JP7519061B2 - 貼り合わせ体製造方法、貼り合わせ体および微細構造形成方法 - Google Patents
貼り合わせ体製造方法、貼り合わせ体および微細構造形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7519061B2 JP7519061B2 JP2021524851A JP2021524851A JP7519061B2 JP 7519061 B2 JP7519061 B2 JP 7519061B2 JP 2021524851 A JP2021524851 A JP 2021524851A JP 2021524851 A JP2021524851 A JP 2021524851A JP 7519061 B2 JP7519061 B2 JP 7519061B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- sealing material
- sealant
- molding
- molded object
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 87
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 54
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 43
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 43
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 43
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- -1 cyclic olefin Chemical class 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/002—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
- B29C2059/023—Microembossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2791/00—Shaping characteristics in general
- B29C2791/004—Shaping under special conditions
- B29C2791/006—Using vacuum
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
2 被成形物
4 シール材
5 閉鎖空間
21 基板
22 被成形層
Claims (26)
- モールドと被成形物の貼り合わせ体製造方法であって、
前記モールドと前記被成形物を貼り合わせた時に前記被成形物の被成型面を囲えるように前記モールドと前記被成形物のいずれか一方又は両方にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記モールドと前記被成形物を離間した状態で前記モールドと前記被成形物の周りの雰囲気を減圧する減圧工程と、
前記モールドと前記被成形物を重ねて、前記モールドと前記被成形物の間を前記シール材で密封する密封工程と、
前記モールドと前記被成形物の間を密封した状態で、当該モールドと被成形物を流体によって加圧し密接させる第1加圧工程と、
を有し、前記シール材は、少なくとも前記密封工程において流動性を有すると共に、前記モールドと前記被成形物の離型時に前記モールドと前記被成形物のいずれか一方にのみ接着するように構成されることを特徴とする貼り合わせ体製造方法。 - 前記シール材配置工程の前に、前記モールドおよび前記被成形物のいずれか一方に前記シール材との接着力を向上させる第1表面処理部を形成する第1表面処理工程を有することを特徴とする請求項1記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させるプライマーであることを特徴とする請求項2記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させるプラズマ処理又はコロナ処理を施したものであることを特徴とする請求項2記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させる凹凸を形成したものであることを特徴とする請求項2記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記シール材配置工程の前に、前記モールドおよび前記被成形物のいずれか一方に前記シール材との接着力を低下させる第2表面処理部を形成する第2表面処理工程を有することを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記シール材は、水溶性樹脂からなるものであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記シール材は、光の照射により接着力が低減する材料からなるものであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記シール材配置工程は、前記モールドと前記被成形物を平行にした場合に、前記モールドと前記被成形物の被成形面の間の距離よりも、前記シール材を配置した位置における前記モールドと前記被成形物の間の距離から前記シール材の厚みを除いた距離が同じか小さくなるように配置することを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記第1加圧工程は、大気圧で加圧するものであることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 前記減圧工程は、前記モールドと前記被成形物の周りの雰囲気を50Pa以下に減圧するものであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の貼り合わせ体製造方法。
- 成型面を有するモールドと、当該成型面に貼り合わされた被成型面を有する被成形物の貼り合わせ体であって、
前記被成型面を囲うように前記モールドと前記被成形物の間を接着したシール材を具備し、前記シール材は、前記モールドと前記被成形物を離型する際に前記モールドと前記被成形物のいずれか一方にのみ接着するように構成されていることを特徴とする貼り合わせ体。 - 前記モールドおよび前記被成形物のいずれか一方に前記シール材との接着力を向上させる第1表面処理部を有することを特徴とする請求項12記載の貼り合わせ体。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させるプライマーであることを特徴とする請求項13記載の貼り合わせ体。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させるプラズマ処理又はコロナ処理された表面であることを特徴とする請求項13記載の貼り合わせ体。
- 前記第1表面処理部は、前記シール材と前記モールド又は前記被成形物との間の接着力を向上させる凹凸であることを特徴とする請求項13記載の貼り合わせ体。
- 前記モールドおよび前記被成形物のいずれか一方に前記シール材との接着力を低下させる第2表面処理部を有することを特徴とする請求項12ないし16のいずれかに記載の貼り合わせ体。
- 前記シール材は、水溶性樹脂からなるものであることを特徴とする請求項12ないし17のいずれかに記載の貼り合わせ体。
- 前記シール材は、光の照射により接着力が低減する材料からなるものであることを特徴とする請求項12ないし17のいずれかに記載の貼り合わせ体。
- 前記シール材は、前記モールドと前記被成形物の間を50Pa以下の雰囲気で密封するものであることを特徴とする請求項12ないし19のいずれかに記載の貼り合わせ体。
