製造された位相差積層体を準備する工程と、
前記位相差積層体から前記第1基材層を分離する工程と、
前記第1基材層を分離することによって露出した露出面と前記光学フィルムとを、前記第2貼合層を介して貼合する工程と、を含む、光学積層体の製造方法。
〔15〕 さらに、前記第2貼合層を介して貼合する工程よりも後に、第2基材層を分離する工程を含む、〔14〕に記載の光学積層体の製造方法。
The present invention provides the following retardation laminate, optical laminate, and methods for producing the same.
[1] A retardation laminate including a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order,
The first retardation layer includes a first liquid crystal layer which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The second retardation layer includes a second liquid crystal layer which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer is 35 g f /mm or more,
The retardation laminate, wherein the puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (1).
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
[2] The retardation laminate according to [1], wherein the puncture elastic modulus E2 is 55 g f /mm or less.
[3] The retardation laminate according to [1] or [2], wherein a thickness t1 of the first retardation layer and a thickness t2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (2).
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
[4] The first retardation layer is a laminate of the first liquid crystal layer and a first alignment layer,
The retardation laminate according to any one of [1] to [3], wherein the first alignment layer is provided on the side of the first liquid crystal layer opposite to the first bonding layer.
[5] The second retardation layer is a laminate of the second liquid crystal layer and a second alignment layer,
The retardation laminate according to any one of [1] to [4], wherein the second alignment layer is provided on the side of the second liquid crystal layer opposite to the first bonding layer.
[6] Further, a second base layer is provided on the opposite side of the second retardation layer to the first attachment layer,
The retardation laminate according to any one of [1] to [5], wherein the second base material layer is separably provided between the second base material layer and the second liquid crystal layer.
[7] Further, a first base material layer is provided on the opposite side of the first retardation layer to the first bonding layer,
The retardation laminate according to [6], wherein the first base material layer is separably provided between the first base material layer and the first liquid crystal layer.
[8] An optical laminate having the retardation laminate according to any one of [1] to [6], a second bonding layer, and an optical film in this order,
An optical laminate, wherein the optical film is provided on the first retardation layer side of the retardation laminate via the second attachment layer.
[9] The optical laminate according to [8], wherein the optical film includes a polarizing plate having a protective layer provided on one or both sides of a linear polarizing layer.
[10] A method for producing a retardation laminate including a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order,
A step of preparing a first retardation layer with a base material layer having a first base material layer and the first retardation layer, and a second retardation layer with a base material layer having a second base material layer and the second retardation layer;
The first retardation layer side of the first retardation layer with the base layer and the second retardation layer side of the second retardation layer with the base layer are bonded to each other via the first bonding layer,
the first retardation layer includes a first liquid crystal layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the first base layer,
the second retardation layer includes a second liquid crystal layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the second base layer,
The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer is 35 g f /mm or more,
The method for producing a retardation laminate, wherein the puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (1).
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
[11] The method for producing a retardation laminate according to [10], wherein a thickness t1 of the first retardation layer and a thickness t2 of the second retardation layer satisfy a relationship of the following formula (2).
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
[12] The method for producing a retardation laminate according to [10] or [11], wherein the first retardation layer with a base layer has a first alignment layer between the first base layer and the first liquid crystal layer.
[13] The second retardation layer with base layer has a second alignment layer between the second base layer and the second liquid crystal layer, the method for producing a retardation laminate according to any one of [10] to [12].
[14] A method for producing an optical laminate including an optical film, a second attachment layer, a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order,
A step of preparing a retardation laminate according to [7] or a retardation laminate produced by the method for producing a retardation laminate according to any one of [10] to [13];
Separating the first base layer from the retardation laminate;
and bonding the optical film to an exposed surface exposed by separating the first base layer via the second bonding layer.
[15] The method for producing an optical laminate according to [14], further comprising a step of separating the second base layer after the step of bonding via the second bonding layer.

本発明によれば、光学積層体等の製造に際して取扱い性が良好な位相差積層体を提供することができる。 The present invention provides a retardation laminate that is easy to handle when manufacturing optical laminates, etc.

本発明の位相差積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a retardation laminate of the present invention. 本発明の位相差積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the retardation laminate of the present invention. 本発明の位相差積層体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a still further example of the retardation laminate of the present invention. 本発明の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical laminate of the present invention. 本発明の光学積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the optical laminate of the present invention. 本発明の位相差積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the retardation laminate of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の位相差積層体、光学積層体、及びこれらの製造方法について説明する。以下のすべての図面は、本発明の理解を助けるために示すものであり、図面に示される各構成要素のサイズや形状は、実際の構成要素のサイズや形状とは必ずしも一致しない。 The retardation laminate, optical laminate, and manufacturing method thereof of the present invention will be described below with reference to the drawings. All of the drawings below are presented to aid in understanding the present invention, and the size and shape of each component shown in the drawings do not necessarily match the size and shape of the actual component.

(位相差積層体)
図1~3は、本実施形態の位相差積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。本実施形態の位相差積層体1a,1b,1c(以下、これらをまとめて「位相差積層体1」ということがある。)は、図1及び図2に示すように、第1位相差層10、第1貼合層30、及び第2位相差層20をこの順に含む。第1位相差層10は、重合性液晶化合物の硬化物層である第1液晶層12を含む。第2位相差層20は、重合性液晶化合物の硬化物層である第2液晶層22を含む。第1位相差層10の突刺し弾性率E1は、35g/mm以上である。第1位相差層10の突刺し弾性率E1と、第2位相差層20の突刺し弾性率E2とは、下記式(1):
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
の関係を満たす。
(Retardation Laminate)
1 to 3 are schematic cross-sectional views showing an example of the retardation laminate of this embodiment. The retardation laminates 1a, 1b, and 1c of this embodiment (hereinafter, these may be collectively referred to as "retardation laminate 1") include a first retardation layer 10, a first bonding layer 30, and a second retardation layer 20 in this order, as shown in FIG. 1 and FIG. 2. The first retardation layer 10 includes a first liquid crystal layer 12 which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound. The second retardation layer 20 includes a second liquid crystal layer 22 which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound. The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 is 35 g f /mm or more. The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer 20 are expressed by the following formula (1):
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
Satisfy the relationship.

第1位相差層10は、重合性液晶化合物の硬化物層である第1液晶層12そのものであってもよく、第1液晶層12と第1配向層11との積層体であってもよい。第1位相差層10が第1配向層11を有する場合、第1配向層11は、第1液晶層12の第2位相差層20側とは反対側に設けられる。 The first retardation layer 10 may be the first liquid crystal layer 12 itself, which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound, or may be a laminate of the first liquid crystal layer 12 and the first alignment layer 11. When the first retardation layer 10 has the first alignment layer 11, the first alignment layer 11 is provided on the side of the first liquid crystal layer 12 opposite to the second retardation layer 20 side.

第1位相差層10の突刺し弾性率E1は、35g/mm以上であり、38g/mm以上であってもよく、40g/mm以上であってもよく、42g/mm以上であってもよい。突刺し弾性率E1は、通常60g/mm以下であり、55g/mm以下であってもよく、50g/mm以下であってもよい。突刺し弾性率E1は、温度23℃、相対湿度50%における値であり、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。第1位相差層10が、第1液晶層12と第1配向層11との積層体である場合、第1位相差層10の突刺し弾性率E1は第1配向層11側からニードルを突き刺して測定する。第1位相差層10では、突刺し弾性率E1の温度依存性は、23~80℃の範囲では認められない。 The puncture modulus E1 of the first retardation layer 10 is 35 g f /mm or more, may be 38 g f /mm or more, may be 40 g f /mm or more, or may be 42 g f /mm or more. The puncture modulus E1 is usually 60 g f /mm or less, may be 55 g f /mm or less, or may be 50 g f /mm or less. The puncture modulus E1 is a value at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and can be measured by the method described in the examples below. When the first retardation layer 10 is a laminate of the first liquid crystal layer 12 and the first alignment layer 11, the puncture modulus E1 of the first retardation layer 10 is measured by piercing a needle from the first alignment layer 11 side. In the first retardation layer 10, the temperature dependency of the puncture modulus E1 is not observed in the range of 23 to 80 ° C.

第1位相差層10の突刺し弾性率E1は、例えば、第1液晶層12を構成する重合性液晶化合物の種類や重合度(硬化度)、第1液晶層12に含まれる重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤、架橋剤等の添加剤の種類や量、第1配向層11を構成する硬化性樹脂組成物中の重合性化合物の種類や重合度(硬化度)、第1位相差層10の厚み等によって調整することができる。通常これらの重合度(硬化度)が大きくなると突刺し弾性率E1の値も大きくなる。また、第1位相差層10の突刺し弾性率E1は、第1液晶層12の架橋密度や第1配向層11の架橋密度によっても調整することができる。例えば、第1液晶層の12の架橋密度を大きくするためには、第1液晶層12を形成するための重合性液晶化合物として、分子内に重合性基を3つ以上有する多官能性重合性液晶化合物を用いればよい。 The puncture modulus E1 of the first retardation layer 10 can be adjusted, for example, by the type and degree of polymerization (hardening degree) of the polymerizable liquid crystal compound constituting the first liquid crystal layer 12, the type and amount of additives such as a polymerization initiator, a reactive additive, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and a crosslinking agent contained in the first liquid crystal layer 12, the type and degree of polymerization (hardening degree) of the polymerizable compound in the hardening resin composition constituting the first alignment layer 11, and the thickness of the first retardation layer 10. Usually, as the degree of polymerization (hardening degree) increases, the value of the puncture modulus E1 also increases. The puncture modulus E1 of the first retardation layer 10 can also be adjusted by the crosslink density of the first liquid crystal layer 12 and the crosslink density of the first alignment layer 11. For example, in order to increase the crosslink density of the first liquid crystal layer 12, a polyfunctional polymerizable liquid crystal compound having three or more polymerizable groups in the molecule may be used as the polymerizable liquid crystal compound for forming the first liquid crystal layer 12.

第1位相差層10の突刺し弾性率E1を所定の範囲とするためには、例えば重合性液晶化合物の重合度(硬化度)や第1配向層11の重合度(硬化度)を制御した予備実験を行い、所望の突刺し弾性率E1とすることができる。このような予備実験として、例えば第1液晶層の重合度を制御する場合は次のように行うことができる。まず、第1基材層(第1配向層が設けられていてもよい)上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物の塗布層を設け、この塗布層に紫外線等を照射して、第1基材層上に第1液晶層を形成する。上記塗布層に含まれていた重合性液晶化合物の重合性基の量と、上記第1液晶層に含まれる重合性液晶化合物の重合性基の量との比率(相対値)を、赤外線吸収(IR)スペクトル測定等により測定して、重合度(硬化度)を決定する。このとき得られた第1液晶層を含む第1位相差層の突刺し弾性率E1を測定し、上記で決定した重合度と突刺し弾性率E1とを関係付ける。この手順を、重合性液晶化合物の種類や紫外線等の照射量等を変更して行う。このようにして重合度と突刺し弾性率E1との相関関係を得ることにより、所望の突刺し弾性率E1を得るための重合度を決定することができる。 In order to set the puncture modulus E1 of the first retardation layer 10 within a predetermined range, for example, a preliminary experiment is performed in which the degree of polymerization (hardening degree) of the polymerizable liquid crystal compound and the degree of polymerization (hardening degree) of the first alignment layer 11 are controlled, and the desired puncture modulus E1 can be obtained. As such a preliminary experiment, for example, when controlling the degree of polymerization of the first liquid crystal layer, it can be performed as follows. First, a coating layer of a liquid crystal layer forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound is provided on a first base layer (which may have a first alignment layer), and this coating layer is irradiated with ultraviolet light or the like to form a first liquid crystal layer on the first base layer. The ratio (relative value) of the amount of polymerizable groups of the polymerizable liquid crystal compound contained in the coating layer and the amount of polymerizable groups of the polymerizable liquid crystal compound contained in the first liquid crystal layer is measured by infrared absorption (IR) spectrum measurement or the like to determine the degree of polymerization (hardening degree). The puncture modulus E1 of the first retardation layer including the first liquid crystal layer obtained at this time is measured, and the degree of polymerization and the puncture modulus E1 determined above are related to each other. This procedure is carried out by changing the type of polymerizable liquid crystal compound, the amount of ultraviolet light, etc. In this way, the correlation between the degree of polymerization and the puncture elastic modulus E1 can be obtained, and the degree of polymerization required to obtain the desired puncture elastic modulus E1 can be determined.

第1位相差層10の厚みt1は、1.0μm以上であることが好ましく、1.5μm以上であることがより好ましく、1.7μm以上であってもよく、2.0μm以上であってもよい。厚みt1は、通常8μm以下であり、5μm以下であってもよく、3μm以下であってもよい。 The thickness t1 of the first retardation layer 10 is preferably 1.0 μm or more, more preferably 1.5 μm or more, and may be 1.7 μm or more, or may be 2.0 μm or more. The thickness t1 is usually 8 μm or less, and may be 5 μm or less, or may be 3 μm or less.

第2位相差層20は、重合性液晶化合物の硬化物層である第2液晶層22そのものであってもよく、第2液晶層22と第2配向層21との積層体であってもよい。第2位相差層20が第2配向層21を有する場合、第2配向層21は、第2液晶層22の第1位相差層10側とは反対側に設けられる。 The second retardation layer 20 may be the second liquid crystal layer 22 itself, which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound, or may be a laminate of the second liquid crystal layer 22 and the second alignment layer 21. When the second retardation layer 20 has the second alignment layer 21, the second alignment layer 21 is provided on the side of the second liquid crystal layer 22 opposite to the first retardation layer 10 side.

第2位相差層20の突刺し弾性率E2は、55g/mm以下であることが好ましく、50g/mm以下であってもよく、45g/mm以下であってもよい。突刺し弾性率E2は、通常5g/mm以上であり、8g/mm以上であってもよく、10g/mm以上であってもよく、20g/mm以上であってもよい。突刺し弾性率E2は、温度23℃、相対湿度50%における値であり、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。第2位相差層20が、第2液晶層22と第2配向層21との積層体である場合、第2位相差層20の突刺し弾性率E2は第2配向層21側からニードルを突き刺して測定する。第2位相差層20では、突刺し弾性率E2の温度依存性は、23~80℃の範囲では認められない。 The puncture modulus E2 of the second retardation layer 20 is preferably 55 g f /mm or less, may be 50 g f /mm or less, or may be 45 g f /mm or less. The puncture modulus E2 is usually 5 g f /mm or more, may be 8 g f /mm or more, may be 10 g f /mm or more, or may be 20 g f /mm or more. The puncture modulus E2 is a value at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and can be measured by the method described in the examples described later. When the second retardation layer 20 is a laminate of the second liquid crystal layer 22 and the second alignment layer 21, the puncture modulus E2 of the second retardation layer 20 is measured by piercing a needle from the second alignment layer 21 side. In the second retardation layer 20, the temperature dependency of the puncture modulus E2 is not observed in the range of 23 to 80 ° C.

第2位相差層20の突刺し弾性率E2は、例えば、第2液晶層22を構成する重合性液晶化合物の種類や重合度(硬化度)、第2液晶層22に含まれる重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤、架橋剤等の添加剤の種類や量、第2配向層21を構成する硬化性樹脂組成物中の重合性化合物の種類や重合度(硬化度)、第2位相差層20の厚み等によって調整することができる。通常これらの重合度(硬化度)が大きくなると突刺し弾性率E2の値も大きくなる。また、第2位相差層20の突刺し弾性率E2は、第2液晶層22の架橋密度や第2配向層21の架橋密度によっても調整することができる。例えば、第2液晶層の22の架橋密度を大きくするためには、第2液晶層22を形成するための重合性液晶化合物として、分子内に重合性基を3つ以上有する多官能性重合性液晶化合物を用いればよい。 The puncture modulus E2 of the second retardation layer 20 can be adjusted, for example, by the type and degree of polymerization (hardening degree) of the polymerizable liquid crystal compound constituting the second liquid crystal layer 22, the type and amount of additives such as a polymerization initiator, a reactive additive, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and a crosslinking agent contained in the second liquid crystal layer 22, the type and degree of polymerization (hardening degree) of the polymerizable compound in the hardening resin composition constituting the second alignment layer 21, the thickness of the second retardation layer 20, etc. Usually, as the degree of polymerization (hardening degree) increases, the value of the puncture modulus E2 also increases. The puncture modulus E2 of the second retardation layer 20 can also be adjusted by the crosslink density of the second liquid crystal layer 22 and the crosslink density of the second alignment layer 21. For example, in order to increase the crosslink density of the second liquid crystal layer 22, a polyfunctional polymerizable liquid crystal compound having three or more polymerizable groups in the molecule may be used as the polymerizable liquid crystal compound for forming the second liquid crystal layer 22.

第2位相差層20の突刺し弾性率E2を所定の範囲とするために行う予備実験の方法としては、上記した第1位相差層の突刺し弾性率E1を所望の範囲とするために行う予備実験の方法と同様の方法を挙げることができる。 The method of the preliminary experiment to set the puncture elastic modulus E2 of the second phase difference layer 20 within a predetermined range can be the same as the method of the preliminary experiment to set the puncture elastic modulus E1 of the first phase difference layer to a desired range.

第2位相差層20の厚みt2は、1.0μm以上であることが好ましく、1.5μm以上であってもよく、2.0μm以上であってもよく、2.5μm以上であってもよい。厚みt2は、通常8μm以下であり、5μm以下であってもよく、3.5μm以下であってもよく、3.0μm以下であってもよい。 The thickness t2 of the second retardation layer 20 is preferably 1.0 μm or more, and may be 1.5 μm or more, 2.0 μm or more, or 2.5 μm or more. The thickness t2 is usually 8 μm or less, and may be 5 μm or less, 3.5 μm or less, or 3.0 μm or less.

位相差積層体1は、図2及び図3に示す位相差積層体1b,1cのように、第2位相差層20の第1貼合層30側とは反対側に第2基材層25を有していてもよい。第2基材層25は、第2位相差層20に直接接して設けられていることが好ましい。第2基材層25は、第2基材層25と第2液晶層22との間で分離可能に設けられていることが好ましい。第2基材層25と第2液晶層22との間で分離可能とは、第2基材層25が第2液晶層22に対して剥離可能であること、もしくは、第2基材層25と第2液晶層22との間に第2配向層21が存在する場合、第2配向層21に対して剥離可能であること、又は、第2配向層21が第2液晶層22に対して剥離可能であることをいう。したがって、第2基材層25が第2配向層21に対して剥離可能となっている場合には、後述する光学積層体5a(図4)から第2基材層25を分離すると、第2液晶層22上に第2配向層21が残留する。第2配向層21が第2液晶層22に対して剥離可能となっている場合には、光学積層体1aから第2基材層25を分離すると、第2基材層25とともに第2配向層21が剥離される。 The retardation laminate 1 may have a second base layer 25 on the side opposite to the first bonding layer 30 side of the second retardation layer 20, as in the retardation laminates 1b and 1c shown in Figures 2 and 3. The second base layer 25 is preferably provided in direct contact with the second retardation layer 20. The second base layer 25 is preferably provided separably between the second base layer 25 and the second liquid crystal layer 22. Separable between the second base layer 25 and the second liquid crystal layer 22 means that the second base layer 25 is peelable from the second liquid crystal layer 22, or, if the second alignment layer 21 is present between the second base layer 25 and the second liquid crystal layer 22, that the second alignment layer 21 is peelable from the second liquid crystal layer 21, or that the second alignment layer 21 is peelable from the second liquid crystal layer 22. Therefore, if the second substrate layer 25 is peelable from the second alignment layer 21, when the second substrate layer 25 is separated from the optical laminate 5a (FIG. 4) described below, the second alignment layer 21 remains on the second liquid crystal layer 22. If the second alignment layer 21 is peelable from the second liquid crystal layer 22, when the second substrate layer 25 is separated from the optical laminate 1a, the second alignment layer 21 is peeled off together with the second substrate layer 25.

位相差積層体1は、図3に示す位相差積層体1cのように、第2基材層25に加えて、第1位相差層10の第1貼合層30側とは反対側に第1基材層15を有していてもよい。第1基材層15は、第1位相差層10に直接接して設けられていることが好ましい。第1基材層15は、第1基材層15と第1液晶層12との間で分離可能に設けられていることが好ましい。第1基材層15と第1液晶層12との間で分離可能とは、第1基材層15が第1液晶層12に対して剥離可能であること、もしくは、第1基材層15と第1液晶層12との間に第1配向層11が存在する場合、第1配向層11に対して剥離可能であること、又は、第1配向層11が第1液晶層12に対して剥離可能であることをいう。したがって、第1基材層15が第1配向層11に対して剥離可能となっている場合には、位相差積層体1cから第1基材層15を分離すると、第1液晶層12上に第1配向層11が残留する。第1配向層11が第1液晶層12に対して剥離可能となっている場合には、位相差積層体1cから第1基材層15を分離すると、第1基材層15とともに第1配向層11が剥離される。 The retardation laminate 1 may have a first substrate layer 15 on the side opposite to the first bonding layer 30 of the first retardation layer 10 in addition to the second substrate layer 25, as in the retardation laminate 1c shown in FIG. 3. The first substrate layer 15 is preferably provided in direct contact with the first retardation layer 10. The first substrate layer 15 is preferably provided separably between the first substrate layer 15 and the first liquid crystal layer 12. Separable between the first substrate layer 15 and the first liquid crystal layer 12 means that the first substrate layer 15 is peelable from the first liquid crystal layer 12, or, if a first alignment layer 11 is present between the first substrate layer 15 and the first liquid crystal layer 12, that the first alignment layer 11 is peelable from the first liquid crystal layer 12, or that the first alignment layer 11 is peelable from the first liquid crystal layer 12. Therefore, if the first substrate layer 15 is peelable from the first alignment layer 11, when the first substrate layer 15 is separated from the retardation laminate 1c, the first alignment layer 11 remains on the first liquid crystal layer 12. If the first alignment layer 11 is peelable from the first liquid crystal layer 12, when the first substrate layer 15 is separated from the retardation laminate 1c, the first alignment layer 11 is peeled off together with the first substrate layer 15.

第1貼合層30は、第1位相差層10と第2位相差層20とを貼合するための層である。第1貼合層30は、第1位相差層10及び第2位相差層20に直接接していることができる。第1貼合層30は、粘着剤層又は接着剤硬化層である。 The first bonding layer 30 is a layer for bonding the first phase difference layer 10 and the second phase difference layer 20. The first bonding layer 30 can be in direct contact with the first phase difference layer 10 and the second phase difference layer 20. The first bonding layer 30 is an adhesive layer or an adhesive cured layer.

位相差積層体1において、第1位相差層10の突刺し弾性率E1と第2位相差層20の突刺し弾性率E2とは、上記式(1)の関係を満たす。E1/E2は、0.7以上であり、0.9以上であってもよく、1.0以上であってもよい。E1/E2は、1.3以下であり、1.2以下であってもよく、1.1以下であってもよい。 In the retardation laminate 1, the puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer 20 satisfy the relationship of the above formula (1). E1/E2 is 0.7 or more, may be 0.9 or more, or may be 1.0 or more. E1/E2 is 1.3 or less, may be 1.2 or less, or may be 1.1 or less.

第1液晶層12は、第1基材層15上で第1配向層11を介して又は第1配向層11を介することなく、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、重合性液晶化合物を重合して硬化することによって形成することがある。同様に、第2液晶層22は、第2基材層25上で第2配向層21を介して又は第2配向層21を介することなく、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、重合性液晶化合物を重合して硬化することによって形成することがある。この場合、第1液晶層12及び第2液晶層22には、上記乾燥や上記重合に伴う硬化によって生じた収縮応力が残留していると考えられる。また、第1位相差層10が重合性化合物を用いて形成された第1配向層11を含む場合、及び、第2位相差層20が重合性化合物を用いて形成された第2配向層21を含む場合には、それぞれ第1位相差層10及び第2位相差層20にも、重合性化合物の重合に伴う硬化によって生じた収縮応力が残留していると考えられる。 The first liquid crystal layer 12 may be formed by applying a liquid crystal layer forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound on the first substrate layer 15 through the first alignment layer 11 or without the first alignment layer 11, drying the composition, and polymerizing and curing the polymerizable liquid crystal compound. Similarly, the second liquid crystal layer 22 may be formed by applying a liquid crystal layer forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound on the second substrate layer 25 through the second alignment layer 21 or without the second alignment layer 21, drying the composition, and polymerizing and curing the polymerizable liquid crystal compound. In this case, it is considered that the first liquid crystal layer 12 and the second liquid crystal layer 22 have residual shrinkage stress caused by the drying or curing associated with the polymerization. In addition, when the first retardation layer 10 includes the first alignment layer 11 formed using a polymerizable compound, and when the second retardation layer 20 includes the second alignment layer 21 formed using a polymerizable compound, it is considered that the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20 also have residual shrinkage stress caused by the curing associated with the polymerization of the polymerizable compound.

第1位相差層10(第1液晶層12、第1配向層11)に残留する収縮応力は、第1位相差層10が第1基材層15上に存在する状態では、第1基材層15によってある程度抑制されている。この収縮応力は、位相差積層体1bの製造工程又は後述する光学積層体5a,5b(図4、図5)の製造工程等において、位相差積層体1cから第1基材層15を分離することにより解放される。同様に、第2位相差層20(第2液晶層22、第2配向層21)に残留する収縮応力は、第2位相差層20が第2基材層25上に存在する状態では、第2基材層25によってある程度抑制されている。この収縮応力も、後述する光学積層体5aの製造工程等において、位相差積層体1bに含まれる第2基材層25を分離することにより解放される。そのため、第1基材層15及び/又は第2基材層25の分離により解放される収縮応力により、位相差積層体1a,1bの両面における収縮の程度が大きく異なってくると、位相差積層体1a,1bにカール量の大きいカールが発生すると考えられる。 The shrinkage stress remaining in the first retardation layer 10 (first liquid crystal layer 12, first alignment layer 11) is suppressed to some extent by the first base layer 15 when the first retardation layer 10 is present on the first base layer 15. This shrinkage stress is released by separating the first base layer 15 from the retardation laminate 1c in the manufacturing process of the retardation laminate 1b or the manufacturing process of the optical laminates 5a, 5b (Figures 4 and 5) described later. Similarly, the shrinkage stress remaining in the second retardation layer 20 (second liquid crystal layer 22, second alignment layer 21) is suppressed to some extent by the second base layer 25 when the second retardation layer 20 is present on the second base layer 25. This shrinkage stress is also released by separating the second base layer 25 included in the retardation laminate 1b in the manufacturing process of the optical laminate 5a described later. Therefore, if the degree of shrinkage on both sides of the retardation laminates 1a and 1b differs significantly due to the shrinkage stress released by the separation of the first base layer 15 and/or the second base layer 25, it is believed that a large amount of curl will occur in the retardation laminates 1a and 1b.

第1位相差層10及び第2位相差層20のような位相差層に残留する収縮応力は、上記した重合性液晶化合物や重合性化合物の重合度(硬化度)が大きいほど大きくなる傾向にある。したがって、第1位相差層10の突刺し弾性率E1及び第2位相差層20の突刺し弾性率E2が大きくなるほど、上記した収縮応力も大きいと考えられる。 The shrinkage stress remaining in the retardation layers such as the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20 tends to increase as the degree of polymerization (degree of curing) of the polymerizable liquid crystal compound and the polymerizable compound increases. Therefore, it is considered that the larger the puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer 20, the larger the shrinkage stress.

位相差積層体1では、突刺し弾性率E1,E2を、上記した式(1)の関係を満たすようにしているため、第1位相差層10の収縮応力と第2位相差層20の収縮応力との差が抑制されていると考えられる。そのため、突刺し弾性率E1が上記した範囲にある収縮応力が大きいと考えられる第1位相差層10を用いた場合にも、後述する光学積層体5a,5bの製造工程等において位相差積層体1a,1bに発生するカールを抑制することができる。これにより、位相差積層体1a,1bの取扱い性を良好にし、光学積層体5a,5bの製造時の作業性の低下を抑制することができる。 In the phase difference laminate 1, the puncture elastic modulus E1 and E2 are set to satisfy the relationship of the above formula (1), so it is considered that the difference between the contraction stress of the first phase difference layer 10 and the contraction stress of the second phase difference layer 20 is suppressed. Therefore, even when using a first phase difference layer 10 whose puncture elastic modulus E1 is in the above range and whose contraction stress is considered to be large, it is possible to suppress curling that occurs in the phase difference laminates 1a and 1b during the manufacturing process of the optical laminates 5a and 5b described below. This improves the handleability of the phase difference laminates 1a and 1b and suppresses a decrease in workability during the manufacture of the optical laminates 5a and 5b.

第1位相差層10の厚みt1と第2位相差層20の厚みt2とは、下記式(2):
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
の関係を満たすことが好ましい。t1/t2は、0.3以上であってもよく、0.5以上であってもよく、0.6以上であってもよい。t1/t2は、1.2以下であってもよく、1.0以下であってもよく、0.8以下であってもよい。
The thickness t1 of the first retardation layer 10 and the thickness t2 of the second retardation layer 20 are expressed by the following formula (2):
0.1≦t1/t2≦1.3 (2)
It is preferable that the relationship is satisfied. t1/t2 may be 0.3 or more, 0.5 or more, or 0.6 or more. t1/t2 may be 1.2 or less, 1.0 or less, or 0.8 or less.

第1位相差層10の厚みが大きいほど、第1基材層15を分離したときに解放される第1位相差層10の収縮応力が大きいと考えられる。第2位相差層20についても同様に、厚みが大きいほど、第2基材層25を分離したときに解放される収縮応力が大きいと考えられる。そのため、位相差積層体1では、厚みt1,t2を上記した式(2)の関係を満たすようにすることにより、第1位相差層10の収縮応力と第2位相差層20の収縮応力との差をより一層小さくすることができると考えられる。そのため、突刺し弾性率E1が上記した範囲にある第1位相差層10を用いた場合にも、後述する光学積層体5a,5bの製造工程等において位相差積層体1a,1bに発生するカールを抑制することができる。これにより、位相差積層体1a,1bの取扱い性を良好にし、光学積層体5a,5bの製造時の作業性の低下を抑制することができる。 It is considered that the greater the thickness of the first phase difference layer 10, the greater the contraction stress of the first phase difference layer 10 released when the first base layer 15 is separated. Similarly, for the second phase difference layer 20, it is considered that the greater the thickness, the greater the contraction stress released when the second base layer 25 is separated. Therefore, in the phase difference laminate 1, it is considered that the difference between the contraction stress of the first phase difference layer 10 and the contraction stress of the second phase difference layer 20 can be further reduced by making the thicknesses t1 and t2 satisfy the relationship of the above formula (2). Therefore, even when the first phase difference layer 10 having the puncture elastic modulus E1 in the above range is used, curling that occurs in the phase difference laminates 1a and 1b in the manufacturing process of the optical laminates 5a and 5b described later can be suppressed. This improves the handleability of the phase difference laminates 1a and 1b, and suppresses a decrease in workability during the manufacturing of the optical laminates 5a and 5b.

図1に示す位相差積層体1aのカール量を表すMDカール値及びTDカール値は、いずれも±20mm以内であることが好ましく、±15mm以内であることがより好ましく、±13mm以内であってもよい。位相差積層体1aのMDカール値及びTDカール値は、少なくとも一方が±13mm以内であってもよく、±10mm以内であってもよい。MDカール値及びTDカール値は、それぞれフィルム搬送方向側のカール値及びフィルム搬送方向に直交する方向側のカール値であり、後述する実施例に記載の方法によって決定することができる。 The MD curl value and TD curl value representing the curl amount of the retardation laminate 1a shown in FIG. 1 are both preferably within ±20 mm, more preferably within ±15 mm, and may be within ±13 mm. At least one of the MD curl value and TD curl value of the retardation laminate 1a may be within ±13 mm, or may be within ±10 mm. The MD curl value and the TD curl value are the curl value in the film transport direction and the curl value in the direction perpendicular to the film transport direction, respectively, and can be determined by the method described in the examples below.

(光学積層体)
図4及び図5は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。本実施形態の光学積層体5a,5b(以下、両者をまとめて「光学積層体5」ということがある。)は、図1に示す位相差積層体1a又は図2に示す位相差積層体1bと、第2貼合層32と、光学フィルム40とをこの順に有する。光学積層体5では、位相差積層体1a,1bの第1位相差層10側に、第2貼合層32を介して光学フィルム40が設けられている。位相差積層体1a,1bは、上記したように、第1配向層11を含んでいても含んでいなくてもよく、また、第2配向層21を含んでいても含んでいなくてもよい。
(Optical laminate)
4 and 5 are schematic cross-sectional views showing an example of the optical laminate of this embodiment. The optical laminates 5a and 5b of this embodiment (hereinafter, both may be collectively referred to as "optical laminate 5") have the retardation laminate 1a shown in FIG. 1 or the retardation laminate 1b shown in FIG. 2, a second bonding layer 32, and an optical film 40 in this order. In the optical laminate 5, the optical film 40 is provided on the first retardation layer 10 side of the retardation laminates 1a and 1b via the second bonding layer 32. As described above, the retardation laminates 1a and 1b may or may not include the first alignment layer 11, and may or may not include the second alignment layer 21.

上記したように、第1位相差層10の突刺し弾性率E1が上記した範囲にある場合であっても、突刺し弾性率E1及び突刺し弾性率E2が上記式(1)の関係にあることにより、位相差積層体1a,1bに発生するカールを抑制することができる。これにより、光学積層体5a,5bに発生するカールを抑制できることも期待できる。 As described above, even if the puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 is within the above range, the puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 are in the relationship of formula (1) above, so that curling occurring in the retardation laminates 1a and 1b can be suppressed. This is expected to suppress curling occurring in the optical laminates 5a and 5b.

光学フィルム40は、直線偏光層;直線偏光層の片面又は両面に保護層が設けられた偏光板;偏光板の片面にプロテクトフィルムが設けられたプロテクトフィルム付き偏光板;反射フィルム;半透過型反射フィルム;輝度向上フィルム;光学補償フィルム;防眩機能付きフィルム等が挙げられ、これらのうち1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。光学フィルム40は、少なくとも直線偏光層を含むことが好ましく、偏光板を含むことがより好ましい。光学フィルム40が直線偏光層の片面にのみ保護層を有する偏光板を含む場合、偏光板の直線偏光層側と位相差積層体1a,1bとが貼合されていることが好ましい。光学フィルムがプロテクトフィルム付き偏光板を有する場合、プロテクトフィルム付き偏光板の偏光板側と位相差積層体1a,1bとが貼合されていることが好ましい。 Examples of the optical film 40 include a linear polarizing layer; a polarizing plate having a protective layer on one or both sides of the linear polarizing layer; a polarizing plate with a protective film on one side of the polarizing plate; a reflective film; a semi-transmissive reflective film; a brightness enhancing film; an optical compensation film; and a film with an anti-glare function. One or more of these may be used in combination. The optical film 40 preferably includes at least a linear polarizing layer, and more preferably includes a polarizing plate. When the optical film 40 includes a polarizing plate having a protective layer only on one side of the linear polarizing layer, it is preferable that the linear polarizing layer side of the polarizing plate and the retardation laminate 1a, 1b are bonded together. When the optical film includes a polarizing plate with a protective film, it is preferable that the polarizing plate side of the polarizing plate with the protective film and the retardation laminate 1a, 1b are bonded together.

第2貼合層32は、位相差積層体1a,1bと光学フィルム40とを貼合するための層である。第2貼合層32は、位相差積層体1a,1bの第1位相差層10及び光学フィルム40に直接接していることができる。第2貼合層32は、粘着剤層又は接着剤硬化層である。 The second bonding layer 32 is a layer for bonding the retardation laminates 1a and 1b to the optical film 40. The second bonding layer 32 can be in direct contact with the first retardation layer 10 and the optical film 40 of the retardation laminates 1a and 1b. The second bonding layer 32 is an adhesive layer or an adhesive cured layer.

光学積層体5bは、さらに、第2位相差層20側に、第3貼合層及び剥離フィルム(図示せず)をこの順に有していてもよい。第3貼合層は、光学積層体5bを、表示装置の画像表示素子に貼合するために用いることができる。第3貼合層は、粘着剤層又は接着剤硬化層である。剥離フィルムは、第3貼合層に対して剥離可能なフィルムであり、第3貼合層の使用時まで、第3貼合層の表面を被覆保護することができる。 The optical laminate 5b may further have a third bonding layer and a release film (not shown) in this order on the second retardation layer 20 side. The third bonding layer can be used to bond the optical laminate 5b to an image display element of a display device. The third bonding layer is a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive cured layer. The release film is a film that can be peeled off from the third bonding layer, and can cover and protect the surface of the third bonding layer until the third bonding layer is used.

光学積層体5は、円偏光板であってもよい。この場合、光学フィルムは、直線偏光層、偏光板、又はプロテクトフィルム付き偏光板を含み、第1位相差層10及び第2位相差層20のうちの少なくとも一方は、1/4波長位相差層であることが好ましい。光学積層体5が円偏光板である場合、光学積層体5の層構造としては、光学フィルムが偏光板である場合、[i]偏光板、1/2波長位相差層、1/4波長位相差層をこの順に有する、[ii]偏光板、逆波長分散性の1/4波長位相差層、ポジティブCプレートをこの順に有する、又は、[iii]偏光板、ポジティブCプレート、逆波長分散性の1/4波長位相差層をこの順に有するものが挙げられる。 The optical laminate 5 may be a circular polarizing plate. In this case, the optical film includes a linear polarizing layer, a polarizing plate, or a polarizing plate with a protective film, and at least one of the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20 is preferably a quarter-wave retardation layer. When the optical laminate 5 is a circular polarizing plate, the layer structure of the optical laminate 5 may be, when the optical film is a polarizing plate, [i] a polarizing plate, a half-wave retardation layer, and a quarter-wave retardation layer in this order, [ii] a polarizing plate, a quarter-wave retardation layer with reverse wavelength dispersion, and a positive C plate in this order, or [iii] a polarizing plate, a positive C plate, and a quarter-wave retardation layer with reverse wavelength dispersion in this order.

光学積層体5は、例えば、液晶表示装置や有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置の画像表示素子に貼合して用いることができる。 The optical laminate 5 can be used, for example, by being attached to the image display element of a liquid crystal display device or an organic EL (electroluminescence) display device.

(位相差積層体の製造方法)
図6は、本実施形態の位相差積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。位相差積層体1の製造方法は、上記で説明した第1位相差層10及び第2位相差層20を含むものであり、第1位相差層10は上記で説明した突刺し弾性率E1を有し、第1位相差層10及び第2位相差層20は上記で説明した比(E1/E2)の関係を満たす。位相差積層体1の製造方法は、
第1基材層15と第1位相差層10とを有する基材層付き第1位相差層18、及び、第2基材層25と第2位相差層20とを有する基材層付き第2位相差層28を準備する工程と(図6の(a)及び(b))、
基材層付き第1位相差層18の第1位相差層10側と基材層付き第2位相差層28の第2位相差層20側とを、第1貼合層30を介して貼合する工程と(図6の(c))、を含む。
(Method of manufacturing retardation laminate)
6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the retardation laminate of this embodiment. The manufacturing method of the retardation laminate 1 includes the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20 described above, the first retardation layer 10 has the puncture elastic modulus E1 described above, and the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20 satisfy the relationship of the ratio (E1/E2) described above. The manufacturing method of the retardation laminate 1 is as follows:
A step of preparing a base layer-attached first phase difference layer 18 having a first base material layer 15 and a first phase difference layer 10, and a base layer-attached second phase difference layer 28 having a second base material layer 25 and a second phase difference layer 20 (FIGS. 6A and 6B);
The method includes a step of bonding the first phase difference layer 10 side of the first phase difference layer 18 with the base layer and the second phase difference layer 20 side of the second phase difference layer 28 with the base layer via a first bonding layer 30 (FIG. 6(c)).

第1位相差層10は、第1基材層15上で重合性液晶化合物を重合して形成した第1液晶層12を含み、第2位相差層20は、第2基材層25上で重合性液晶化合物を重合して形成した第2液晶層22を含む。そのため、基材層付き第1位相差層18を準備する工程は、第1基材層15上で重合性液晶化合物を重合して第1液晶層12を形成する工程を含んでいてもよい。また、基材層付き第2位相差層28を準備する工程は、第2基材層25上で重合性液晶化合物を重合して第2液晶層22を形成する工程を含んでいてもよい。 The first retardation layer 10 includes a first liquid crystal layer 12 formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on a first substrate layer 15, and the second retardation layer 20 includes a second liquid crystal layer 22 formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on a second substrate layer 25. Therefore, the process of preparing the first retardation layer 18 with a substrate layer may include a process of polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the first substrate layer 15 to form the first liquid crystal layer 12. In addition, the process of preparing the second retardation layer 28 with a substrate layer may include a process of polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the second substrate layer 25 to form the second liquid crystal layer 22.

第1液晶層12は、第1基材層15に設けられた第1配向層11上で重合性液晶化合物を重合して形成してもよい。同様に、第2液晶層22は、第2基材層25に設けられた第2配向層21上で重合性液晶化合物を重合して形成してもよい。この場合、基材層付き第1位相差層18を準備する工程は、第1基材層15上に第1配向層11を形成する工程を含んでいてもよい。また、基材層付き第2位相差層28を準備する工程は、第2基材層25上に第2配向層21を形成する工程を含んでいてもよい。 The first liquid crystal layer 12 may be formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the first alignment layer 11 provided on the first substrate layer 15. Similarly, the second liquid crystal layer 22 may be formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the second alignment layer 21 provided on the second substrate layer 25. In this case, the step of preparing the substrate layer-attached first retardation layer 18 may include a step of forming the first alignment layer 11 on the first substrate layer 15. Also, the step of preparing the substrate layer-attached second retardation layer 28 may include a step of forming the second alignment layer 21 on the second substrate layer 25.

第1貼合層30を介して貼合する工程は、例えばまず、基材層付き第1位相差層18の第1位相差層10側、及び/又は、基材層付き第2位相差層28の第2位相差層20側に、第1貼合層30を形成するための第1貼合剤組成物層を形成する。次に、第1貼合剤組成物層から第1貼合層30を形成する。第1貼合剤組成物層から第1貼合層30を形成する方法は、第1貼合剤組成物層の種類に応じて選択すればよい。例えば、貼合剤組成物が接着剤組成物である場合は、活性エネルギー線の照射や加熱処理等を行って貼合剤を硬化することにより第1貼合層30を形成してもよく、第1貼合剤組成物が粘着剤組成物である場合は、第1貼合剤組成物層を第1貼合層30としてもよい。これにより、図6の(c)や図3に示すように、第1基材層15、第1位相差層10、第1貼合層30、第2位相差層20、及び第2基材層25がこの順に積層された位相差積層体1cを得ることができる。 In the process of laminating via the first laminating layer 30, for example, first, a first laminating composition layer for forming the first laminating layer 30 is formed on the first phase difference layer 10 side of the first phase difference layer 18 with the base layer, and/or the second phase difference layer 20 side of the second phase difference layer 28 with the base layer. Next, the first laminating layer 30 is formed from the first laminating composition layer. The method for forming the first laminating layer 30 from the first laminating composition layer may be selected according to the type of the first laminating composition layer. For example, when the laminating composition is an adhesive composition, the first laminating layer 30 may be formed by curing the laminating agent by irradiating with active energy rays or performing a heat treatment, etc., and when the first laminating composition is a pressure-sensitive adhesive composition, the first laminating composition layer may be the first laminating layer 30. This makes it possible to obtain a retardation laminate 1c in which the first base layer 15, the first retardation layer 10, the first bonding layer 30, the second retardation layer 20, and the second base layer 25 are laminated in this order, as shown in FIG. 6(c) and FIG. 3.

位相差積層体1の製造方法は、さらに、位相差積層体1cから第1基材層15を分離する工程を含んでいてもよい。これにより、図2に示すように、第1位相差層10、第1貼合層30、第2位相差層20、及び第2基材層25がこの順に積層された位相差積層体1bを得ることができる。 The method for manufacturing the retardation laminate 1 may further include a step of separating the first base layer 15 from the retardation laminate 1c. This makes it possible to obtain a retardation laminate 1b in which the first retardation layer 10, the first bonding layer 30, the second retardation layer 20, and the second base layer 25 are laminated in this order, as shown in FIG. 2.

上記したように、第1位相差層10の突刺し弾性率E1が上記した範囲にある場合であっても、突刺し弾性率E1及び突刺し弾性率E2が上記式(1)の関係にあることにより、位相差積層体1bに発生するカールを抑制することができる。これにより、後述する光学積層体5の製造時の作業性の低下を抑制することができる。 As described above, even if the puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer 10 is within the above range, the puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 are in the relationship of formula (1) above, so that curling occurring in the retardation laminate 1b can be suppressed. This makes it possible to suppress a decrease in workability during the manufacture of the optical laminate 5 described later.

(光学積層体の製造方法)
光学積層体5の製造方法は、
図3に示す位相差積層体1c(第1基材層15、第1位相差層10、第1貼合層30、第2位相差層20、及び第2基材層25がこの順に積層されたもの)を準備する工程と、
位相差積層体1cから第1基材層15を分離する工程と、
第1基材層15を分離することによって露出した第1露出面(露出面)と光学フィルム40とを、第2貼合層32を介して貼合する工程と、を含む。
(Method for producing optical laminate)
The method for producing the optical laminate 5 includes the steps of:
A step of preparing a retardation laminate 1c shown in FIG. 3 (a first base layer 15, a first retardation layer 10, a first bonding layer 30, a second retardation layer 20, and a second base layer 25 laminated in this order);
A step of separating the first base layer 15 from the retardation laminate 1c;
and bonding a first exposed surface (exposed surface) exposed by separating the first base layer 15 to the optical film 40 via a second bonding layer 32 .

光学積層体5の製造方法は、さらに、第2貼合層32を介して貼合する工程よりも後に、第2基材層25を分離する工程を含んでいてもよい。光学積層体5の製造方法は、さらに、第2基材層25を分離する工程によって露出した第2露出面に、第3貼合層を形成する工程を含んでいてもよい。 The method for producing the optical laminate 5 may further include a step of separating the second base layer 25 after the step of bonding via the second bonding layer 32. The method for producing the optical laminate 5 may further include a step of forming a third bonding layer on the second exposed surface exposed by the step of separating the second base layer 25.

位相差積層体1cを準備する工程は、上記した位相差積層体1の製造方法によって位相差積層体1cを製造する工程を含んでいてもよい。 The process of preparing the phase difference laminate 1c may include a process of manufacturing the phase difference laminate 1c by the above-mentioned method for manufacturing the phase difference laminate 1.

第1基材層15を分離する工程は、図3に示す位相差積層体1cから第1基材層15を分離して、図2に示すように第1位相差層10、第1貼合層30、第2位相差層20、及び第2基材層25がこの順に積層された位相差積層体1bを得る工程である。第1基材層15の分離は、第1基材層15のみを剥離するものであってもよく、位相差積層体1cが第1配向層11を含む場合は、第1基材層15とともに第1配向層11を剥離するものであってもよい。これにより、第1基材層15と第1位相差層10に含まれる第1液晶層12とを分離することができる。 The process of separating the first base layer 15 is a process of separating the first base layer 15 from the retardation laminate 1c shown in FIG. 3 to obtain a retardation laminate 1b in which the first retardation layer 10, the first bonding layer 30, the second retardation layer 20, and the second base layer 25 are laminated in this order as shown in FIG. 2. The separation of the first base layer 15 may involve peeling off only the first base layer 15, or, if the retardation laminate 1c includes a first alignment layer 11, may involve peeling off the first alignment layer 11 together with the first base layer 15. This allows the first base layer 15 to be separated from the first liquid crystal layer 12 included in the first retardation layer 10.

第2貼合層32を介して貼合する工程は、位相差積層体1cから第1基材層15を分離することによって露出した第1露出面と光学フィルム40とを貼合する工程である。第1露出面は、位相差積層体1cが第1配向層11を含むか否か、また、第1基材層15の分離によって第1配向層11が剥離されるか否かにより、第1液晶層12又は第1配向層11となり得る。 The process of bonding via the second bonding layer 32 is a process of bonding the first exposed surface exposed by separating the first base layer 15 from the retardation laminate 1c to the optical film 40. The first exposed surface can be the first liquid crystal layer 12 or the first alignment layer 11, depending on whether the retardation laminate 1c includes the first alignment layer 11 or not, and whether the first alignment layer 11 is peeled off by separating the first base layer 15 or not.

第2貼合層32を介して貼合する工程は、例えばまず、第1露出面側及び/又は光学フィルム40側に、第2貼合層32を形成するための第2貼合剤組成物層を形成する。次に、第2貼合剤組成物層から第2貼合層32を形成する。第2貼合剤組成物層から第2貼合層32を形成する方法は、第2貼合剤組成物層の種類に応じて選択すればよい。例えば、第2貼合剤組成物が接着剤組成物である場合は、活性エネルギー線の照射や加熱処理等を行って貼合剤を硬化することにより第2貼合層32を形成してもよく、第2貼合剤組成物が粘着剤組成物である場合は、第2貼合剤組成物層を第2貼合層32としてもよい。これにより、図4に示す光学積層体5aを得ることができる。 In the step of laminating via the second laminating layer 32, for example, first, a second laminating composition layer for forming the second laminating layer 32 is formed on the first exposed surface side and/or the optical film 40 side. Next, the second laminating layer 32 is formed from the second laminating composition layer. The method for forming the second laminating layer 32 from the second laminating composition layer may be selected according to the type of the second laminating composition layer. For example, when the second laminating composition is an adhesive composition, the second laminating layer 32 may be formed by curing the laminating agent by irradiating with active energy rays or performing a heat treatment, etc., and when the second laminating composition is a pressure-sensitive adhesive composition, the second laminating composition layer may be used as the second laminating layer 32. This allows the optical laminate 5a shown in FIG. 4 to be obtained.

第2基材層25を分離する工程は、光学積層体5aから第2基材層25を分離する工程である。第2基材層25の分離は、第2基材層25のみが剥離されてもよく、位相差積層体1b,1cが第2配向層21を含む場合は、第2基材層25とともに第2配向層21も剥離されてもよい。 The process of separating the second substrate layer 25 is a process of separating the second substrate layer 25 from the optical laminate 5a. When separating the second substrate layer 25, only the second substrate layer 25 may be peeled off, or, if the retardation laminates 1b and 1c include the second alignment layer 21, the second alignment layer 21 may also be peeled off together with the second substrate layer 25.

第3貼合層を形成する工程は、光学積層体5aから第2基材層25を分離することによって露出した第2露出面に、第3貼合層を形成する工程であり、第3貼合層のみを形成してもよく、第3貼合層及び剥離フィルムがこの順に積層された積層構造を形成してもよい。第2露出面は、光学積層体5aが第2配向層21を含むか否か、また、第2基材層25の分離によって第2配向層21が剥離されるか否かにより、第2液晶層22又は第2配向層21となり得る。 The process of forming the third bonding layer is a process of forming a third bonding layer on the second exposed surface exposed by separating the second base layer 25 from the optical laminate 5a. Only the third bonding layer may be formed, or a laminate structure may be formed in which the third bonding layer and the release film are laminated in this order. The second exposed surface can be the second liquid crystal layer 22 or the second alignment layer 21, depending on whether the optical laminate 5a includes the second alignment layer 21 or not, and whether the second alignment layer 21 is peeled off by separating the second base layer 25 or not.

第3貼合層は、粘着剤層であることが好ましい。この場合、第3貼合層を形成する工程は、剥離フィルム上に第3貼合層を形成した剥離フィルム付き貼合層の第3貼合層側を、第2露出面に貼合することによって行ってもよい。これにより、第3貼合層の第2位相差層20とは反対側に、第3貼合層を被覆保護する剥離フィルムが設けられた光学積層体1を得ることができる。 The third bonding layer is preferably a pressure-sensitive adhesive layer. In this case, the step of forming the third bonding layer may be performed by bonding the third bonding layer side of the bonding layer with a release film, in which the third bonding layer is formed on a release film, to the second exposed surface. This makes it possible to obtain an optical laminate 1 in which a release film that covers and protects the third bonding layer is provided on the side of the third bonding layer opposite the second retardation layer 20.

上記したように、第1位相差層10の突刺し弾性率E1が上記した範囲にある場合であっても、突刺し弾性率E1及び突刺し弾性率E2が上記式(1)の関係にあることにより、位相差積層体1a,1bに発生するカールを抑制することができる。これにより、光学積層体5の製造時の作業性の低下を抑制し、光学積層体5a,5bに発生するカールを抑制できることも期待できる。 As described above, even if the puncture elastic modulus E1 of the first phase difference layer 10 is within the above range, the puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 are in the relationship of formula (1) above, so that curling occurring in the phase difference laminates 1a and 1b can be suppressed. This is expected to suppress a decrease in workability during the manufacture of the optical laminate 5, and to suppress curling occurring in the optical laminates 5a and 5b.

以下、本実施形態の位相差積層体、光学積層体、及びこれらの製造方法で用いた各部材の詳細について説明する。 The following describes in detail the retardation laminate and optical laminate of this embodiment, as well as the components used in their manufacturing methods.

(第1位相差層、第2位相差層)
第1位相差層及び第2位相差層(以下、両者をまとめて「位相差層」ということがある。)は、位相差特性を有する層であって、それぞれ重合性液晶化合物の硬化物層である第1液晶層及び第2液晶層を含む。第1位相差層は、第1液晶層に加えて第1配向層を有していてもよい。第2位相差層も同様に、第2液晶層に加えて第2配向層を有していてもよい。
(First retardation layer, second retardation layer)
The first retardation layer and the second retardation layer (hereinafter, both may be collectively referred to as "retardation layers") are layers having retardation properties, and are each a cured product layer of a polymerizable liquid crystal compound. The first retardation layer may have a first alignment layer in addition to the first liquid crystal layer. The second retardation layer may also have a first alignment layer. In addition to the two liquid crystal layers, there may be a second alignment layer.

(第1液晶層、第2液晶層)
第1液晶層及び第2液晶層(以下、両者をまとめて「液晶層」ということがある。)は、重合性液晶化合物の硬化物層である。重合性液晶化合物としては、棒状の重合性液晶化合物及び円盤状の重合性液晶化合物を用いることができ、これらのうちの一方を用いてもよく、これらの両方を含む混合物を用いてもよい。棒状の重合性液晶化合物が基材層(第1基材層又は第2基材層)に対して水平配向又は垂直配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。棒状の重合性液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報(請求項1等)に記載のものを好適に用いることができる。円盤状の重合性液晶化合物としては、特開2007-108732号公報(段落[0020]~[0067]等)、特開2010-244038号公報(段落[0013]~[0108]等)に記載のものを好適に用いることができる。
(First liquid crystal layer, second liquid crystal layer)
The first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer (hereinafter, both may be collectively referred to as "liquid crystal layers") are layers of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound. A liquid crystal compound and a disc-shaped polymerizable liquid crystal compound can be used. Either one of them may be used, or a mixture containing both of them may be used. When the polymerizable liquid crystal compound is aligned horizontally or vertically with respect to the first substrate layer or the second substrate layer, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound coincides with the long axis direction of the polymerizable liquid crystal compound. When the polymerizable liquid crystal compound is aligned, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound is in a direction perpendicular to the disk surface of the polymerizable liquid crystal compound. The one described in Table 11-513019 (claim 1, etc.) can be suitably used. Examples of the discotic polymerizable liquid crystal compound include those described in JP-A-2007-108732 (paragraphs [0020] to [0067], etc.) and JP-A-2010-244038 (paragraphs [0013] to [0108], etc.). Those can be suitably used.

重合性液晶化合物を重合することによって形成される液晶層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶化合物を適した方向に配向させればよい。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、配向層と重合性液晶化合物との組み合わせによって調整することができる。 In order for the liquid crystal layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound to exhibit an in-plane retardation, the polymerizable liquid crystal compound may be aligned in an appropriate direction. When the polymerizable liquid crystal compound is rod-shaped, the in-plane retardation is exhibited by aligning the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound horizontally to the plane of the base layer, in which case the optical axis direction and the slow axis direction coincide. When the polymerizable liquid crystal compound is disc-shaped, the in-plane retardation is exhibited by aligning the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound horizontally to the plane of the base layer, in which case the optical axis and the slow axis are perpendicular to each other. The alignment state of the polymerizable liquid crystal compound can be adjusted by the combination of the alignment layer and the polymerizable liquid crystal compound.

重合性液晶化合物は、少なくとも1つの重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性液晶化合物を2種類以上を併用する場合、少なくとも1種類が分子内に2以上の重合性基を有することが好ましい。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。 A polymerizable liquid crystal compound is a compound having at least one polymerizable group and liquid crystal properties. When two or more types of polymerizable liquid crystal compounds are used in combination, it is preferable that at least one type has two or more polymerizable groups in the molecule. The polymerizable group means a group that participates in a polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. Here, the photopolymerizable group means a group that can participate in a polymerization reaction by an active radical or acid generated from a photopolymerization initiator described later. Examples of the polymerizable group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal compound may be thermotropic or lyotropic liquid crystal, and when thermotropic liquid crystals are classified according to the degree of order, they may be nematic or smectic liquid crystals.

液晶層の厚みは特に限定されないが、0.5μm以上であることが好ましく、1μm以上であってもよく、通常8μm以下であり、5μm以下であってもよく、3μm以下であることが好ましい。 The thickness of the liquid crystal layer is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more, may be 1 μm or more, and is usually 8 μm or less, may be 5 μm or less, and is preferably 3 μm or less.

(第1配向層、第2配向層)
第1配向層及び第2配向層(以下、両者をまとめて「配向層」という場合がある。)は、これらの配向層上に形成される液晶層に含まれる重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有する。後述する液晶層形成用組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理に対する耐熱性を有するものが好ましい。
(First alignment layer, second alignment layer)
The first alignment layer and the second alignment layer (hereinafter, both may be collectively referred to as "alignment layers") have an alignment regulating force that aligns the polymerizable liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer formed on these alignment layers in a desired direction. It is preferable that the alignment layer has solvent resistance that does not dissolve the liquid crystal layer-forming composition described later by coating, etc., and has heat resistance to removal of the solvent and heat treatment for orienting the polymerizable liquid crystal compound.

配向層は、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して垂直配向した垂直配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して水平配向した水平配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して傾斜配向させる傾斜配向層であってもよい。第1配向層と第2配向層とは、同じ配向層であってもよく、異なる配向層であってもよい。 The alignment layer may be a vertical alignment layer in which the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound is aligned vertically with respect to the substrate layer, a horizontal alignment layer in which the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound is aligned horizontally with respect to the substrate layer, or an inclined alignment layer in which the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound is aligned at an angle with respect to the substrate layer. The first alignment layer and the second alignment layer may be the same alignment layer or different alignment layers.

配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ(溝)を有するグルブ配向層を挙げることができ、第1配向層と第2配向層とは、同じ種類の層であってもよく、異なる種類の層であってもよい。 Examples of the alignment layer include an alignment polymer layer formed from an alignment polymer, a photoalignment polymer layer formed from a photoalignment polymer, and a groove alignment layer having a concave-convex pattern or multiple grooves on the layer surface. The first alignment layer and the second alignment layer may be the same type of layer or different types of layers.

配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層(第1基材層又は第2基材層)に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。 The oriented polymer layer can be formed by applying a composition in which an oriented polymer is dissolved in a solvent to a substrate layer (first substrate layer or second substrate layer), removing the solvent, and performing a rubbing treatment as necessary. In this case, the orientation control force of the oriented polymer layer formed from the oriented polymer can be adjusted as desired by adjusting the surface condition of the oriented polymer and the rubbing conditions.

光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材層(第1基材層又は第2基材層)に塗布し、紫外線等の光を照射することで形成することができる。特に水平方向に配向規制力を発現する場合等においては、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。 The photoalignable polymer layer can be formed by applying a composition containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent to a substrate layer (first substrate layer or second substrate layer) and irradiating it with light such as ultraviolet light. In particular, when an alignment control force is to be exerted in the horizontal direction, the layer can be formed by irradiating it with polarized light. In this case, the alignment control force in the photoalignable polymer layer can be adjusted as desired by adjusting the conditions for irradiating the photoalignable polymer with polarized light, etc.

グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層(第1基材層又は第2基材層)に転写して硬化する方法、基材層に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。 The groove alignment layer can be formed, for example, by a method of forming a concave-convex pattern by exposing the surface of a photosensitive polyimide film through an exposure mask having slits in a pattern shape, developing, etc., a method of forming an uncured layer of active energy ray curable resin on a plate-shaped master having grooves on its surface, transferring this layer to a substrate layer (first substrate layer or second substrate layer) and curing it, or a method of forming an uncured layer of active energy ray curable resin on a substrate layer, and pressing a roll-shaped master having concave-convex shapes against this layer to form concave-convex shapes and then curing it.

配向層は、配向層が基材層と共に剥離除去される場合、配向層を基材層と共に剥離除去しやすいという観点から、重合性化合物が重合した樹脂を含むことが好ましい。上記の重合性化合物は、重合性基を有する化合物であって、通常は、液晶状態とならない非液晶性の重合性非液晶性化合物である。重合性化合物の重合性基同士が反応して重合性化合物が重合することにより、樹脂となる。 From the viewpoint that the alignment layer can be easily peeled off and removed together with the substrate layer when the alignment layer is peeled off and removed together with the substrate layer, it is preferable that the alignment layer contains a resin formed by polymerizing a polymerizable compound. The above-mentioned polymerizable compound is a compound having a polymerizable group, and is usually a non-liquid crystal polymerizable non-liquid crystal compound that does not become liquid crystal. The polymerizable groups of the polymerizable compound react with each other to polymerize the polymerizable compound, thereby forming a resin.

配向層は、配向層が基材層と共に剥離除去される場合、公知の単官能又は多官能の(メタ)アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等である樹脂を含むことが好ましい。(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、2-エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。なお、樹脂としては、これらの1種類であってもよいし、2種類以上の混合物であってもよい。このような樹脂を配向層として用いる場合、液晶層を形成した後、得られた積層物を偏光板等の他の層と積層させる工程の前後において、基材層付き位相差層(基材層付き第1位相差層又は基材層付き第2位相差層)から基材層を分離する際に、配向層を基材層とともに剥離除去することができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。(メタ)アクリレート等の「(メタ)」も同様の意味である。 When the orientation layer is to be peeled off and removed together with the substrate layer, it is preferable that the orientation layer contains a resin that is a cured product obtained by curing a known monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate monomer in the presence of a polymerization initiator. Examples of (meth)acrylate monomers include 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether acrylate, diethylene glycol monophenyl ether acrylate, tetraethylene glycol monophenyl ether acrylate, trimethylolpropane triacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methacrylic acid, urethane acrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol polyacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate. The resin may be one of these or a mixture of two or more of these. When such a resin is used as the alignment layer, after the liquid crystal layer is formed, before or after the step of laminating the obtained laminate with other layers such as a polarizing plate, when the substrate layer is separated from the retardation layer with the substrate layer (the first retardation layer with the substrate layer or the second retardation layer with the substrate layer), the alignment layer can be peeled off and removed together with the substrate layer. In this specification, "(meth)acrylic" means that it may be either acrylic or methacrylic. The "(meth)" in (meth)acrylate, etc., has the same meaning.

配向層は、配向層が基材層と共に剥離除去されず、液晶層側に残る場合、3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマー、イミド系モノマーもしくはビニルエーテル系モノマーを硬化させた硬化物等の樹脂を含むことが好ましく、3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーを硬化させた硬化物を含むことがより好ましい。 When the alignment layer is not peeled off together with the substrate layer and remains on the liquid crystal layer side, it is preferable that the alignment layer contains a resin such as a cured product obtained by curing a trifunctional or higher (meth)acrylate monomer, an imide monomer, or a vinyl ether monomer, and it is more preferable that the alignment layer contains a cured product obtained by curing a trifunctional or higher (meth)acrylate monomer.

紫外線照射により配向層形成用組成物中の重合性化合物を硬化させて配向層を形成する場合、紫外線の光照射強度は、特に限定されないが、10~1,000mW/cmであることが好ましく、100~600mW/cmであることがより好ましい。基材層上に塗布された配向層形成用組成物への光照射強度が10mW/cm未満であると、反応時間が長くなりすぎ、1,000mW/cmを超えると、光源から輻射される熱により、基材層にシワが発生することで、位相差ムラが生じる恐れがある。照射強度は、重合開始剤、好ましくは光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長400nm以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長280~320nmの波長領域における強度である。このような光照射強度で1回あるいは複数回照射して、その積算光量が10mJ/cm以上、好ましくは100~1,000mJ/cm、より好ましくは400~1,000mJ/cm、さらに好ましくは、600~1,000mJ/cm、ことさら好ましくは600~1,000mJ/cmとなるように設定することが好ましい。基材層上に塗布された配向層形成用組成物への積算光量が10mJ/cm未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、配向層形成用組成物の硬化が不十分となる。また、積算光量が1,000mJ/cmを超えると、照射時間が非常に長くなり、生産性向上には不利なものとなる。基材層の厚みや種類、配向層形成用組成物に含まれる成分の種類、及び、配向層形成用組成物中の成分の組み合わせ等によって、光照射時の波長(UVA(320~390nm)やUVB(280~320nm)等)は異なり、光照射時の波長に応じて必要となる積算光量も変化する。 When the alignment layer is formed by curing the polymerizable compound in the composition for forming an alignment layer by irradiation with ultraviolet light, the light irradiation intensity of the ultraviolet light is not particularly limited, but is preferably 10 to 1,000 mW/cm 2 , and more preferably 100 to 600 mW/cm 2. If the light irradiation intensity of the composition for forming an alignment layer applied on the substrate layer is less than 10 mW/cm 2 , the reaction time becomes too long, and if it exceeds 1,000 mW/cm 2 , the heat radiated from the light source may cause wrinkles in the substrate layer, resulting in uneven phase difference. The irradiation intensity is an intensity in a wavelength region effective for activating a polymerization initiator, preferably a photoradical polymerization initiator, more preferably an intensity in a wavelength region of 400 nm or less, and even more preferably an intensity in a wavelength region of 280 to 320 nm. It is preferable to set the cumulative light amount to be 10 mJ/cm 2 or more, preferably 100 to 1,000 mJ/cm 2 , more preferably 400 to 1,000 mJ/cm 2 , even more preferably 600 to 1,000 mJ/cm 2 , and even more preferably 600 to 1,000 mJ/cm 2 , by irradiating with such light irradiation intensity once or multiple times. If the cumulative light amount applied to the composition for forming an alignment layer applied to the base layer is less than 10 mJ/cm 2 , the generation of active species derived from the polymerization initiator is insufficient, and the curing of the composition for forming an alignment layer is insufficient. If the cumulative light amount exceeds 1,000 mJ/cm 2 , the irradiation time becomes very long, which is disadvantageous for improving productivity. The wavelength of light irradiation (UVA (320 to 390 nm), UVB (280 to 320 nm), etc.) varies depending on the thickness and type of the base layer, the types of components contained in the composition for forming an alignment layer, and the combination of components in the composition for forming an alignment layer, and the like, and the integrated amount of light required also changes depending on the wavelength of light irradiation.

紫外線照射により配向層形成用組成物中の重合性化合物を硬化させる場合、重合度を十分高められるという観点から、紫外線照射時の温度は好ましくは25℃以上であり、より好ましくは50℃以上であり、さらに好ましくは、80℃以上である。また、温度が高すぎる場合、基材層にシワが生じ、位相差ムラが発生することが懸念されることから、紫外線照射時の温度は好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは120℃以下である。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。 When the polymerizable compound in the composition for forming the alignment layer is cured by UV irradiation, the temperature during UV irradiation is preferably 25°C or higher, more preferably 50°C or higher, and even more preferably 80°C or higher, from the viewpoint of sufficiently increasing the degree of polymerization. In addition, if the temperature is too high, wrinkles may occur in the base layer, and there is a concern that uneven phase difference may occur. Therefore, the temperature during UV irradiation is preferably 200°C or lower, more preferably 150°C or lower, and even more preferably 120°C or lower. The above upper and lower limits can be combined in any combination.

配向層の厚みは特に限定されないが、0.01μm以上であることが好ましく、0.05μm以上であってもよく、0.1μm以上であってもよく、通常5μm以下であり、2.5μm以下であってもよく、1μm以下であってもよい。 The thickness of the alignment layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 μm or more, may be 0.05 μm or more, may be 0.1 μm or more, and is usually 5 μm or less, may be 2.5 μm or less, or may be 1 μm or less.

(基材層付き第1位相差層、基材層付き第2位相差層)
基材層付き第1位相差層及び基材層付き第2位相差層(以下、両者をまとめて「基材層付き位相差層」ということがある。)は、基材層上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布、乾燥し、重合性液晶化合物を重合させることによって形成された硬化物層である液晶層を形成することによって得ることができる。液晶層形成用組成物は、基材層上に配向層が形成されている場合は、配向層上に塗布すればよく、液晶層が2層以上の多層構造である場合には、液晶層形成用組成物を順次塗布する等により、多層構造を形成すればよい。配向層の形成方法は、上記した方法を用いることができる。
(First Retardation Layer with Base Layer, Second Retardation Layer with Base Layer)
The first retardation layer with a substrate layer and the second retardation layer with a substrate layer (hereinafter, both may be collectively referred to as "substrate layer-attached retardation layers") can be obtained by applying a liquid crystal layer-forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound onto the substrate layer, drying it, and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound to form a liquid crystal layer, which is a cured layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound. When an alignment layer is formed on the substrate layer, the liquid crystal layer-forming composition may be applied onto the alignment layer, and when the liquid crystal layer has a multilayer structure of two or more layers, the liquid crystal layer-forming composition may be applied sequentially to form a multilayer structure. The above-mentioned method may be used to form the alignment layer.

液晶層形成用組成物は、重合性液晶化合物に加えて通常、溶剤を含む。液晶層形成用組成物は、さらに、重合開始剤、反応性添加剤、重合禁止剤等を含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The liquid crystal layer forming composition usually contains a solvent in addition to the polymerizable liquid crystal compound. The liquid crystal layer forming composition may further contain a polymerization initiator, a reactive additive, a polymerization inhibitor, etc. Each of these components may be used alone or in combination of two or more.

重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい溶剤としては、上記重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤であって、且つ、上記重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤が好ましい。 As a solvent that may be contained in a composition containing a polymerizable liquid crystal compound, a solvent capable of dissolving the polymerizable liquid crystal compound and being inactive in the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is preferable.

溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、N-メチル-2-ピロリジノン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤;トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤;アセトニトリル等のニトリル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤;等が挙げられる。溶剤は、単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。 Examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and phenol; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and N-methyl-2-pyrrolidinone; non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofuran, and dimethoxyethane; and chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. The solvents may be used alone or in combination.

重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分100質量部に対して、10質量部~10000質量部が好ましく、より好ましくは50質量部~5000質量部である。なお固形分とは、重合性液晶組成物における溶剤以外の成分の合計を意味する。 The content of the solvent in the polymerizable liquid crystal composition is usually preferably 10 parts by mass to 10,000 parts by mass, and more preferably 50 parts by mass to 5,000 parts by mass, per 100 parts by mass of the solid content. The solid content means the total of the components other than the solvent in the polymerizable liquid crystal composition.

重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、及びスルホニウム塩が挙げられる。光ラジカル重合開始剤として、1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The polymerization initiator that may be contained in the composition containing the polymerizable liquid crystal compound is a compound that can initiate the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound, and a photopolymerization initiator is preferred because it can initiate the polymerization reaction under lower temperature conditions. Specifically, photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids under the action of light are included, and among these, photopolymerization initiators that generate radicals under the action of light are preferred. Examples of photoradical polymerization initiators include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzil ketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, oxime compounds, triazine compounds, iodonium salts, and sulfonium salts. As the photoradical polymerization initiator, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

光ラジカル重合開始剤として市販品を用いてもよい。そのような市販品として、具体的には、イルガキュア(Irgacure、登録商標)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア127、イルガキュア2959、イルガキュア754、イルガキュア379EG(以上、BASFジャパン株式会社製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、精工化学株式会社製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬株式会社製)、カヤキュアーUVI-6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP-152、アデカオプトマーSP-170、アデカオプトマーN-1717、アデカオプトマーN-1919、アデカアークルズNCI-831、アデカアークルズNCI-930(以上、株式会社ADEKA製)、TAZ-A、TAZ-PP(以上、日本シイベルヘグナー社製)、及びTAZ-104(三和ケミカル社製)が挙げられる。 Commercially available products may be used as the photoradical polymerization initiator. Specific examples of such commercially available products include Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 127, Irgacure 2959, Irgacure 754, Irgacure 379EG (all manufactured by BASF Japan Ltd.), Seikuol BZ, Seikuol Z, Seikuol BEE (all manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), and Kayacure. (Kayacure) BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (manufactured by Dow), Adeka Optomer SP-152, Adeka Optomer SP-170, Adeka Optomer N-1717, Adeka Optomer N-1919, Adeka Arcles NCI-831, Adeka Arcles NCI-930 (all manufactured by ADEKA Corporation), TAZ-A, TAZ-PP (all manufactured by Nippon SiberHegner AG), and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.).

重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量100重量部に対して、通常、0.1~30質量部であり、好ましくは1~20質量部であり、より好ましくは1~15質量部である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。 The content of the polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 1 to 20 parts by mass, and more preferably 1 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound. Within this range, the reaction of the polymerizable group proceeds sufficiently, and the alignment state of the polymerizable liquid crystal compound is easily stabilized.

重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい架橋剤は、分子内に1個以上の光、熱反応性基を有する化合物である。架橋剤を用いる事により、液晶層の架橋密度が変化し、膜強度を調整しやすくなる。架橋剤としては、多官能アクリレート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、塗工膜の均一性及び膜強度調整の観点から、多官能アクリレート化合物が好ましい。架橋剤は、分子内に2個以上8個以下の反応性基を有することが好ましく、より好ましくは2個以上6個以下の重合性基を有することが好ましい。 The crosslinking agent that may be contained in the composition containing the polymerizable liquid crystal compound is a compound having one or more photo- or heat-reactive groups in the molecule. By using the crosslinking agent, the crosslink density of the liquid crystal layer changes, making it easier to adjust the film strength. Examples of the crosslinking agent include polyfunctional acrylate compounds, epoxy compounds, oxetane compounds, methylol compounds, isocyanate compounds, etc. Among them, polyfunctional acrylate compounds are preferred from the viewpoint of uniformity of the coating film and adjustment of film strength. The crosslinking agent preferably has 2 to 8 reactive groups in the molecule, and more preferably has 2 to 6 polymerizable groups in the molecule.

多官能アクリレートとしては、市販品を用いてもよい。そのような市販品として、具体的には、A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化学株式会社製)、”ARONIX M-220”、同”M-325”、同”M-240”、同”M-270”同”M-309”同”M-310”、同”M-321”、同”M-350”、同”M-360”、同”M-305”、同”M-306”、同”M-450”、同”M-451”、同”M-408”、同”M-400”、同”M-402”、同”M-403”、同”M-404”、同”M-405”、同”M-406”(東亜合成株式会社製)、”EBECRYL11”、同”145”、同”150”、同”40”、同”140”、同”180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYLシリーズ(ダイセル・サイテック株式会社製)等が挙げられる。 Commercially available products may be used as the polyfunctional acrylate. Specific examples of such commercially available products include A-DOD-N, A-HD-N, A-NOD-N, APG-100, APG-200, APG-400, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, HD-N, NOD-N, NPG, TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and "ARONIX "M-220", "M-325", "M-240", "M-270", "M-309", "M-310", "M-321", "M-350", "M-360", "M-305", "M-306", "M-450", "M-451", "M-408" , "M-400", "M-402", "M-403", "M-404", "M-" Examples include 405", M-406 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), EBECRYL11, 145, 150, 40, 140, 180, DPGDA, HDDA, TPGDA, HPNDA, PETIA, PETRA, TMPTA, TMPEOTA, DPHA, and the EBECRYL series (manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.).

架橋剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量100質量部に対して、好ましくは1質量部~30質量部であり、より好ましくは3質量部~20質量部である。架橋剤の含有量が下限値以下であると研磨等の加工時に不具合を生じやすくなり、上限値以上であると液晶化合物の配向状態が不安定になり、配向欠陥が発生しやすくなる。 The content of the crosslinking agent is preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 3 to 20 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound. If the content of the crosslinking agent is below the lower limit, problems are likely to occur during processing such as polishing, and if it is above the upper limit, the orientation state of the liquid crystal compound becomes unstable, making it more likely that orientation defects will occur.

重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい反応性添加剤としては、その分子内に炭素-炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基(-COOH)、水酸基(-OH)、アミノ基(-NH)等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が分子内に有する、炭素-炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ1~20個であり、好ましくはそれぞれ1~10個である。 The reactive additive that may be contained in the composition containing the polymerizable liquid crystal compound is preferably one having a carbon-carbon unsaturated bond and an active hydrogen reactive group in its molecule. The "active hydrogen reactive group" here means a group that is reactive to a group having active hydrogen such as a carboxyl group (-COOH), a hydroxyl group (-OH), or an amino group (-NH 2 ), and representative examples thereof include a glycidyl group, an oxazoline group, a carbodiimide group, an aziridine group, an imide group, an isocyanate group, a thioisocyanate group, and a maleic anhydride group. The number of carbon-carbon unsaturated bonds and active hydrogen reactive groups that the reactive additive has in its molecule is usually 1 to 20, and preferably 1 to 10.

反応性添加剤において、活性水素反応性基は分子内に少なくとも2つ存在することが好ましい。この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。 In the reactive additive, it is preferable that at least two active hydrogen reactive groups are present in the molecule. In this case, the multiple active hydrogen reactive groups may be the same or different.

反応性添加剤が分子内に有する炭素-炭素不飽和結合とは、炭素-炭素二重結合又は炭素-炭素三重結合のことをいい、炭素-炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び/又は(メタ)アクリル基として炭素-炭素不飽和結合を分子内に含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。とりわけ炭素-炭素二重結合としてアクリル基と、活性水素反応性基としてイソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。 The carbon-carbon unsaturated bond that the reactive additive has in the molecule refers to a carbon-carbon double bond or a carbon-carbon triple bond, and is preferably a carbon-carbon double bond. In particular, the reactive additive preferably contains a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule as a vinyl group and/or a (meth)acrylic group. Furthermore, it is preferable that the active hydrogen reactive group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group, a glycidyl group, and an isocyanate group. In particular, a reactive additive having an acrylic group as the carbon-carbon double bond and an isocyanate group as the active hydrogen reactive group is particularly preferable.

反応性添加剤としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテル等の、(メタ)アクリル基とエポキシ基とを有する化合物;オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、(メタ)アクリル基とオキセタン基とを有する化合物;ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレート等の、(メタ)アクリル基とラクトン基とを有する化合物;ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリン等の、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物;イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、2-イソシアナトエチルアクリレート及び2-イソシアナトエチルメタクリレート等の、(メタ)アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物、及びこれらモノマーのオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸、ビニル無水マレイン酸等の、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物等が挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、2-イソシアナトエチルアクリレート、2-イソシアナトエチルメタクリレート、又はこれらモノマーのオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、2-イソシアナトエチルアクリレート、又は、これらモノマーのオリゴマーが特に好ましい。 Examples of reactive additives include compounds having a (meth)acrylic group and an epoxy group, such as methacryloxyglycidyl ether and acryloxyglycidyl ether; compounds having a (meth)acrylic group and an oxetane group, such as oxetane acrylate and oxetane methacrylate; compounds having a (meth)acrylic group and a lactone group, such as lactone acrylate and lactone methacrylate; compounds having a vinyl group and an oxazoline group, such as vinyl oxazoline and isopropenyl oxazoline; compounds having a (meth)acrylic group and an isocyanate group, such as isocyanatomethyl acrylate, isocyanatomethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, and 2-isocyanatoethyl methacrylate, and oligomers of these monomers. In addition, compounds having a vinyl group or vinylene group and an acid anhydride, such as methacrylic anhydride, acrylic anhydride, maleic anhydride, and vinyl maleic anhydride, can be mentioned. Among these, methacryloxyglycidyl ether, acryloxyglycidyl ether, isocyanatomethyl acrylate, isocyanatomethyl methacrylate, vinyloxazoline, 2-isocyanatoethyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate, or oligomers of these monomers are preferred, and isocyanatomethyl acrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, or oligomers of these monomers are particularly preferred.

重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.1質量部以上30質量部以下であり、好ましくは0.1質量部以上5質量部以下である。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a reactive additive, the content is usually 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and preferably 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.

重合性液晶化合物を含む組成物は、組成物を塗布して得られる塗膜をより平坦にするために、レベリング剤を含有していてもよい。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。 The composition containing the polymerizable liquid crystal compound may contain a leveling agent to make the coating film obtained by applying the composition flatter. Examples of the leveling agent include silicone-based, polyacrylate-based, and perfluoroalkyl-based leveling agents.

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、0.01~5質量部が好ましく、0.05~3質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜(重合性液晶化合物の硬化物層)がより平滑となる傾向にあるため好ましい。 The content of the leveling agent is preferably 0.01 to 5 parts by mass, and more preferably 0.05 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. When the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to align the polymerizable liquid crystal compound, and the obtained liquid crystal cured film (cured layer of the polymerizable liquid crystal compound) tends to be smoother, which is preferable.

液晶層形成用組成物の塗布は、例えば、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法によって行うことができる。液晶層形成用組成物の塗布を行った後には、塗布層中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で溶剤を除去することが好ましい。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、減圧乾燥法等が挙げられる。 The liquid crystal layer forming composition can be applied by known methods such as coating methods such as spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, slit coating, bar coating, and applicator methods, and printing methods such as flexography. After applying the liquid crystal layer forming composition, it is preferable to remove the solvent under conditions that do not polymerize the polymerizable liquid crystal compound contained in the applied layer. Examples of drying methods include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying.

塗布層の乾燥後に行う重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法によって行うことができる。重合方法としては、例えば熱重合や光重合等を挙げることができ、重合の容易さの観点から光重合であることが好ましい。光重合により重合性液晶化合物を重合させる場合、液晶層形成用組成物として光重合開始剤を含有するものを用い、この液晶層形成用組成物を塗布、乾燥し、乾燥後の乾燥被膜中に含まれる重合性液晶化合物を液晶配向させ、この液晶配向状態を維持したまま光重合を行うことが好ましい。 The polymerization of the polymerizable liquid crystal compound after drying of the coating layer can be carried out by a known method of polymerizing a compound having a polymerizable functional group. Examples of the polymerization method include thermal polymerization and photopolymerization, and photopolymerization is preferable from the viewpoint of ease of polymerization. When polymerizing the polymerizable liquid crystal compound by photopolymerization, it is preferable to use a liquid crystal layer forming composition containing a photopolymerization initiator, apply and dry this liquid crystal layer forming composition, align the polymerizable liquid crystal compound contained in the dried coating after drying, and perform photopolymerization while maintaining this liquid crystal alignment state.

光重合は、乾燥被膜中の液晶配向させた重合性液晶化合物に対して活性エネルギー線を照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類及びその量、光重合開始剤の種類等に応じて適宜選択することができるが、例えば、可視光線、紫外線、レーザー光、X線、α線、β線及びγ線からなる群より選択される1種以上の活性エネルギー線を挙げることができる。このうち、重合反応の進行を制御しやすく、光重合装置として当分野で広範に用いられているものを使用できるという点から、紫外線が好ましく、紫外線によって光重合可能なように、重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択することが好ましい。光重合にあたっては、適切な冷却手段により、乾燥被膜を冷却しながら活性エネルギー線を照射することで、重合温度を制御することもできる。 Photopolymerization can be carried out by irradiating the polymerizable liquid crystal compound in the dried film with active energy rays. The active energy rays to be irradiated can be appropriately selected depending on the type and amount of polymerizable groups in the polymerizable liquid crystal compound, the type of photopolymerization initiator, etc., and can include, for example, one or more active energy rays selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, laser light, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays. Among these, ultraviolet light is preferred because it is easy to control the progress of the polymerization reaction and photopolymerization devices that are widely used in this field can be used. It is preferable to select the type of polymerizable liquid crystal compound and photopolymerization initiator so that they can be photopolymerized by ultraviolet light. In photopolymerization, the polymerization temperature can also be controlled by irradiating the active energy rays while cooling the dried film with an appropriate cooling means.

紫外線照射により液晶層形成用組成物の塗布層を硬化させる場合、紫外線の光照射強度は、特に限定されないが、10~1,000mW/cmであることが好ましく、100~600mW/cmであることがより好ましい。塗布層への光照射強度が10mW/cm未満であると、反応時間が長くなりすぎ、1,000mW/cmを超えると、光源から輻射される熱により、基材層にシワが発生することで、位相差ムラが生じる恐れがある。照射強度は、重合開始剤、好ましくは光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長400nm以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長280~320nmの波長領域における強度である。このような光照射強度で1回あるいは複数回照射して、その積算光量が10mJ/cm以上、好ましくは100~1,000mJ/cm、より好ましくは400~1,000mJ/cm、さらに好ましくは、600~1000mJ/cm、ことさら好ましくは600~1,000mJ/cmとなるように設定することが好ましい。塗布層への積算光量が10mJ/cm未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、塗布層の硬化が不十分となる。また、積算光量が1,000mJ/cmを超えると、照射時間が非常に長くなり、生産性向上には不利なものとなる。基材層の厚みや種類、液晶層形成用組成物に含まれる成分の種類、及び、液晶層形成用組成物中の成分の組み合わせ等によって、光照射時の波長(UVA(320~390nm)やUVB(280~320nm)等)は異なり、光照射時の波長に応じて必要となる積算光量も変化する。 When the coating layer of the liquid crystal layer forming composition is cured by ultraviolet irradiation, the light irradiation intensity of the ultraviolet light is not particularly limited, but is preferably 10 to 1,000 mW/cm 2 , and more preferably 100 to 600 mW/cm 2. If the light irradiation intensity to the coating layer is less than 10 mW/cm 2 , the reaction time becomes too long, and if it exceeds 1,000 mW/cm 2 , the heat radiated from the light source may cause wrinkles in the base layer, resulting in uneven retardation. The irradiation intensity is an intensity in a wavelength region effective for activating a polymerization initiator, preferably a photoradical polymerization initiator, more preferably an intensity in a wavelength region of 400 nm or less, and even more preferably an intensity in a wavelength region of 280 to 320 nm. It is preferable to set the cumulative light amount to be 10 mJ/ cm2 or more, preferably 100 to 1,000 mJ/ cm2 , more preferably 400 to 1,000 mJ/ cm2 , even more preferably 600 to 1,000 mJ/ cm2 , and particularly preferably 600 to 1,000 mJ/ cm2 , by irradiating the coating layer with such light irradiation intensity once or multiple times. If the cumulative light amount to the coating layer is less than 10 mJ/ cm2 , the generation of active species derived from the polymerization initiator is insufficient, and the coating layer is insufficiently cured. If the cumulative light amount exceeds 1,000 mJ/ cm2 , the irradiation time becomes very long, which is disadvantageous for improving productivity. The wavelength of light (UVA (320 to 390 nm), UVB (280 to 320 nm), etc.) during light irradiation varies depending on the thickness and type of the base layer, the types of components contained in the composition for forming a liquid crystal layer, and the combination of components in the composition for forming a liquid crystal layer, and the like, and the integrated amount of light required also changes depending on the wavelength during light irradiation.

紫外線照射により液晶層形成用組成物の塗布層を硬化させる場合、重合度を十分高められるという観点から、紫外線照射時の温度は好ましくは25℃以上であり、より好ましくは50℃以上であり、さらに好ましくは、80℃以上である。また、温度が高すぎる場合、基材層にシワが生じ、位相差ムラが発生する懸念が有ることから、紫外線照射時の温度は好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは120℃以下である。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。 When the coating layer of the liquid crystal layer forming composition is cured by UV irradiation, the temperature during UV irradiation is preferably 25°C or higher, more preferably 50°C or higher, and even more preferably 80°C or higher, from the viewpoint of sufficiently increasing the degree of polymerization. Furthermore, if the temperature is too high, wrinkles may occur in the base layer, and there is a concern that unevenness in retardation may occur. Therefore, the temperature during UV irradiation is preferably 200°C or lower, more preferably 150°C or lower, and even more preferably 120°C or lower. The above upper and lower limit values can be combined in any combination.

(第1基材層、第2基材層)
第1基材層及び第2基材層(以下、両者をまとめて「基材層」ということがある。)は、これらの基材層上に形成される後述する配向層及び液晶層を支持する支持層としての機能を有する。基材層は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
(First base layer, second base layer)
The first substrate layer and the second substrate layer (hereinafter, both may be collectively referred to as "substrate layers") support an alignment layer and a liquid crystal layer, which will be described later, formed on these substrate layers. The base layer preferably is a film made of a resin material.

樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂;PET、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルケトン系樹脂;ポリフェニレンスルフィド系樹脂;ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び(メタ)アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。 As the resin material, for example, a resin material excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, stretchability, etc. is used. Specifically, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; cyclic polyolefin resins such as norbornene-based polymers; polyester resins such as PET and polyethylene naphthalate; (meth)acrylic acid resins such as poly(methyl meth)acrylate; cellulose ester resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate propionate; vinyl alcohol resins such as polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate; polycarbonate resins; polystyrene resins; polyarylate resins; polysulfone resins; polyethersulfone resins; polyamide resins; polyimide resins; polyether ketone resins; polyphenylene sulfide resins; polyphenylene oxide resins, and mixtures and copolymers thereof can be mentioned. Of these resins, it is preferable to use any one of cyclic polyolefin resins, polyester resins, cellulose ester resins, and (meth)acrylic acid resins, or mixtures thereof.

基材層の厚みは、特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から1~300μmであることが好ましく、10~200μmであることがより好ましく、30~120μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the base layer is not particularly limited, but in general, from the standpoint of strength, ease of handling, and other workability, it is preferably 1 to 300 μm, more preferably 10 to 200 μm, and even more preferably 30 to 120 μm.

基材層付き第1位相差層が第1配向層を有する場合や、基材層付き第2位相差層が第2配向層を有する場合、第1基材層と第1配向層との密着性、及び、第2基材層と第2配向層との密着性を向上させるために、少なくとも第1基材層の第1配向層が形成される側の表面、及び、少なくとも第2基材層の第2配向層が形成される側の表面に、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。 When the first retardation layer with a substrate layer has a first alignment layer, or when the second retardation layer with a substrate layer has a second alignment layer, in order to improve the adhesion between the first substrate layer and the first alignment layer, and between the second substrate layer and the second alignment layer, at least the surface of the first substrate layer on which the first alignment layer is formed and at least the surface of the second substrate layer on which the second alignment layer is formed may be subjected to corona treatment, plasma treatment, flame treatment, or the like, or a primer layer, or the like may be formed.

基材層は、液晶層又は配向層に対して剥離可能であって、基材層と液晶層又は配向層との間の剥離力の大きさは、基材層を剥離する順番を考慮して決定する必要がある。位相差積層体から先に分離する第1基材層の剥離力は、後に分離する第2基材層の剥離力よりも小さいことが好ましい。 The substrate layer is peelable from the liquid crystal layer or the alignment layer, and the magnitude of the peeling force between the substrate layer and the liquid crystal layer or the alignment layer must be determined taking into account the order in which the substrate layers are peeled off. It is preferable that the peeling force of the first substrate layer, which is separated first from the retardation laminate, is smaller than the peeling force of the second substrate layer, which is separated later.

(第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層)
第1貼合層、第2貼合層、及び第3貼合層(以下、これらをまとめて「貼合層」ということがある。)は、粘着剤層又は接着剤硬化層とすることができる。粘着剤層は、粘着剤組成物を用いて形成することができ、接着剤硬化層は、接着剤組成物を用いて形成することができる。
(First lamination layer, second lamination layer, third lamination layer)
The first attachment layer, the second attachment layer, and the third attachment layer (hereinafter, these may be collectively referred to as "attachment layers") may be pressure-sensitive adhesive layers or adhesive curing layers. The pressure-sensitive adhesive layer can be formed using a pressure-sensitive adhesive composition, and the cured adhesive layer can be formed using an adhesive composition.

(粘着剤層)
粘着剤層は、粘着剤組成物で構成された層をいう。本明細書において「粘着剤」とは、それ自体を偏光板や液晶層等の被着体に張り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。また、後述する活性エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線を照射することにより、架橋度や接着力を調整することができる。
(Adhesive Layer)
The adhesive layer refers to a layer composed of an adhesive composition. In this specification, the "adhesive" is a so-called pressure-sensitive adhesive that exhibits adhesiveness by attaching itself to an adherend such as a polarizing plate or a liquid crystal layer. In addition, the active energy ray curable adhesive described later can adjust the crosslinking degree and adhesive strength by irradiating with energy rays.

粘着剤としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤を特に制限なく用いることができ、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等のベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性(以下、リワーク性ともいう。)、耐候性、耐熱性等に優れるアクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤が好適である。粘着剤層は、(メタ)アクリル系樹脂、架橋剤、シラン化合物を含む粘着剤組成物の反応生成物から構成されることが好ましく、その他の成分を含んでいてもよい。 As the adhesive, any adhesive known in the art that has excellent optical transparency can be used without any particular restrictions. For example, an adhesive having a base polymer such as an acrylic, urethane, silicone, or polyvinyl ether adhesive can be used. In addition, an active energy ray curable adhesive, a heat curable adhesive, or the like may be used. Among these, an adhesive having an acrylic resin as a base polymer that has excellent transparency, adhesive strength, removability (hereinafter also referred to as reworkability), weather resistance, heat resistance, and the like is preferable. The adhesive layer is preferably composed of a reaction product of an adhesive composition containing a (meth)acrylic resin, a crosslinking agent, and a silane compound, and may contain other components.

粘着剤層は、活性エネルギー線硬化型粘着剤を用いて形成してもよい。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、粘着剤組成物に、多官能性アクリレート等の紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させることにより、より硬い粘着剤層を形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、紫外線や電子線等のエネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有している。活性化エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線照射前においても粘着性を有しているため、光学フィルムや位相差層等の被着体に密着し、エネルギー線の照射により硬化して密着力を調整することができる性質を有する粘着剤である。 The adhesive layer may be formed using an active energy ray curable adhesive. The active energy ray curable adhesive is prepared by blending an ultraviolet-curable compound such as a multifunctional acrylate into an adhesive composition, forming an adhesive layer, and then curing the adhesive layer by irradiating it with ultraviolet light, thereby forming a harder adhesive layer. The active energy ray curable adhesive has the property of being cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. The active energy ray curable adhesive has adhesiveness even before irradiation with energy rays, and therefore is an adhesive that has the property of adhering to an adherend such as an optical film or a retardation layer, and being cured by irradiation with energy rays to adjust the adhesion.

活性エネルギー線硬化型粘着剤は、一般にはアクリル系粘着剤と、エネルギー線重合性化合物とを主成分として含む。通常はさらに架橋剤が配合されており、また必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を配合することもできる。 Active energy ray-curable adhesives generally contain an acrylic adhesive and an energy ray-polymerizable compound as the main components. Usually, a crosslinking agent is also blended, and if necessary, a photopolymerization initiator, photosensitizer, etc. can also be blended.

粘着剤層の厚みは、3μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましい。また、粘着剤層の厚みは、40μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。 The thickness of the adhesive layer is preferably 3 μm or more, and more preferably 5 μm or more. The thickness of the adhesive layer is preferably 40 μm or less, and more preferably 30 μm or less. The above upper and lower limit values can be combined in any combination.

(接着剤硬化層)
接着剤硬化層は、接着剤組成物中の硬化性成分を硬化させることによって形成される接着剤硬化層をいう。接着剤硬化層を形成するための接着剤組成物としては、感圧型接着剤(粘着剤)以外の接着剤であって、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤が挙げられる。水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を水に溶解、又は分散させた接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含む無溶剤型の活性エネルギー線硬化性接着剤が挙げられる。無溶剤型の活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることにより、層間の密着性を向上させることができる。これに対して、活性エネルギー線硬化性接着剤に溶剤(特に有機溶剤)が含まれていると、接着剤中に含まれる硬化性成分が同じであっても、十分な密着性を得ることができず、位相差積層体や光学積層体を所定のサイズに裁断したとき、その端部において剥離する等の不具合を生じやすい。また、溶剤を乾燥する工程が追加されるため、熱による追加の収縮応力がかかり、位相差積層体や光学積層体にカールが発生しやすくなるおそれがある。
(cured adhesive layer)
The adhesive cured layer refers to an adhesive cured layer formed by curing a curable component in an adhesive composition. The adhesive composition for forming the adhesive cured layer is an adhesive other than a pressure-sensitive adhesive (adhesive), and examples thereof include water-based adhesives and active energy ray curable adhesives. Examples of water-based adhesives include adhesives in which a polyvinyl alcohol resin is dissolved or dispersed in water. Examples of active energy ray curable adhesives include solvent-free active energy ray curable adhesives containing a curable compound that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet light, visible light, electron beams, and X-rays. By using a solvent-free active energy ray curable adhesive, the adhesion between layers can be improved. On the other hand, if the active energy ray curable adhesive contains a solvent (especially an organic solvent), sufficient adhesion cannot be obtained even if the curable component contained in the adhesive is the same, and when the retardation laminate or the optical laminate is cut to a predetermined size, problems such as peeling at the end of the adhesive tend to occur. In addition, since a process of drying the solvent is added, additional shrinkage stress due to heat is applied, and curling may easily occur in the retardation laminate or the optical laminate.

活性エネルギー線硬化性接着剤としては、良好な接着性を示すことから、カチオン重合性の硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化性接着剤は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤、又はラジカル重合開始剤をさらに含むことができる。 The active energy ray curable adhesive preferably contains either one or both of a cationic polymerizable curable compound and a radical polymerizable curable compound, since these exhibit good adhesive properties. The active energy ray curable adhesive may further contain a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound.

カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えばエポキシ系化合物(分子内に1個又は2個以上のエポキシ基を有する化合物)や、オキセタン系化合物(分子内に1個又は2個以上のオキセタン環を有する化合物)、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of cationic polymerizable curable compounds include epoxy compounds (compounds having one or more epoxy groups in the molecule), oxetane compounds (compounds having one or more oxetane rings in the molecule), and combinations of these.

ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に1個又は2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of radically polymerizable curable compounds include (meth)acrylic compounds (compounds having one or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule), other vinyl compounds having radically polymerizable double bonds, or combinations of these.

活性エネルギー線硬化性接着剤は、必要に応じて増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着剤硬化層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、公知のものを適宜適用することができる。増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化性接着剤の総量100質量部に対し、0.1~20質量部の範囲とすることが好ましい。 The active energy ray-curable adhesive may contain a sensitizer as necessary. The use of a sensitizer improves reactivity, and can further improve the mechanical strength and adhesive strength of the cured adhesive layer. Any known sensitizer can be used as appropriate. When a sensitizer is added, the amount of the sensitizer added is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the active energy ray-curable adhesive.

活性エネルギー線硬化性接着剤は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。 The active energy ray-curable adhesive may contain additives such as ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, flow control agents, plasticizers, defoamers, antistatic agents, leveling agents, and solvents, as necessary.

接着剤組成物を、基材層付き第1位相差層や基材層付き第2位相差層の接合面に塗布することによって接着剤組成物層を形成してもよい。塗布方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーター等を用いた通常のコーティング技術を採用すればよい。 The adhesive composition layer may be formed by applying the adhesive composition to the bonding surface of the first retardation layer with the base layer or the second retardation layer with the base layer. As the application method, a conventional coating technique using a die coater, a comma coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, a wire bar coater, a doctor blade coater, an air doctor coater, or the like may be adopted.

水系接着剤を用いた場合の乾燥方法については特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて乾燥する方法が採用できる。 There are no particular limitations on the drying method when using a water-based adhesive, but for example, a drying method using a hot air dryer or an infrared dryer can be used.

活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた場合は、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線を照射し、接着剤組成物層を硬化させて接着剤硬化層を形成することができる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく、この場合の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。 When an active energy ray-curable adhesive is used, the adhesive composition layer can be cured by irradiating it with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays to form a cured adhesive layer. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferred, and in this case, the light source that can be used may be a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excited mercury lamp, a metal halide lamp, or the like.

接着剤硬化層の厚みは、例えば0.01μm以上であり、0.05μm以上であってもよく、0.5μm以上であってもよく、通常5μm以下であり、3μm以下であってもよく、2μm以下であってもよい。 The thickness of the adhesive cured layer is, for example, 0.01 μm or more, may be 0.05 μm or more, may be 0.5 μm or more, and is usually 5 μm or less, may be 3 μm or less, or may be 2 μm or less.

(直線偏光層)
直線偏光層は、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する。直線偏光層は、ポリビニルアルコール(以下、「PVA」と略すこともある。)系樹脂フィルムを含むものであってもよく、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。
(Linear Polarizing Layer)
The linearly polarizing layer has a property of transmitting linearly polarized light having a vibration plane perpendicular to the absorption axis when unpolarized light is incident on the linearly polarizing layer. The linearly polarizing layer may include a polyvinyl alcohol (hereinafter, sometimes abbreviated as "PVA")-based resin film, or may be a cured film obtained by aligning a dichroic dye in a polymerizable liquid crystal compound and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound.

PVA系樹脂フィルムを含む直線偏光層としては、例えば、PVA系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、及び延伸処理が施されたもの等が挙げられる。光学特性に優れることから、PVA系樹脂フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた直線偏光層を用いることが好ましい。 Examples of linearly polarizing layers containing a PVA-based resin film include hydrophilic polymer films such as PVA-based films, partially formalized PVA-based films, and partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films, which have been dyed with iodine or a dichroic substance such as a dichroic dye, and stretched. Because of their excellent optical properties, it is preferable to use a linearly polarizing layer obtained by dyeing a PVA-based resin film with iodine and stretching it uniaxially.

PVA系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。 PVA-based resins can be produced by saponifying polyvinyl acetate-based resins. Polyvinyl acetate-based resins can be polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate. Examples of other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides with ammonium groups.

PVA系樹脂のケン化度は、通常85~100モル%程度であり、好ましくは98モル%以上である。PVA系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も使用可能である。PVA系樹脂の重合度は、通常1,000~10,000程度であり、好ましくは1,500~5,000程度である。 The degree of saponification of PVA-based resins is usually about 85 to 100 mol%, and preferably 98 mol% or more. The PVA-based resin may be modified; for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The degree of polymerization of PVA-based resins is usually about 1,000 to 10,000, and preferably about 1,500 to 5,000.

このようなPVA系樹脂を製膜したものが、直線偏光層の原反フィルムとして用いられる。PVA系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。PVA系樹脂原反フィルムの膜厚は、例えば10~100μm程度、好ましくは10~60μm程度、より好ましくは15~30μm程度である。 A film made from such a PVA-based resin is used as the original film for the linear polarizing layer. The method for making the PVA-based resin film is not particularly limited, and the film can be made by a known method. The thickness of the PVA-based resin original film is, for example, about 10 to 100 μm, preferably about 10 to 60 μm, and more preferably about 15 to 30 μm.

その他のPVA系樹脂フィルムを含む直線偏光層の製造方法としては、まず基材フィルムを用意し、基材フィルム上にPVA系樹脂等の樹脂の溶液を塗布し、溶媒を除去する乾燥等を行って基材フィルム上に樹脂層を形成する工程を含むものを挙げることができる。なお、基材フィルムの樹脂層が形成される面には、予めプライマー層を形成することができる。基材フィルムとしては、PET等の樹脂フィルムを使用できる。プライマー層の材料としては、直線偏光層に用いられる親水性樹脂を架橋したPVA樹脂等を挙げることができる。 Other examples of the manufacturing method of the linear polarizing layer including a PVA-based resin film include a process that includes the steps of first preparing a substrate film, applying a solution of a resin such as a PVA-based resin onto the substrate film, and then drying to remove the solvent to form a resin layer on the substrate film. A primer layer can be formed in advance on the surface of the substrate film on which the resin layer is to be formed. A resin film such as PET can be used as the substrate film. Examples of materials for the primer layer include PVA resin crosslinked with the hydrophilic resin used in the linear polarizing layer.

次いで、必要に応じて樹脂層の水分等の溶媒量を調整し、その後、基材フィルム及びPVA樹脂層を一軸延伸し、続いて、PVA樹脂層をヨウ素等の二色性色素で染色して二色性色素をPVA樹脂層に吸着配向させる。続いて、必要に応じて二色性色素が吸着配向したPVA樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行う。これにより、二色性色素が吸着配向されたPVA樹脂層、すなわち、直線偏光層のフィルムが製造される。各工程には公知の方法を採用できる。 Next, the amount of solvent such as water in the resin layer is adjusted as necessary, and then the base film and the PVA resin layer are uniaxially stretched. The PVA resin layer is then dyed with a dichroic dye such as iodine to adsorb and align the dichroic dye in the PVA resin layer. Next, as necessary, the PVA resin layer with the dichroic dye adsorbed and aligning is treated with an aqueous boric acid solution, and a washing step is performed to wash off the aqueous boric acid solution. This produces a PVA resin layer with the dichroic dye adsorbed and aligning, i.e., a film of a linearly polarizing layer. Publicly known methods can be used for each step.

基材フィルム及びPVA樹脂層の一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸処理中に行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。基材フィルム及びPVA樹脂層は、MD方向(フィルム搬送方向)に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、基材フィルム及びPVA樹脂層は、TD方向(フィルム搬送方向に直交する方向)に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、基材フィルム及びPVA樹脂層の延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にてPVA樹脂層を膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。直線偏光層の性能を発現するためには延伸倍率は4倍以上であり、5倍以上であることが好ましく、特に5.5倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特にないが、破断等を抑制する観点から8倍以下が好ましい。 The uniaxial stretching of the substrate film and the PVA resin layer may be performed before dyeing, during dyeing, or during the boric acid treatment after dyeing. The uniaxial stretching may be performed at each of these multiple stages. The substrate film and the PVA resin layer may be uniaxially stretched in the MD direction (film conveying direction). In this case, they may be uniaxially stretched between rolls with different peripheral speeds, or may be uniaxially stretched using a heated roll. The substrate film and the PVA resin layer may be uniaxially stretched in the TD direction (direction perpendicular to the film conveying direction). In this case, the so-called tenter method can be used. The substrate film and the PVA resin layer may be stretched by dry stretching in the air, or by wet stretching in a state in which the PVA resin layer is swollen with a solvent. In order to express the performance of the linearly polarizing layer, the stretching ratio is 4 times or more, preferably 5 times or more, and particularly preferably 5.5 times or more. There is no particular upper limit to the stretching ratio, but from the viewpoint of suppressing breakage, it is preferably 8 times or less.

上記方法で作製した直線偏光層は、後述する保護層を積層した後に基材フィルムを剥離することで得ることができる。この方法によれば、直線偏光層の更なる薄膜化が可能となる。 The linearly polarizing layer produced by the above method can be obtained by laminating a protective layer (described below) and then peeling off the substrate film. This method makes it possible to further reduce the thickness of the linearly polarizing layer.

重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜である直線偏光層の製造方法としては、基材フィルム上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を、液晶状態を保持したまま重合して硬化させて直線偏光層を形成する方法を挙げることができる。このようにして得られた直線偏光層は、基材フィルムに積層された状態にあり、基材フィルム付き直線偏光層を後述する偏光板として用いてもよい。 As a method for producing a linearly polarizing layer, which is a cured film obtained by orienting a dichroic dye in a polymerizable liquid crystal compound and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound, there can be mentioned a method in which a composition for forming a polarizing layer containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye is applied onto a substrate film, and the polymerizable liquid crystal compound is polymerized and cured while maintaining the liquid crystal state to form a linearly polarizing layer. The linearly polarizing layer thus obtained is in a state in which it is laminated onto the substrate film, and the linearly polarizing layer with the substrate film may be used as a polarizing plate, which will be described later.

二色性色素としては、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を用いることができ、例えば、300~700nmの範囲に吸収極大波長(λmax)を有する色素が好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素等が挙げられ、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素がより好ましい。 As the dichroic dye, a dye having different absorbance in the long axis direction and absorbance in the short axis direction of the molecule can be used, and for example, a dye having a maximum absorption wavelength (λmax) in the range of 300 to 700 nm is preferable. Examples of such dichroic dyes include acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, etc., and among these, azo dyes are preferable. Examples of azo dyes include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakisazo dyes, stilbene azo dyes, etc., and bisazo dyes and trisazo dyes are more preferable.

偏光層形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤等の重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等を含むことができる。偏光層形成用組成物に含まれる、重合性液晶化合物、二色性色素、溶剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等については、公知のものを用いることができ、例えば、特開2017-102479号公報、特開2017-83843号公報に例示されているものを用いることができる。また、重合性液晶化合物は、後述する液晶層(第1液晶層、第2液晶層)を得るために用いた重合性液晶化合物として例示した化合物と同様のものを用いてもよい。偏光層形成用組成物を用いて直線偏光層を形成する方法についても、上記公報に例示された方法を採用することができる。 The composition for forming the polarizing layer may contain a solvent, a polymerization initiator such as a photopolymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, and the like. The polymerizable liquid crystal compound, dichroic dye, solvent, polymerization initiator, photosensitizer, polymerization inhibitor, and the like contained in the composition for forming the polarizing layer may be a known compound, and may be, for example, one exemplified in JP-A-2017-102479 or JP-A-2017-83843. The polymerizable liquid crystal compound may be the same as the compound exemplified as the polymerizable liquid crystal compound used to obtain the liquid crystal layer (first liquid crystal layer, second liquid crystal layer) described later. The method for forming a linear polarizing layer using the composition for forming the polarizing layer may also be the method exemplified in the above publication.

直線偏光層の厚みは、2μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。また、上記の直線偏光層の厚みは、25μm以下であり、15μm以下であることが好ましく、13μm以下であることがより好ましく、さらに7μm以下であることが好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。 The thickness of the linearly polarizing layer is preferably 2 μm or more, and more preferably 3 μm or more. The thickness of the linearly polarizing layer is 25 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, and even more preferably 7 μm or less. The above upper and lower limit values can be combined in any combination.

(偏光板)
直線偏光層はその片面又は両面に、公知の粘着剤層又は接着剤硬化層を介して保護層を積層して偏光板とすることができる。この偏光板はいわゆる直線偏光板である。直線偏光層の片面又は両面に積層することができる保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂から形成されたフィルムが用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂;PET、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂;ポリエーテルスルホン樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂;シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう);(メタ)アクリル樹脂;ポリアリレート樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。直線偏光層の両面に保護層が積層されている場合、二つの保護層の樹脂組成は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(Polarizer)
A polarizing plate can be formed by laminating a protective layer on one or both sides of the linearly polarizing layer via a known adhesive layer or adhesive cured layer. This polarizing plate is a so-called linear polarizing plate. As the protective layer that can be laminated on one or both sides of the linearly polarizing layer, for example, a film formed from a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture blocking property, isotropy, stretchability, etc. is used. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose; polyester resins such as PET and polyethylene naphthalate; polyethersulfone resins; polysulfone resins; polycarbonate resins; polyamide resins such as nylon and aromatic polyamide; polyimide resins; polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymers; cyclic polyolefin resins having cyclo- and norbornene structures (also called norbornene-based resins); (meth)acrylic resins; polyarylate resins; polystyrene resins; polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. When protective layers are laminated on both sides of the linearly polarizing layer, the resin compositions of the two protective layers may be the same or different.

熱可塑性樹脂から形成されたフィルムは、PVA系樹脂及び二色性物質からなる直線偏光層との密着性を向上するため、表面処理(例えば、コロナ処理等)が施されていてもよく、プライマー層(下塗り層ともいう)等の薄層が形成されていてもよい。 The film formed from the thermoplastic resin may be subjected to a surface treatment (e.g., corona treatment, etc.) to improve adhesion with the linear polarizing layer made of the PVA-based resin and the dichroic material, and a thin layer such as a primer layer (also called an undercoat layer) may be formed.

保護層は、例えば前述の熱可塑性樹脂を延伸したものであってもよいし、延伸されていないものであってもよい(以下、「未延伸樹脂」ということがある。)。延伸処理としては、一軸延伸や二軸延伸等が挙げられる。 The protective layer may be, for example, the above-mentioned thermoplastic resin that has been stretched, or may not be stretched (hereinafter, sometimes referred to as "unstretched resin"). Examples of stretching treatments include uniaxial stretching and biaxial stretching.

保護層の厚みは、3μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましい。また、保護層の厚みは、50μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。 The thickness of the protective layer is preferably 3 μm or more, and more preferably 5 μm or more. The thickness of the protective layer is preferably 50 μm or less, and more preferably 30 μm or less. The above upper and lower limit values can be combined in any combination.

保護層の直線偏光層とは反対側の表面は、表面処理層を有していてもよく、例えばハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等を有していてもよい。表面処理層は、保護層上に積層される別の層であってもよく、保護層表面に表面処理が施されて形成されたものであってもよい。 The surface of the protective layer opposite the linear polarizing layer may have a surface treatment layer, such as a hard coat layer, an anti-reflection layer, an anti-sticking layer, an anti-glare layer, a diffusion layer, etc. The surface treatment layer may be a separate layer laminated on the protective layer, or may be formed by applying a surface treatment to the surface of the protective layer.

偏光板の厚みは特に限定されないが、通常2μm以上300μm以下である。偏光板の厚みは、10μm以上であってもよく、また、150μm以下であってもよく、120μm以下であってもよく、80μm以下であってもよい。 The thickness of the polarizing plate is not particularly limited, but is usually 2 μm or more and 300 μm or less. The thickness of the polarizing plate may be 10 μm or more, 150 μm or less, 120 μm or less, or 80 μm or less.

(プロテクトフィルム付き偏光板)
偏光板は、通常その片面に、プロテクトフィルムを積層することにより、プロテクトフィルム付き偏光板とすることができる。プロテクトフィルムは、プロテクトフィルム用樹脂フィルムに粘着剤層が形成されたものであってもよく、自己粘着性フィルムで形成されていてもよい。プロテクトフィルムの厚みは、例えば30~200μmであることができ、好ましくは40~150μmであり、より好ましくは50~120μmである。
(Polarizing plate with protective film)
A polarizing plate can be made into a polarizing plate with a protective film by laminating a protective film on one side of the polarizing plate. The protective film may be a resin film for the protective film on which an adhesive layer is formed, or may be formed of a self-adhesive film. The thickness of the protective film may be, for example, 30 to 200 μm, preferably 40 to 150 μm, and more preferably 50 to 120 μm.

プロテクトフィルム用樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂のようなポリオレフィン系樹脂;環状ポリオレフィン系樹脂;PETやポリエチレンナフタレートのようなポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂等を挙げることができる。このうち、PET等のポリエステル系樹脂が好ましい。プロテクトフィルム用樹脂フィルムは、1層構造であってもよいが、2層以上の多層構造を有していてもよい。 Examples of resins constituting the resin film for the protective film include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins; cyclic polyolefin resins; polyester resins such as PET and polyethylene naphthalate; polycarbonate resins; (meth)acrylic resins, etc. Among these, polyester resins such as PET are preferred. The resin film for the protective film may have a single-layer structure, but may also have a multi-layer structure of two or more layers.

プロテクトフィルム用粘着剤層を構成する粘着剤としては、上記した粘着剤層を構成する粘着剤と同様のものを用いることができる。また、プロテクトフィルムは、プロテクトフィルム用樹脂フィルム面上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等することにより粘着剤層を形成して得ることができる。必要に応じて、プロテクトフィルム用樹脂フィルムの粘着剤塗布面には密着性を向上するために、表面処理(例えば、コロナ処理等)が施されていてもよく、プライマー層(下塗り層ともいう)等の薄層が形成されていてもよい。また、必要に応じて、プロテクトフィルム用粘着剤層の、プロテクトフィルム用樹脂フィルム側とは反対側の表面を被覆して保護するための剥離フィルムを有していてもよい。この剥離フィルムは、偏光板と貼り合わせる際の適宜のタイミングで剥離することができる。 The adhesive constituting the adhesive layer for the protective film may be the same as the adhesive constituting the adhesive layer described above. The protective film can be obtained by forming an adhesive layer by applying an adhesive composition to the surface of the resin film for the protective film and drying it. If necessary, the adhesive-coated surface of the resin film for the protective film may be subjected to a surface treatment (e.g., corona treatment, etc.) to improve adhesion, and a thin layer such as a primer layer (also called an undercoat layer) may be formed. If necessary, the adhesive layer for the protective film may have a release film for covering and protecting the surface opposite to the resin film for the protective film. This release film can be peeled off at an appropriate timing when laminating with a polarizing plate.

自己粘着性フィルムは、粘着剤層等の付着のための手段を設けることなくそれ自身で付着し、かつ、その付着状態を維持することが可能なフィルムである。自己粘着性フィルムは、例えばポリプロピレン系樹脂及びポリエチレン系樹脂等を用いて形成することができる。 A self-adhesive film is a film that can adhere by itself without the need for a means for adhesion such as an adhesive layer, and can maintain that adhered state. Self-adhesive films can be formed, for example, using polypropylene-based resins and polyethylene-based resins.

プロテクトフィルム付き偏光板の厚みは、32μm以上500μm以下であることが好ましい。プロテクトフィルム付き偏光板の厚みは、40μm以上であってもよく、また、350μm以下であってもよく、200μm以下であってもよく、150μm以下であってもよい。 The thickness of the polarizing plate with the protective film is preferably 32 μm or more and 500 μm or less. The thickness of the polarizing plate with the protective film may be 40 μm or more, and may be 350 μm or less, 200 μm or less, or 150 μm or less.

(剥離フィルム)
剥離フィルムは、粘着剤層を被覆保護する、又は、粘着剤層を支持するものであって、粘着剤層に対して剥離可能なセパレータとしての機能を有する。剥離フィルムとしては、基材フィルムの粘着剤層側の表面にシリコーン処理等の離型処理が施されたフィルムを挙げることができる。基材フィルムをなす樹脂材料としては、上記した保護層をなす樹脂材料と同様のものを挙げることができる。樹脂フィルムは1層構造であってもよく、2層以上の多層構造の多層樹脂フィルムであってもよい。
(Release film)
The release film covers and protects the adhesive layer or supports the adhesive layer, and functions as a separator that can be peeled off from the adhesive layer. Examples of the release film include a film in which a release treatment such as silicone treatment has been applied to the surface of the adhesive layer side of the substrate film. Examples of the resin material constituting the substrate film include the same resin material as the above-mentioned resin material constituting the protective layer. The resin film may have a single layer structure, or may be a multilayer resin film having a multilayer structure of two or more layers.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、質量%及び質量部である。 The present invention will be explained in more detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples and comparative examples, "%" and "parts" are by mass % and parts by mass unless otherwise specified.

[突刺し弾性率E1,E2の測定]
(測定試料の準備)
実施例及び比較例で用いた基材層付き第1位相差層及び基材層付き第2位相差層をそれぞれ40mm×40mmのサイズに切り出し、それぞれを切出し片とした。また40mm×40mmの糊付き台紙を用意した。この糊付き台紙は、中央部が30mm×30mmの正方形で切り抜かれている。切出し片の第1位相差層の表面又は第2位相差層の表面が糊付き台紙における糊に接するように、該切出し片を糊付き台紙に貼合した。続いて、切出し片から第1基材層又は第2基材層を分離して、突刺し弾性率E1,E2の測定試料を作製した。
[Measurement of puncture elastic modulus E1, E2]
(Preparation of measurement sample)
The first retardation layer with the substrate layer and the second retardation layer with the substrate layer used in the examples and comparative examples were cut into a size of 40 mm x 40 mm, and each was used as a cut-out piece. A glued mount of 40 mm x 40 mm was also prepared. The glued mount was cut out in a square of 30 mm x 30 mm in the center. The cut-out piece was attached to the glued mount so that the surface of the first retardation layer or the surface of the second retardation layer of the cut-out piece was in contact with the glue on the glued mount. Next, the first substrate layer or the second substrate layer was separated from the cut-out piece to prepare a measurement sample for the puncture elastic modulus E1 and E2.

(突刺し弾性率E1,E2の決定)
ハンディー圧縮試験機(「NDG5 突き刺し試験機 ニードル貫通力測定仕様」、カトーテック株式会社製)に、先端径が1mmφ、0.5Rのニードルを取り付けた。ニードルを測定試料の第1位相差面又は第2位相差面に対して、測定試料の第1位相差層側又は第2位相差層側(糊付き台紙側とは反対側)から垂直に0.33cm/秒の突刺し速度で突刺した。この突刺しにより測定試料が破断する直前の応力F[g]におけるひずみ量S[mm]を算出し、応力F[g]/ひずみ量S[mm]の値を算出した。この操作を、5枚の測定試料に対してそれぞれ行い、その平均値を突刺し弾性率E1,E2[g/mm]として決定した。測定は温度23℃、相対湿度50%の環境下で行った。
(Determination of puncture elastic moduli E1 and E2)
A needle with a tip diameter of 1 mmφ and 0.5R was attached to a handy compression tester ("NDG5 piercing tester needle penetration force measurement specification", manufactured by Kato Tech Co., Ltd.). The needle was pierced vertically from the first retardation layer side or the second retardation layer side (opposite the glued mount side) of the measurement sample at a piercing speed of 0.33 cm/sec into the first retardation surface or the second retardation surface of the measurement sample. The strain amount S [mm] at the stress F [g f ] just before the measurement sample breaks due to this piercing was calculated, and the value of stress F [g f ] / strain amount S [mm] was calculated. This operation was performed on each of the five measurement samples, and the average value was determined as the piercing elastic modulus E1, E2 [g f /mm]. The measurement was performed in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.

[カール量の算出]
(粘着剤層付きCOPフィルムの準備)
プロテクトフィルム付き環状ポリオレフィンフィルム(厚み23μm、ZF-14、日本ゼオン株式会社製)(以下、「プロテクトフィルム付きCOP」ということがある。)を、MD方向(フィルム搬送方向)長さ380mm×TD方向(フィルム搬送方向に直交する方向)長さ180mmのサイズで準備した。プロテクトフィルム付きCOPのプロテクトフィルム側とは反対側の面にコロナ処理(800W、10m/min、バー幅700mm、1回(1Pass))を施した。また、後述する両面セパレータ付き粘着層(380mm×180mm)から第1セパレータを剥離した。自動貼合機HALTECを用いて、上記で準備したプロテクトフィルム付きCOPのCOP面と、上記両面セパレータ付き粘着層から第1セパレータを剥離して露出した面とを貼合し、粘着剤層付きCOPフィルムを得た。粘着剤層付きCOPフィルムは、プロテクトフィルム付きCOP(プロテクトフィルム、環状ポリオレフィンフィルム)、粘着剤層、及び第2セパレータをこの順に有するものであった。
[Calculation of curl amount]
(Preparation of COP film with adhesive layer)
A cyclic polyolefin film with a protective film (thickness 23 μm, ZF-14, manufactured by Zeon Corporation) (hereinafter sometimes referred to as "COP with protective film") was prepared with a size of 380 mm in MD (film conveying direction) length x 180 mm in TD (direction perpendicular to the film conveying direction). A corona treatment (800 W, 10 m/min, bar width 700 mm, 1 pass) was applied to the surface opposite to the protective film side of the COP with protective film. In addition, the first separator was peeled off from the adhesive layer with double-sided separator (380 mm x 180 mm) described later. Using an automatic laminating machine HALTEC, the COP surface of the COP with protective film prepared above and the surface exposed by peeling the first separator from the adhesive layer with double-sided separator were bonded to obtain a COP film with an adhesive layer. The COP film with a pressure-sensitive adhesive layer had a COP with a protective film (protective film, cyclic polyolefin film), a pressure-sensitive adhesive layer, and a second separator in this order.

(COPフィルム付き位相差積層体(試験片(a))のカール値の測定)
粘着剤層付きCOPフィルムから第2セパレータを剥離し、露出した粘着剤層の面と、実施例及び比較例で得た位相差積層体から第1基材層を剥離して露出した露出面とを貼合した。これにより、プロテクトフィルム付きCOP、粘着剤層、第1位相差層、貼合層、第2位相差層、及び第2基材層がこの順に積層された積層体を得、この積層体を、温度23℃、相対湿度55%の環境下で24時間保持した。上記積層体を、長辺の長さが150mm、短辺の長さが50mmとなり、長辺と上記積層体のTD方向とのなす角度が45度となるように切り出した切出し片から、プロテクトフィルム付きCOPのプロテクトフィルムを剥離し、第2基材層を分離したものを試験片(a)とした。
(Measurement of curl value of retardation laminate with COP film (test piece (a)))
The second separator was peeled off from the COP film with the adhesive layer, and the surface of the exposed adhesive layer was bonded to the surface of the retardation laminate obtained in the examples and comparative examples by peeling off the first base layer. As a result, a laminate was obtained in which the COP with the protective film, the adhesive layer, the first retardation layer, the bonding layer, the second retardation layer, and the second base layer were laminated in this order, and this laminate was kept for 24 hours under an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. The above laminate was cut out so that the long side length was 150 mm, the short side length was 50 mm, and the angle between the long side and the TD direction of the above laminate was 45 degrees. The protective film of the COP with the protective film was peeled off from the cut piece, and the second base layer was separated, which was used as the test piece (a).

試験片(a)を十分に除電した後、試験片(a)の凹面を上にして基準面(水平な台)上に置き、試験片(a)の対角線のうち、その延在方向が上記積層体のMD方向に平行な方向に相対的に近い対角線上にある2つの角のそれぞれについて、基準面からの高さを測定し、その平均値を実測MDカール値とした。同様に、その延在方向が上記TD方向に平行な方向に相対的に近い対角線上にある2つの角のそれぞれについて、基準面からの高さを測定し、その平均値を実測TDカール値とした。測定値は、プロテクトフィルムを剥離して露出した環状ポリオレフィンフィルム(以下、「COPフィルム」ということがある。)側が上側となるように試験片(a)を基準面に置くと、試験片(b)の上記2つの角が浮き上がる場合、このカールを正カールとし、基準面からの角の高さを正の数値で表すこととした。一方、COPフィルム側が下側となるように試験片(a)を基準面に置くと、試験片(a)の上記2つの角が浮き上がる場合、このカールを逆カールとし、基準面からの角の高さを負の数値で表すこととした。 After sufficiently discharging the test piece (a), the concave surface of the test piece (a) was placed on a reference surface (horizontal table), and the heights of the two corners on the diagonal line of the test piece (a) whose extension direction is relatively close to the direction parallel to the MD direction of the laminate were measured from the reference surface, and the average value was used as the measured MD curl value. Similarly, the heights of the two corners on the diagonal line whose extension direction is relatively close to the direction parallel to the TD direction were measured from the reference surface, and the average value was used as the measured TD curl value. When the test piece (a) was placed on the reference surface so that the cyclic polyolefin film (hereinafter sometimes referred to as "COP film") side exposed by peeling off the protective film was on top, if the two corners of the test piece (b) rose up, this curl was considered to be a positive curl, and the height of the corners from the reference surface was expressed as a positive value. On the other hand, when test piece (a) is placed on a reference surface with the COP film side facing down, if the above two corners of test piece (a) rise up, this curl is considered to be reverse curl, and the height of the corners from the reference surface is expressed as a negative value.

(粘着剤層付きCOPフィルム(試験片(b))のカール値の測定)
上記で準備した粘着剤層付きCOPフィルムから、プロテクトフィルム付きCOPのプロテクトフィルム及び第2セパレータを剥離すること以外は、上記位相差積層体のカール値の測定と同様にして試験片(b)を得、実測MDカール値及び実測TDカール値を決定した。なお、本実施例において、試験片(b)の実測MDカール値及び実測TDカール値はいずれも0mmであった。
(Measurement of curl value of COP film with adhesive layer (test piece (b)))
A test piece (b) was obtained in the same manner as in the measurement of the curl value of the retardation laminate, except that the protective film and the second separator of the COP with protective film were peeled off from the COP film with the adhesive layer prepared above, and the measured MD curl value and the measured TD curl value were determined. In this embodiment, the measured MD curl value and the measured TD curl value of the test piece (b) were both 0 mm.

(位相差積層体のカール値の決定)
試験片(a)について得られた実測MDカール値から、試験片(b)について得られた実測MDカール値を差し引いた値を、位相差積層体のMDカール値とした。同様に、試験片(a)について得られた実測TDカール値から、試験片(b)について得られた実測TDカール値を差し引いた値を、位相差積層体のTDカール値とした。MDカール値及びTDカール値は、0に近い値であればカールが抑制されていることを示し、絶対値が大きいほどカールが進行していることを示す。
(Determination of Curl Value of Retardation Laminate)
The measured MD curl value obtained for the test piece (b) was subtracted from the measured MD curl value obtained for the test piece (a) to obtain the MD curl value of the retardation laminate.Similarly, the measured TD curl value obtained for the test piece (b) was subtracted from the measured TD curl value obtained for the test piece (a) to obtain the TD curl value of the retardation laminate.The MD curl value and the TD curl value indicate that curl is suppressed if they are close to 0, and the larger the absolute value, the more curling progresses.

[両面セパレータ付き粘着剤層の準備]
撹拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸n-ブチル97.0部、アクリル酸1.0部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル0.5部、酢酸エチル200部、及び2,2'-アゾビスイソブチロニトリル0.08部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で撹拌しながら、反応溶液を60℃に昇温し、6時間反応させた後、室温まで冷却した。得られた溶液の一部の重量平均分子量を測定したところ、180万の(メタ)アクリル酸エステル重合体の生成を確認した。
[Preparation of adhesive layer with double-sided separator]
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen inlet tube was charged with 97.0 parts of n-butyl acrylate, 1.0 parts of acrylic acid, 0.5 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, 200 parts of ethyl acetate, and 0.08 parts of 2,2'-azobisisobutyronitrile, and the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. The reaction solution was heated to 60°C while stirring under a nitrogen atmosphere, reacted for 6 hours, and then cooled to room temperature. When the weight average molecular weight of a portion of the obtained solution was measured, the production of a (meth)acrylic acid ester polymer of 1.8 million was confirmed.

上記で得られた(メタ)アクリル酸エステル重合体100部(固形分換算値;以下同じ)と、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー株式会社製、商品名「コロネートL」)0.30部と、シランカップリング剤として、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、商品名「KBM403」)0.30部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。 100 parts of the (meth)acrylic acid ester polymer obtained above (solid content equivalent; the same applies below) was mixed with 0.30 parts of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name "Coronate L") as an isocyanate-based crosslinking agent, and 0.30 parts of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM403") as a silane coupling agent, thoroughly stirred, and diluted with ethyl acetate to obtain a coating solution of the adhesive composition.

第1セパレータ(リンテック社製:SP-PLR382190)の離型処理面(剥離面)に、アプリケーターにより、乾燥後の厚みが25μmとなるように上記塗工溶液を塗工した後、100℃で1分間乾燥し、粘着剤層を形成した。粘着剤層のセパレータが貼合された面とは反対面に、もう1枚の第2セパレータ(リンテック社製:SP-PLR381031)を貼合し、両面セパレータ付き粘着剤層を得た。 The above coating solution was applied to the release-treated surface (peeling surface) of a first separator (SP-PLR382190, manufactured by Lintec Corporation) with an applicator so that the thickness after drying would be 25 μm, and then dried at 100°C for 1 minute to form an adhesive layer. Another second separator (SP-PLR381031, manufactured by Lintec Corporation) was attached to the surface of the adhesive layer opposite to the surface to which the separator was attached, to obtain an adhesive layer with a double-sided separator.

[接着剤組成物の準備]
下記[a]~[c]に示すカチオン硬化性成分a1~a3、及び、下記[d]及び[e]に示すカチオン重合開始剤及び増感剤を混合した後、脱泡して、光硬化型の接着剤組成物を調製した。下記に示す部数は、接着剤組成物における各材料の配合量である。
[a]カチオン硬化性成分a1
3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル 3',4'-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:CEL2021P、株式会社ダイセル製):70部(固形分量)
[b]カチオン硬化性成分a2
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(商品名:EX-211、ナガセケムテックス株式会社製):20部(固形分量)
[c]カチオン硬化性成分a3
2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(商品名:EX-121、ナガセケムテックス株式会社製):10部(固形分量)
[d]カチオン重合開始剤
商品名「CPI-100」(サンアプロ株式会社製)の50%プロピレンカーボネート溶液:2.25部(固形分量)
[e]増感剤
1,4-ジエトキシナフタレン:2部(固形分量)
[Preparation of adhesive composition]
The cationic curable components a1 to a3 shown in [a] to [c] below, and the cationic polymerization initiators and sensitizers shown in [d] and [e] below were mixed and then degassed to prepare a photocurable adhesive composition. The parts shown below are the amounts of each material in the adhesive composition.
[a] Cationic curable component a1
3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3',4'-epoxycyclohexanecarboxylate (product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 70 parts (solid content)
[b] Cationic curable component a2
Neopentyl glycol diglycidyl ether (product name: EX-211, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 20 parts (solid content)
[c] Cationic curable component a3
2-Ethylhexyl glycidyl ether (product name: EX-121, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 10 parts (solid content)
[d] Cationic polymerization initiator: 50% propylene carbonate solution of "CPI-100" (manufactured by San-Apro Co., Ltd.): 2.25 parts (solid content)
[e] Sensitizer 1,4-diethoxynaphthalene: 2 parts (solid content)

[基材層付き第1位相差層の準備]
(光配向層形成用組成物(1)の調製)
下記の成分を混合し、得られた混合物を温度80℃で1時間撹拌することにより、光配向層形成用組成物(1)を得た。
・光配向性材料(下記式で表される化合物):5部

Figure 0007519786000001

・溶剤(シクロペンタノン):95部 [Preparation of first retardation layer with base layer]
(Preparation of photoalignment layer forming composition (1))
The following components were mixed, and the resulting mixture was stirred at a temperature of 80° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a photoalignment layer (1).
Photoalignment material (compound represented by the following formula): 5 parts
Figure 0007519786000001

Solvent (cyclopentanone): 95 parts

(液晶層形成用組成物(A-1)の調製)
下記の成分を混合し、得られた混合物を80℃で1時間撹拌することにより、液晶層形成用組成物(A-1)を得た。重合性液晶化合物A1及び重合性液晶化合物A2は、特開2010-31223号公報に記載の方法で合成した。
・重合性液晶化合物A1(下記式で表される化合物):80部

Figure 0007519786000002

・重合性液晶化合物A2(下記式で表される化合物):20部
Figure 0007519786000003

・重合開始剤(2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(イルガキュア369;チバスペシャルティケミカルズ社製)):6部
・溶剤(シクロペンタノン):400部 (Preparation of Liquid Crystal Layer Forming Composition (A-1))
The following components were mixed, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour to obtain a liquid crystal layer forming composition (A-1). Polymerizable liquid crystal compound A1 and polymerizable liquid crystal compound A2 were synthesized by the method described in JP-A-2010-31223.
Polymerizable liquid crystal compound A1 (compound represented by the following formula): 80 parts
Figure 0007519786000002

Polymerizable liquid crystal compound A2 (compound represented by the following formula): 20 parts
Figure 0007519786000003

Polymerization initiator (2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)): 6 parts Solvent (cyclopentanone): 400 parts

(基材層付き第1位相差層の作製)
厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(第1基材層)を、コロナ処理装置(AGF-B10、春日電機株式会社製)を用いて出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向層形成用組成物(1)をバーコーター塗布し、80℃で1分間乾燥し、偏光UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、100mJ/cmの積算光量で偏光UV露光を実施して、光配向層(第1配向層)を得た。得られた光配向層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、100nmであった。
(Preparation of the first retardation layer with the base layer)
A polyethylene terephthalate (PET) film (first substrate layer) having a thickness of 100 μm was treated once using a corona treatment device (AGF-B10, manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) under the conditions of an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. The photo-alignment layer forming composition (1) was applied to the corona-treated surface using a bar coater, dried at 80° C. for 1 minute, and exposed to polarized UV light with an integrated light amount of 100 mJ/cm 2 using a polarized UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio Inc.) to obtain a photo-alignment layer (first alignment layer). The thickness of the obtained photo-alignment layer was measured with a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was 100 nm.

続いて、光配向層上に液晶層形成用組成物(A-1)を、バーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB―15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長:365nm、波長365nmにおける照射強度10mW/cm、積算光量:2000mJ/cm)することにより、第1液晶層を形成して、基材層付き第1位相差層を得た。得られた第1液晶層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、厚みは2.0μmであった。基材層付き第1位相差層からPETフィルム(第1基材層)を分離したときの剥離界面は光配向層と第1液晶層の間となり、第1位相差層(第1液晶層)の厚みは2.0μmであり、第1位相差層の突刺し弾性率E1は39.9g/mmであった。 Next, the liquid crystal layer forming composition (A-1) was applied onto the photo-alignment layer using a bar coater, and dried at 120°C for 1 minute. Then, a high pressure mercury lamp (Unicur VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Inc.) was used to irradiate with ultraviolet light (under nitrogen atmosphere, wavelength: 365 nm, irradiation intensity at wavelength 365 nm: 10 mW/cm 2 , accumulated light quantity: 2000 mJ/cm 2 ) to form a first liquid crystal layer, thereby obtaining a first retardation layer with a substrate layer. The thickness of the obtained first liquid crystal layer was measured with a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation), and the thickness was 2.0 μm. When the PET film (first substrate layer) was separated from the first retardation layer with the substrate layer, the peeling interface was between the photoalignment layer and the first liquid crystal layer, the thickness of the first retardation layer (first liquid crystal layer) was 2.0 μm, and the puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer was 39.9 g f /mm.

[基材層付き第2位相差層(1)の準備]
(配向層形成用組成物(2)の調製)
市販の配向性ポリマーであるサンエバーSE-610(日産化学工業株式会社製)に2-ブトキシエタノールを加えて配向層形成用組成物(2)を得た。得られた配向層形成用組成物(2)は、当該組成物の全量に対する固形分の含有割合が1%であり、当該組成物の全量に対する溶剤の含有割合が99%であった。サンエバーSE-610の固形分量は、納品仕様書に記載された濃度から換算した。
[Preparation of second retardation layer (1) with base layer]
(Preparation of Orientation Layer-Forming Composition (2))
2-Butoxyethanol was added to Sunever SE-610 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), a commercially available oriented polymer, to obtain an orientation layer forming composition (2). The obtained orientation layer forming composition (2) had a solid content of 1% relative to the total amount of the composition, and a solvent content of 99% relative to the total amount of the composition. The solid content of Sunever SE-610 was calculated from the concentration stated in the delivery specifications.

(液晶層形成用組成物(B-1)の調製)
下記の成分を混合し、得られた混合物を80℃で1時間撹拌した後、室温まで冷却して液晶層形成用組成物(B-1)を得た。
・重合性液晶化合物(LC242、BASF社製):19.2%

Figure 0007519786000004

・重合開始剤(イルガキュア(登録商標)907、BASFジャパン社製):0.5%:
・反応添加剤(Laromer(登録商標)LR-9000、BASFジャパン社製):1.1%
・溶剤(プロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート):79.1% (Preparation of Liquid Crystal Layer Forming Composition (B-1))
The following components were mixed, and the resulting mixture was stirred at 80° C. for 1 hour and then cooled to room temperature to obtain a liquid crystal layer forming composition (B-1).
Polymerizable liquid crystal compound (LC242, manufactured by BASF): 19.2%
Figure 0007519786000004

Polymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 907, manufactured by BASF Japan Ltd.): 0.5%:
Reactive additive (Laromer (registered trademark) LR-9000, manufactured by BASF Japan): 1.1%
Solvent (propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate): 79.1%

(基材層付き第2位相差層(1)の作製)
厚み38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(第2基材層)を、コロナ処理装置(AGF-B10、春日電機株式会社製)を用いて出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向層形成用組成物(2)をバーコーター塗布し、90℃で1分間乾燥し、配向層(第2配向層)を得た。得られた配向層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、2.2μmであった。
(Preparation of second retardation layer (1) with substrate layer)
A 38 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (second base layer) was treated once using a corona treatment device (AGF-B10, manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) under the conditions of an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. The surface subjected to the corona treatment was coated with the composition for forming an alignment layer (2) using a bar coater and dried at 90° C. for 1 minute to obtain an alignment layer (second alignment layer). The thickness of the obtained alignment layer was measured with a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and found to be 2.2 μm.

続いて、配向層上に液晶層形成用組成物(B-1)を、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB―15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長:365nm、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)することにより、第2液晶層を形成して、基材層付き第2位相差層(1)を得た。基材層付き第2位相差層(1)における第2液晶層の厚みは0.8μmであった。基材層付き第2位相差層(1)からPETフィルム(第2基材層)を分離したときの剥離界面はPETフィルムと配向層との間となり、第2位相差層(配向層及び第2液晶層)の厚みは3.0μmであり、第2位相差層の突刺し弾性率E2は36.0g/mmであった。 Subsequently, the liquid crystal layer forming composition (B-1) was applied onto the alignment layer using a bar coater, and dried at 90 ° C. for 1 minute. Then, a high pressure mercury lamp (Uniquer VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Inc.) was used to irradiate ultraviolet light (under a nitrogen atmosphere, wavelength: 365 nm, integrated light amount at wavelength 365 nm: 1000 mJ / cm 2 ) to form a second liquid crystal layer, thereby obtaining a second retardation layer (1) with a substrate layer. The thickness of the second liquid crystal layer in the second retardation layer (1) with a substrate layer was 0.8 μm. The peeling interface when the PET film (second substrate layer) was separated from the second retardation layer (1) with a substrate layer was between the PET film and the alignment layer, the thickness of the second retardation layer (alignment layer and second liquid crystal layer) was 3.0 μm, and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer was 36.0 g f / mm.

[基材層付き第2位相差層(2)の準備]
(液晶層形成用組成物(B-2)の調製)
反応添加剤(Laromer(登録商標)LR-9000)を含まないこと以外は、液晶層形成用組成物(B-1)の調製と同様にして、液晶層形成用組成物(B-2)を調製した。
[Preparation of second retardation layer (2) with base layer]
(Preparation of Liquid Crystal Layer Forming Composition (B-2))
A liquid crystal layer forming composition (B-2) was prepared in the same manner as in the preparation of the liquid crystal layer forming composition (B-1), except that no reactive additive (Laromer (registered trademark) LR-9000) was contained.

(基材層付き第2位相差層(2)の作製)
配向層上に、液晶層形成用組成物(B-1)に代えて液晶層形成用組成物(B-2)を塗布し、その後の紫外線照射における積算光量を700mJ/cmとしたこと以外は、基材層付き第2位相差層(1)の作製と同様の手順で基材層付き第2位相差層(2)を得た。基材層付き第2位相差層(2)における第2液晶層の厚みは0.8μmであった。基材層付き第2位相差層(2)からPETフィルム(第2基材層)を分離したときの剥離界面は配向層と第2液晶層との間となり、第2位相差層(第2液晶層)の厚みは0.8μmであり、第2位相差層の突刺し弾性率E2は8.2g/mmであった。
(Preparation of second retardation layer (2) with substrate layer)
On the alignment layer, the liquid crystal layer forming composition (B-2) was applied instead of the liquid crystal layer forming composition (B-1), and the integrated light amount in the subsequent ultraviolet irradiation was set to 700 mJ / cm 2. Except for this, the second retardation layer (2) with the substrate layer was obtained in the same procedure as in the preparation of the second retardation layer (1) with the substrate layer. The thickness of the second liquid crystal layer in the second retardation layer (2) with the substrate layer was 0.8 μm. The peeling interface when the PET film (second substrate layer) was separated from the second retardation layer (2) with the substrate layer was between the alignment layer and the second liquid crystal layer, the thickness of the second retardation layer (second liquid crystal layer) was 0.8 μm, and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer was 8.2 g f / mm.

[基材層付き第2位相差層(3)の準備]
配向層上に液晶層形成用組成物(B-2)を塗布した後の紫外線照射における積算光量を1000mJ/cmとしたこと以外は、基材層付き第2位相差層(2)の作製と同様の手順で基材層付き第2位相差層(3)を得た。基材層付き第2位相差層(3)における第2液晶層の厚みは0.8μmであった。基材層付き第2位相差層(3)からPETフィルム(第2基材層)を分離したときの剥離界面は配向層と第2液晶層との間となり、第2位相差層(第2液晶層)の厚みは0.8μmであり、第2位相差層の突刺し弾性率E2は15.0g/mmであった。
[Preparation of second retardation layer (3) with base layer]
Except for the fact that the cumulative amount of light in the ultraviolet irradiation after applying the liquid crystal layer forming composition (B-2) on the alignment layer was 1000 mJ / cm 2 , the second retardation layer with the substrate layer (3) was obtained in the same procedure as in the preparation of the second retardation layer with the substrate layer (2). The thickness of the second liquid crystal layer in the second retardation layer with the substrate layer (3) was 0.8 μm. The peeling interface when the PET film (second substrate layer) was separated from the second retardation layer with the substrate layer (3) was between the alignment layer and the second liquid crystal layer, the thickness of the second retardation layer (second liquid crystal layer) was 0.8 μm, and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer was 15.0 g f / mm.

[基材層付き第2位相差層(4)の準備]
(液晶層形成用組成物(B-4)の調製)
重合開始剤(イルガキュア(登録商標)907)の配合量を半分(0.25%)としたこと以外は、液晶層形成用組成物(B-1)の調製と同様にして、液晶層形成用組成物(B-4)を調製した。
[Preparation of second retardation layer (4) with base layer]
(Preparation of Liquid Crystal Layer Forming Composition (B-4))
A liquid crystal layer forming composition (B-4) was prepared in the same manner as in the preparation of the liquid crystal layer forming composition (B-1), except that the amount of the polymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 907) was halved (0.25%).

(基材層付き第2位相差層(4)の作製)
液晶層形成用組成物(B-4)を用いたこと以外は、基材層付き第2位相差層(1)の作製と同様の手順で基材層付き第2位相差層(4)を得た。基材層付き第2位相差層(4)において、光配向層(第2配向層)の厚みは2.2μmであり、第2液晶層の厚みは0.8μmであった。基材層付き第2位相差層(1)からPETフィルム(第2基材層)を分離したときの剥離界面はPETフィルムと配向層との間となり、第2位相差層(配向層及び第2液晶層)の厚みは3.0μmであり、第2位相差層の突刺し弾性率E2は23.0g/mmであった。
(Preparation of second retardation layer (4) with substrate layer)
Except for using the liquid crystal layer forming composition (B-4), the second retardation layer with the substrate layer (4) was obtained in the same procedure as the preparation of the second retardation layer with the substrate layer (1). In the second retardation layer with the substrate layer (4), the thickness of the photo-alignment layer (second alignment layer) was 2.2 μm, and the thickness of the second liquid crystal layer was 0.8 μm. When the PET film (second substrate layer) was separated from the second retardation layer with the substrate layer (1), the peeling interface was between the PET film and the alignment layer, the thickness of the second retardation layer (alignment layer and second liquid crystal layer) was 3.0 μm, and the puncture modulus E2 of the second retardation layer was 23.0 g f / mm.

〔実施例1〕
上記で準備した基材層付き第2位相差層(1)(MD方向長さ380mm×TD方向長さ180mm)の第2位相差層側の面に、コロナ処理装置(AGF-B10、春日電機株式会社製)を用いて出力0.8kW、処理速度10m/分、バー幅700mmの条件で1回処理した。基材層付き第2位相差層(1)のコロナ処理面に、塗工機(第一理化(株)製のバーコーター)を用いて上記で準備した接着剤組成物を、硬化後の厚みが1μmとなるように塗工して接着剤組成物層を形成した。
Example 1
The surface of the second retardation layer side of the second retardation layer (1) (MD length 380 mm × TD length 180 mm) with the substrate layer prepared above was treated once using a corona treatment device (AGF-B10, manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) under conditions of an output of 0.8 kW, a treatment speed of 10 m / min, and a bar width of 700 mm. The adhesive composition prepared above was applied to the corona-treated surface of the second retardation layer (1) with the substrate layer using a coater (bar coater manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.) so that the thickness after curing was 1 μm to form an adhesive composition layer.

基材層付き第2位相差層(1)上に形成された接着剤組成物層と、上記で準備した基材層付き第1位相差層の第1位相差層側とを、貼付装置(LPA3301、フジプラ(株)社製)を用いて貼合した。その後、ベルトコンベア付き紫外線照射装置(ランプは、フュージョンUVシステムズ社製の「Hバルブ」を使用)を用い、UVA領域では照射強度を390mW/cm、積算光量が420mJ/cmとなるように、UVB域では400mW/cm、積算光量が400mJ/cmとなるように、紫外線を照射して接着剤組成物層を硬化させて、位相差積層体を得た。位相差積層体は、第1基材層、第1位相差層、第1貼合層(接着剤硬化層)、第2位相差層、及び第2基材層がこの順に積層されたものであった。得られた位相差積層体のカール値を決定した。結果を表1に示す。 The adhesive composition layer formed on the second retardation layer (1) with the substrate layer and the first retardation layer side of the first retardation layer with the substrate layer prepared above were laminated using an attachment device (LPA3301, manufactured by Fujipla Co., Ltd.). Thereafter, using a belt conveyor equipped ultraviolet irradiation device (the lamp is "H bulb" manufactured by Fusion UV Systems Co., Ltd.), the adhesive composition layer was cured by irradiating ultraviolet light so that the irradiation intensity in the UVA region was 390 mW / cm 2 and the accumulated light amount was 420 mJ / cm 2 , and the accumulated light amount in the UVB region was 400 mW / cm 2 and 400 mJ / cm 2 , to obtain a retardation laminate. The retardation laminate was a laminate in which the first substrate layer, the first retardation layer, the first bonding layer (adhesive cured layer), the second retardation layer, and the second substrate layer were laminated in this order. The curl value of the obtained retardation laminate was determined. The results are shown in Table 1.

〔比較例1~3〕
基材層付き第2位相差層(1)に代えて、基材層付き第2位相差層(2)~(4)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差積層体を得た。得られた位相差積層体のカール値を決定した。結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1 to 3]
A retardation laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the second retardation layer with the base layer (2) to (4) was used instead of the second retardation layer with the base layer (1). The curl value of the obtained retardation laminate was determined. The results are shown in Table 1.

Figure 0007519786000005
Figure 0007519786000005

1,1a,1b,1c 位相差積層体、5,5a,5b 光学積層体、10 第1位相差層、11 第1配向層、12 第1位相差層、15 第1基材層、18 基材層付き第1位相差層、20 第2位相差層、21 第2配向層、22 第2位相差層、25 第2基材層、28 基材層付き第2位相差層、30 第1貼合層、32 第2貼合層、40 光学フィルム。 1, 1a, 1b, 1c retardation laminate, 5, 5a, 5b optical laminate, 10 first retardation layer, 11 first alignment layer, 12 first retardation layer, 15 first base layer, 18 group First retardation layer with material layer, 20 Second retardation layer, 21 Second alignment layer, 22 Second retardation layer, 25 Second base layer, 28 Second retardation layer with base material layer, 30 First Lamination layer, 32 Second lamination layer, 40 Optical film.

Claims (10)

位相差積層体と、第2貼合層と、光学フィルムとをこの順に有する光学積層体であって、
前記位相差積層体は、第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含み、
前記第1位相差層は、重合性液晶化合物の硬化物層である第1液晶層を含み、
前記第2位相差層は、重合性液晶化合物の硬化物層である第2液晶層を含み、
前記第1位相差層の突刺し弾性率E1は、35gf/mm以上であり、
前記突刺し弾性率E1と、前記第2位相差層の突刺し弾性率E2とは、下記式(1)の関係を満たし、
前記第1位相差層の厚みt1と、前記第2位相差層の厚みt2とは、下記式(2’)の関係を満たし、
前記位相差積層体の第1位相差層側に、前記第2貼合層を介して前記光学フィルムが設けられている、光学積層体。
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
0.1≦t1/t2≦0.8 (2’)
An optical laminate having a retardation laminate, a second bonding layer, and an optical film in this order,
The retardation laminate includes a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order,
The first retardation layer includes a first liquid crystal layer which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The second retardation layer includes a second liquid crystal layer which is a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound,
The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer is 35 gf/mm or more,
The puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (1),
The thickness t1 of the first retardation layer and the thickness t2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (2'),
An optical laminate, wherein the optical film is provided on the first retardation layer side of the retardation laminate via the second attachment layer.
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
0.1≦t1/t2≦0.8 (2')
前記突刺し弾性率E2は、55gf/mm以下である、請求項1に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the puncture elastic modulus E2 is 55 gf/mm or less. 前記第1位相差層は、前記第1液晶層と第1配向層との積層体であり、
前記第1配向層は、前記第1液晶層の前記第1貼合層側とは反対側に設けられる、請求項1又は2に記載の光学積層体。
the first retardation layer is a laminate of the first liquid crystal layer and a first alignment layer,
The optical laminate according to claim 1 , wherein the first alignment layer is provided on a side of the first liquid crystal layer opposite to a side of the first bonding layer.
前記第2位相差層は、前記第2液晶層と第2配向層との積層体であり、
前記第2配向層は、前記第2液晶層の前記第1貼合層側とは反対側に設けられる、請求項1~のいずれか1項に記載の光学積層体。
the second retardation layer is a laminate of the second liquid crystal layer and a second alignment layer,
The optical laminate according to claim 1 , wherein the second alignment layer is provided on a side of the second liquid crystal layer opposite to the first bonding layer.
さらに、前記第2位相差層の前記第1貼合層側とは反対側に第2基材層を有し、
前記第2基材層は、当該第2基材層と前記第2液晶層との間で分離可能に設けられている、請求項1~のいずれか1項に記載の光学積層体。
Further, a second base layer is provided on the opposite side of the second retardation layer to the first attachment layer,
The optical laminate according to any one of claims 1 to 4 , wherein the second base material layer is separably provided between the second base material layer and the second liquid crystal layer.
前記光学フィルムは、直線偏光層の片面又は両面に保護層が設けられた偏光板を含む、請求項1~のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 5 , wherein the optical film comprises a polarizing plate having a linear polarizing layer and a protective layer provided on one or both sides of the linear polarizing layer. 光学フィルム、第2貼合層、第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含む光学積層体の製造方法であって、
第1基材層、第1位相差層、第1貼合層、及び第2位相差層をこの順に含む位相差積層体を準備する工程と、
前記位相差積層体から前記第1基材層を分離する工程と、
前記第1基材層を分離することによって露出した露出面と前記光学フィルムとを、前記第2貼合層を介して貼合する工程と、を含み、
前記位相差積層体は、
前記第1基材層と前記第1位相差層とを有する基材層付き第1位相差層、及び、第2基材層と前記第2位相差層とを有する基材層付き第2位相差層を準備する工程と、
前記基材層付き第1位相差層の前記第1位相差層側と前記基材層付き第2位相差層の前記第2位相差層側とを、前記第1貼合層を介して貼合する工程と、を含む製造方法によって製造され、
前記第1位相差層は、前記第1基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した第1液晶層を含み、
前記第2位相差層は、前記第2基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した第2液晶層を含み、
前記第1位相差層の突刺し弾性率E1は、35gf/mm以上であり、
前記突刺し弾性率E1と、前記第2位相差層の突刺し弾性率E2とは、下記式(1)の関係を満たし、
前記第1位相差層の厚みt1と、前記第2位相差層の厚みt2とは、下記式(2’)の関係を満たす、光学積層体の製造方法。
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
0.1≦t1/t2≦0.8 (2’)
A method for producing an optical laminate including an optical film, a second attachment layer, a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order,
A step of preparing a retardation laminate including a first base layer, a first retardation layer, a first attachment layer, and a second retardation layer in this order;
Separating the first base layer from the retardation laminate;
and bonding the optical film to an exposed surface exposed by separating the first base layer via the second bonding layer,
The retardation laminate is
A step of preparing a base layer-attached first retardation layer having the first base material layer and the first retardation layer, and a base layer-attached second retardation layer having a second base material layer and the second retardation layer;
The first retardation layer side of the first retardation layer with the base layer and the second retardation layer side of the second retardation layer with the base layer are bonded together via the first bonding layer,
the first retardation layer includes a first liquid crystal layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the first base layer,
the second retardation layer includes a second liquid crystal layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound on the second base layer,
The puncture elastic modulus E1 of the first retardation layer is 35 gf/mm or more,
The puncture elastic modulus E1 and the puncture elastic modulus E2 of the second retardation layer satisfy the relationship of the following formula (1),
A method for producing an optical laminate , wherein a thickness t1 of the first retardation layer and a thickness t2 of the second retardation layer satisfy a relationship of the following formula (2') .
0.7≦E1/E2≦1.3 (1)
0.1≦t1/t2≦0.8 (2')
前記基材層付き第1位相差層は、前記第1基材層と前記第1液晶層との間に第1配向層を有する、請求項に記載の光学積層体の製造方法。 The method for producing an optical laminate according to claim 7 , wherein the first retardation layer with a base layer has a first alignment layer between the first base layer and the first liquid crystal layer. 前記基材層付き第2位相差層は、前記第2基材層と前記第2液晶層との間に第2配向層を有する、請求項7又は8に記載の光学積層体の製造方法。 The method for producing an optical laminate according to claim 7 or 8 , wherein the second retardation layer with a base layer has a second alignment layer between the second base layer and the second liquid crystal layer. さらに、前記第2貼合層を介して貼合する工程よりも後に、前記第2基材層を分離する工程を含む、請求項のいずれか1項に記載の光学積層体の製造方法。 The method for producing an optical laminate according to claim 7 , further comprising a step of separating the second base layer after the step of bonding via the second bonding layer.
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