- 被成形物に微細構造を形成する微細構造形成方法であって、
請求項12ないし20のいずれかに記載の貼り合わせ体の前記被成形物から前記モールドを離型する離型工程を有することを特徴とする微細構造形成方法。 - 前記貼り合わせ体を大気圧より大きい圧力で流体によって加圧する第2加圧工程を有することを特徴とする請求項21記載の微細構造形成方法。
- 前記貼り合わせ体に光を照射して被成形物を硬化させる光照射工程を有することを特徴とする請求項21又は22記載の微細構造形成方法。
- 前記シール材を前記モールド又は前記被成形物から除去するシール材除去工程を有することを特徴とする請求項21ないし23のいずれかに記載の微細構造形成方法。
- 前記シール材除去工程は、前記被成型面のエッチングによって前記被成形物から除去するものであることを特徴とする請求項24記載の微細構造形成方法。
- 前記シール材除去工程は、前記シール材を溶解して除去するものであることを特徴とする請求項24記載の微細構造形成方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019105755 | 2019-06-05 | ||
JP2019105755 | 2019-06-05 | ||
PCT/JP2020/021727 WO2020246457A1 (ja) | 2019-06-05 | 2020-06-02 | 貼り合わせ体製造方法、貼り合わせ体および微細構造形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020246457A1 JPWO2020246457A1 (ja) | 2020-12-10 |
JP7519061B2 true JP7519061B2 (ja) | 2024-07-19 |
Family
ID=73653213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021524851A Active JP7519061B2 (ja) | 2019-06-05 | 2020-06-02 | 貼り合わせ体製造方法、貼り合わせ体および微細構造形成方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230001629A1 (ja) |
JP (1) | JP7519061B2 (ja) |
CN (1) | CN114008746A (ja) |
WO (1) | WO2020246457A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004504718A (ja) | 2000-07-18 | 2004-02-12 | ナノネックス コーポレーション | 流体圧力インプリント・リソグラフィ |
US20090183831A1 (en) | 2006-08-04 | 2009-07-23 | Sony Deutschland Gmbh | method of applying a material on a substrate |
JP2010517300A (ja) | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
-
2020
- 2020-06-02 JP JP2021524851A patent/JP7519061B2/ja active Active
- 2020-06-02 CN CN202080040772.1A patent/CN114008746A/zh active Pending
- 2020-06-02 WO PCT/JP2020/021727 patent/WO2020246457A1/ja active Application Filing
- 2020-06-02 US US17/616,713 patent/US20230001629A1/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004504718A (ja) | 2000-07-18 | 2004-02-12 | ナノネックス コーポレーション | 流体圧力インプリント・リソグラフィ |
US20090183831A1 (en) | 2006-08-04 | 2009-07-23 | Sony Deutschland Gmbh | method of applying a material on a substrate |
JP2010517300A (ja) | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114008746A (zh) | 2022-02-01 |
JPWO2020246457A1 (ja) | 2020-12-10 |
US20230001629A1 (en) | 2023-01-05 |
WO2020246457A1 (ja) | 2020-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8377361B2 (en) | Imprint lithography with improved substrate/mold separation | |
JP5411557B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
KR101229100B1 (ko) | 중간 스탬프를 갖는 패턴 복제 | |
JP4815464B2 (ja) | 微細構造転写スタンパ及び微細構造転写装置 | |
US20080164638A1 (en) | Method and apparatus for rapid imprint lithography | |
JP2008542081A5 (ja) | ||
JP2007245702A (ja) | テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法 | |
US10906293B2 (en) | Method and device for embossing of a nanostructure | |
JP2009119695A (ja) | ナノプリント用樹脂スタンパ | |
KR20140030145A (ko) | 나노임프린팅 방법 및 나노임프린팅 방법을 실행하기 위한 나노임프린팅 장치 | |
US9606431B2 (en) | Imprinting device and imprinting method | |
JP5397054B2 (ja) | ナノインプリント方法およびナノインプリント装置 | |
JP7519061B2 (ja) | 貼り合わせ体製造方法、貼り合わせ体および微細構造形成方法 | |
JP2012204584A (ja) | ナノインプリント方法 | |
JP5363165B2 (ja) | 微細凹凸パターンの形成方法及び形成装置 | |
JP5540628B2 (ja) | ナノインプリントパターン形成方法 | |
JP2016002665A (ja) | モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
JP2005353926A (ja) | 基板表面のクリーニング方法及び基板の製造方法 | |
JP6569189B2 (ja) | インプリントモールド用基板及びその製造方法、インプリント方法、インプリントモールド及びその再生方法 | |
WO2020036173A1 (ja) | 微細構造体製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230429 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240618 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7519061 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |