JP7517669B2 - Flux and solder paste - Google Patents
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- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims description 88
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims description 69
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 37
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 37
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 37
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 37
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 claims description 33
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 claims description 8
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 claims description 7
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 claims description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 claims description 6
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 claims description 6
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 6
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 claims description 4
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 32
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 21
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 3
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N Diglycolic acid Chemical compound OC(=O)COCC(O)=O QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000002529 flux (metallurgy) Substances 0.000 description 3
- JMOLZNNXZPAGBH-UHFFFAOYSA-N hexyldecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCC JMOLZNNXZPAGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229950004531 hexyldecanoic acid Drugs 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- SMYREFDDLSTNKQ-UHFFFAOYSA-N oxocan-2-ol Chemical compound OC1CCCCCCO1 SMYREFDDLSTNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N pentadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MELXIJRBKWTTJH-ONEGZZNKSA-N (e)-2,3-dibromobut-2-ene-1,4-diol Chemical compound OC\C(Br)=C(/Br)CO MELXIJRBKWTTJH-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-2,5-diol Chemical compound CC(C)(O)CCC(C)(C)O ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCOCCO OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEOUGZFCUMNGOU-UHFFFAOYSA-N tuberculostearic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O BEOUGZFCUMNGOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001131 (4R)-4-methylnonanoic acid Substances 0.000 description 1
- NZUPFZNVGSWLQC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2,3-dibromopropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound BrCC(Br)CN1C(=O)N(CC(Br)CBr)C(=O)N(CC(Br)CBr)C1=O NZUPFZNVGSWLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVWSLNRSPZAQOK-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromo-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Br)C(Br)=C1O NVWSLNRSPZAQOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HENCHDCLZDQGIQ-UHFFFAOYSA-N 3-[3,5-bis(2-carboxyethyl)-2,4,6-trioxo-1,3,5-triazinan-1-yl]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN1C(=O)N(CCC(O)=O)C(=O)N(CCC(O)=O)C1=O HENCHDCLZDQGIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQTZCQIRCYSUBQ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylnonanoic acid Chemical compound CCCCCC(C)CCC(O)=O WQTZCQIRCYSUBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000004443 Ricinus communis Nutrition 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020816 Sn Pb Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020922 Sn-Pb Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008783 Sn—Pb Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229940114077 acrylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N erucamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(N)=O UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N ethyl (z)-3-(methylamino)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C(\C)NC FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N hexadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000448 lactic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940116335 lauramide Drugs 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QEALYLRSRQDCRA-UHFFFAOYSA-N myristamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(N)=O QEALYLRSRQDCRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 229940037312 stearamide Drugs 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
本発明は、はんだ付けに用いられるフラックス、及び、該フラックスを含むソルダペーストに関する。 The present invention relates to a flux used in soldering and a solder paste containing the flux.
プリント配線板等の電子回路基板に接合部品を実装する際には、はんだ合金とフラックスとを混合したソルダペーストが用いられる。ソルダペーストは、電子回路基板表面の電極部に塗布されると共に、該電極部に接合部品の電極部を接触させた状態で加熱(リフロー)される。これにより、はんだ合金が溶融してはんだ接合部が形成され、該はんだ接合部を介して基板と接合部品とが接合される。 When mounting a joining component on an electronic circuit board such as a printed wiring board, a solder paste made of a mixture of a solder alloy and flux is used. The solder paste is applied to the electrode parts on the surface of the electronic circuit board, and is heated (reflowed) with the electrode parts of the joining component in contact with the electrode parts. This melts the solder alloy to form a solder joint, and the board and the joining component are joined via the solder joint.
ソルダペーストに含まれるフラックスは、一般的に、ロジン、活性剤、溶剤、チキソ剤等から構成される。これらの中でも、ロジンは、フラックス全体の約半分を占める主成分であり、活性力が高いことから、はんだの濡れ性を向上させる。一方で、ロジンは不揮発性であるため、リフロー後に残渣としてはんだ接合部の周囲に残存する。ロジンを含むフラックスにおける残渣は、実装後の工程において、例えば、樹脂封止を行う際に樹脂と基板との密着性を低下させたり、ワイヤボンディングを行う際に電極と基板との接合を阻害したりする虞があった。 The flux contained in solder paste generally consists of rosin, activators, solvents, thixotropic agents, etc. Among these, rosin is the main component, accounting for approximately half of the total flux, and improves the wettability of the solder due to its high activity. However, because rosin is non-volatile, it remains as a residue around the solder joint after reflow. Residues in rosin-containing flux may reduce the adhesion between the resin and the board during resin sealing in post-mounting processes, or may hinder the bonding between the electrode and the board during wire bonding.
従来、洗浄剤を用いた洗浄工程を行うことで残渣を除去した後、樹脂封止やワイヤボンディング等の後工程を行っていたが、洗浄剤による大気汚染や洗浄工程におけるコスト増加の問題から、無洗浄化が求められている。無洗浄で後工程を行うためには、リフロー後の残渣を可能な限り減少させることが望ましい。そのため、近年では、ロジンを含むことなく低残渣を実現可能なフラックスの開発が進められている。例えば、特許文献1では、炭素数が10以上の有機酸からなる有機酸混合物を活性剤として用いることにより、無洗浄でリフロー後の残渣を低減させたフラックスが開示されている。 Conventionally, residues were removed by performing a cleaning process using a cleaning agent, followed by post-processing such as resin sealing and wire bonding. However, due to problems of air pollution caused by cleaning agents and increased costs in the cleaning process, there is a demand for non-cleaning. In order to perform post-processing without cleaning, it is desirable to reduce residues after reflow as much as possible. For this reason, in recent years, efforts have been made to develop fluxes that can achieve low residues without containing rosin. For example, Patent Document 1 discloses a flux that reduces residues after reflow without cleaning by using an organic acid mixture consisting of organic acids with 10 or more carbon atoms as an activator.
しかしながら、例えば、特許文献1のようにロジンを含まないフラックスには、ロジンに代わってはんだの濡れ性を向上させるため、活性剤の一部に不揮発性の活性剤(例えば、炭素数が10以上の有機酸)を含有させる必要があった。そのため、リフロー温度でフラックスの成分を充分に揮発させることが難しく、その結果、リフロー後の残渣を充分に低減させることができなかった。 However, for example, in the case of a flux that does not contain rosin, such as that in Patent Document 1, it is necessary to include a non-volatile activator (e.g., an organic acid having 10 or more carbon atoms) as part of the activator in order to improve the wettability of the solder in place of rosin. This makes it difficult to sufficiently volatilize the flux components at the reflow temperature, and as a result, it is not possible to sufficiently reduce the residue after reflow.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、はんだの濡れ性を向上させると共に、リフロー後の残渣を低減させることが可能なフラックス、及び、該フラックスを含むソルダペーストを提供することを課題とする。 The present invention was made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a flux that can improve the wettability of solder and reduce residue after reflow, and a solder paste containing the flux.
本発明に係るフラックスは、脂肪酸と、イミダゾール化合物とを含む。 The flux according to the present invention contains a fatty acid and an imidazole compound.
脂肪酸及びイミダゾール化合物は、いずれも高い活性力を有することから、前記フラックスは、不揮発性の活性剤を使用しなくても、はんだの濡れ性を向上させる。さらに、脂肪酸及びイミダゾール化合物は、いずれも揮発性の成分であるため、リフロー後の残渣を低減させることができる。 Since both fatty acids and imidazole compounds have high activity, the flux improves the wettability of the solder without using a non-volatile activator. Furthermore, since both fatty acids and imidazole compounds are volatile components, they can reduce residues after reflow.
本発明に係るフラックスは、前記脂肪酸及び前記イミダゾール化合物の合計含有量が、フラックス全体に対して、40重量%以上95重量%以下であることが好ましい。 In the flux according to the present invention, the total content of the fatty acid and the imidazole compound is preferably 40% by weight or more and 95% by weight or less with respect to the entire flux.
斯かる構成により、前記フラックスは、はんだの濡れ性をより向上させることができる。 With this configuration, the flux can further improve the wettability of the solder.
本発明に係るフラックスは、前記脂肪酸が、主鎖の炭素数が10以下の飽和脂肪酸、及び、炭素数が18以下の不飽和脂肪酸の少なくとも一方であることが好ましい。 In the flux according to the present invention, the fatty acid is preferably at least one of a saturated fatty acid having a main chain carbon number of 10 or less and an unsaturated fatty acid having a main chain carbon number of 18 or less.
斯かる構成により、前記フラックスは、粘性を高く、かつ、粘性を適切な範囲に調整することができる。 This configuration allows the flux to have a high viscosity and the viscosity can be adjusted to an appropriate range.
本発明に係るフラックスは、前記不飽和脂肪酸が、オレイン酸、リノール酸、及び、リノレン酸からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。 In the flux according to the present invention, the unsaturated fatty acid is preferably at least one selected from the group consisting of oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid.
斯かる構成により、前記フラックスは、粘性をより適切な範囲に調整することができる。 This configuration allows the viscosity of the flux to be adjusted to a more appropriate range.
本発明に係るフラックスは、前記イミダゾール化合物が、2-フェニルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、及び、2-フェニル-4-メチルイミダゾールからなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。 In the flux according to the present invention, the imidazole compound is preferably at least one selected from the group consisting of 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-phenyl-4-methylimidazole.
これらのイミダゾール化合物は、260℃以下で揮発する。一般的に、リフロー温度は、部品の損傷を抑制する観点から、260℃以下で行われる。よって、イミダゾール化合物が260℃以下で揮発することにより、前記フラックスは、リフロー後の残渣をより低減させることができる。 These imidazole compounds volatilize at 260°C or less. Generally, reflow temperatures are set at 260°C or less to prevent damage to components. Therefore, by volatilizing the imidazole compounds at 260°C or less, the flux can further reduce residues after reflow.
本発明に係るフラックスは、前記脂肪酸の含有量に対する前記イミダゾール化合物の含有量の比が、0.2以上4.9以下であることが好ましい。 In the flux according to the present invention, it is preferable that the ratio of the content of the imidazole compound to the content of the fatty acid is 0.2 or more and 4.9 or less.
斯かる構成により、前記フラックスは、粘性を高く、かつ、粘性を適切な範囲に調整することができる。 This configuration allows the flux to have a high viscosity and the viscosity can be adjusted to an appropriate range.
本発明に係るソルダペーストは、上述のフラックスと、融点が260℃以下のはんだ合金粉末と、を含む。 The solder paste according to the present invention contains the above-mentioned flux and a solder alloy powder having a melting point of 260°C or less.
前記ソルダペーストは、上述のフラックスを含むことにより、はんだの濡れ性を向上させると共に、リフロー後の残渣を低減させることができる。 By including the above-mentioned flux, the solder paste can improve the wettability of the solder and reduce the residue after reflow.
本発明に係るソルダペーストは、前記フラックスの含有量が、ソルダペースト全体に対して、8重量%以上12重量%以下であることが好ましい。 The solder paste according to the present invention preferably contains the flux in an amount of 8% by weight or more and 12% by weight or less based on the total weight of the solder paste.
斯かる構成により、前記ソルダペーストは、はんだの濡れ性をより向上させると共に、リフロー後の残渣をより低減させることができる。 With this configuration, the solder paste can further improve the wettability of the solder and further reduce the residue after reflow.
本発明によれば、はんだの濡れ性に優れると共に、リフロー後の残渣を低減させることが可能なフラックス、及び、該フラックスを含むソルダペーストを提供することができる。 The present invention provides a flux that has excellent solder wettability and can reduce residue after reflow, and a solder paste containing the flux.
以下、本発明の実施形態に係るフラックス、及び、該フラックスを含むソルダペーストについて説明する。 The following describes the flux according to an embodiment of the present invention and the solder paste containing the flux.
<フラックス>
(脂肪酸)
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸を含む。脂肪酸としては、主鎖の炭素数が10以下の飽和脂肪酸、及び、炭素数が18以下の不飽和脂肪酸の少なくとも一方であることが好ましい。前記飽和脂肪酸としては、例えば、ノナン酸、オクタン酸、デカン酸、ヘプタン酸、2-エチルヘキサン酸、2-ヘキシルデカン酸、4-メチルノナン酸等が挙げられる。これらの中でも、前記飽和脂肪酸は、主鎖の炭素数が9以下の飽和脂肪酸であることが好ましい。炭素数が18以下の不飽和脂肪酸としては、オレイン酸、リノール酸、及び、リノレン酸からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。なお、脂肪酸は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
<Flux>
(fatty acid)
The flux according to the present embodiment contains a fatty acid. The fatty acid is preferably at least one of a saturated fatty acid having 10 or less carbon atoms in the main chain and an unsaturated fatty acid having 18 or less carbon atoms. Examples of the saturated fatty acid include nonanoic acid, octanoic acid, decanoic acid, heptanoic acid, 2-ethylhexanoic acid, 2-hexyldecanoic acid, and 4-methylnonanoic acid. Among these, the saturated fatty acid is preferably a saturated fatty acid having 9 or less carbon atoms in the main chain. The unsaturated fatty acid having 18 or less carbon atoms is preferably at least one selected from the group consisting of oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid. The fatty acids may be used alone or in combination of two or more.
脂肪酸の含有量は、フラックス全体に対して、11重量%以上であることが好ましく、15重量%以上であることがより好ましい。また、脂肪酸の含有量は、フラックス全体に対して、60重量%以下であることが好ましく、51重量%以下であることがより好ましい。なお、脂肪酸が2種以上含まれる場合、前記含有量は脂肪酸の合計含有量である。 The fatty acid content is preferably 11% by weight or more, and more preferably 15% by weight or more, based on the total weight of the flux. The fatty acid content is preferably 60% by weight or less, and more preferably 51% by weight or less, based on the total weight of the flux. When two or more fatty acids are included, the above content is the total content of the fatty acids.
(イミダゾール化合物)
本実施形態に係るフラックスは、イミダゾール化合物を含む。ここで、イミダゾール化合物とは、イミダゾール基を有する化合物のことを意味する。イミダゾール化合物は、260℃以下で揮発するイミダゾール化合物であることが好ましい。このようなイミダゾール化合物としては、例えば、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等が挙げられる。なお、イミダゾール化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(Imidazole Compounds)
The flux according to the present embodiment includes an imidazole compound. Here, the imidazole compound means a compound having an imidazole group. The imidazole compound is preferably an imidazole compound that volatilizes at 260°C or less. Examples of such imidazole compounds include 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 2-ethyl-4-methylimidazole. The imidazole compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.
イミダゾール化合物の含有量は、フラックス全体に対して、11重量%以上であることが好ましく、15重量%以上であることがより好ましい。また、イミダゾール化合物の含有量は、フラックス全体に対して、54重量%以下であることが好ましく、50重量%以下であることがより好ましい。なお、イミダゾール化合物が2種以上含まれる場合、前記含有量はイミダゾール化合物の合計含有量である。 The content of the imidazole compound is preferably 11% by weight or more, and more preferably 15% by weight or more, based on the total weight of the flux. The content of the imidazole compound is preferably 54% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less, based on the total weight of the flux. When two or more types of imidazole compounds are included, the above content is the total content of the imidazole compounds.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸及びイミダゾール化合物の合計含有量が、フラックス全体に対して、40重量%以上であることが好ましく、60重量%以上であることがより好ましい。また、前記合計含有量は、フラックス全体に対して、95重量%以下であることが好ましく、90重量%以下であることがより好ましい。 In the flux according to this embodiment, the total content of the fatty acid and the imidazole compound is preferably 40% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, based on the total flux. Moreover, the total content is preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, based on the total flux.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸の含有量に対するイミダゾール化合物の含有量の比が、0.2以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましく、0.8以上であることが特に好ましい。また、前記比は、4.9以下であることが好ましく、2.1以下であることがより好ましく、1.0以下であることが特に好ましい。 In the flux according to this embodiment, the ratio of the imidazole compound content to the fatty acid content is preferably 0.2 or more, more preferably 0.5 or more, and particularly preferably 0.8 or more. Moreover, the ratio is preferably 4.9 or less, more preferably 2.1 or less, and particularly preferably 1.0 or less.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸と、イミダゾール化合物とを含む。脂肪酸とイミダゾール化合物とを含むフラックスは、いずれも高い活性力を有することから、はんだの濡れ性を向上させる。さらに、脂肪酸及びイミダゾール化合物は、いずれも揮発性の成分であるため、リフロー後の残渣を低減させることができる。 The flux according to this embodiment contains a fatty acid and an imidazole compound. Both fatty acids and imidazole compounds have high activity, improving the wettability of the solder. Furthermore, both fatty acids and imidazole compounds are volatile components, so they can reduce residues after reflow.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸及びイミダゾール化合物の合計含有量が、フラックス全体に対して、40重量%以上95重量%以下であることにより、はんだの濡れ性をより向上させることができる。 The flux according to this embodiment has a total content of fatty acid and imidazole compound of 40% by weight or more and 95% by weight or less of the entire flux, which can further improve the wettability of the solder.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸が、主鎖の炭素数が10以下の飽和脂肪酸、及び、炭素数が18以下の不飽和脂肪酸の少なくとも一方であることにより、粘性を高く、かつ、粘性を適切な範囲に調整することができる。 The flux according to this embodiment has high viscosity and can be adjusted to an appropriate range because the fatty acid is at least one of a saturated fatty acid with a main chain carbon number of 10 or less and an unsaturated fatty acid with a main chain carbon number of 18 or less.
本実施形態に係るフラックスは、不飽和脂肪酸が、オレイン酸、リノール酸、及び、リノレン酸からなる群から選択される少なくとも一つであることにより、粘性をより適切な範囲に調整することができる。 The flux according to this embodiment has an unsaturated fatty acid of at least one selected from the group consisting of oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid, so that the viscosity can be adjusted to a more appropriate range.
本実施形態に係るフラックスは、イミダゾール化合物が、2-フェニルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾールからなる群から選択される少なくとも一つである。これらのイミダゾール化合物は、260℃以下で揮発する。一般的に、リフロー温度は、部品の損傷を抑制する観点から、260℃以下で行われる。よって、イミダゾール化合物が260℃以下で揮発することにより、前記フラックスは、リフロー後の残渣をより低減させることができる。 In the flux according to this embodiment, the imidazole compound is at least one selected from the group consisting of 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-phenyl-4-methylimidazole. These imidazole compounds volatilize at 260°C or less. In general, reflow is performed at a temperature of 260°C or less in order to prevent damage to components. Therefore, by volatilizing the imidazole compound at 260°C or less, the flux can further reduce residue after reflow.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸の含有量に対するイミダゾール化合物の含有量の比が0.2以上4.9以下であることにより、粘性を高く、かつ、粘性を適切な範囲に調整することができる。 The flux according to this embodiment has a ratio of the imidazole compound content to the fatty acid content of 0.2 or more and 4.9 or less, so that the viscosity is high and can be adjusted to an appropriate range.
(活性剤)
本実施形態に係るフラックスは、はんだの濡れ性をより向上させる観点から、さらに、活性剤を含んでいてもよい。活性剤は、リフロー後の残渣を低減させる観点から、揮発性の活性剤であることが好ましい。揮発性の活性剤としては、例えば、有機酸系活性剤、アミン化合物系活性剤、ハロゲン化合物系活性剤等が挙げられる。これらの中でも、活性剤は、環境負荷低減の観点から、有機酸系活性剤であることが好ましい。なお、活性剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(Activator)
The flux according to the present embodiment may further contain an activator from the viewpoint of further improving the wettability of the solder. The activator is preferably a volatile activator from the viewpoint of reducing residue after reflow. Examples of the volatile activator include organic acid activators, amine compound activators, and halogen compound activators. Among these, the activator is preferably an organic acid activator from the viewpoint of reducing the environmental load. The activators may be used alone or in combination of two or more kinds.
有機酸系活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等のモノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸、メチルコハク酸、フェニルコハク酸等のジカルボン酸;ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、トリス(2-カルボキシエチル)イソシアヌレート等のその他の有機酸が挙げられる。 The organic acid activator is not particularly limited, and examples thereof include monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tuberculostearic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, and glycolic acid; dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, diglycolic acid, methylsuccinic acid, and phenylsuccinic acid; and other organic acids such as dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid, and tris(2-carboxyethyl)isocyanurate.
アミン化合物系活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエタノールアミン、アニリン、ピリジン、ピペリジン等が挙げられる。 Amine compound-based activators are not particularly limited, but examples include trimethylamine, triethylamine, tetramethylethylenediamine, ethylenediamine, triethylenediamine, triethanolamine, aniline, pyridine, piperidine, etc.
ハロゲン化合物系活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、ジブロモサリチル酸、トリス(2,3-ジブロモプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。 Halogen compound activators are not particularly limited, but examples include trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, dibromosalicylic acid, and tris(2,3-dibromopropyl)isocyanurate.
活性剤の含有量は、フラックス全体に対して、1重量%以上であることが好ましく、5重量%以上であることがより好ましい。また、活性剤の含有量は、フラックス全体に対して、10重量%以下であることが好ましく、8重量%以下であることがより好ましい。なお、活性剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は活性剤の合計含有量である。 The content of the activator is preferably 1% by weight or more, and more preferably 5% by weight or more, based on the total weight of the flux. The content of the activator is preferably 10% by weight or less, and more preferably 8% by weight or less, based on the total weight of the flux. When two or more types of activators are included, the above content is the total content of the activators.
なお、活性剤は、不揮発性の活性剤を含んでいてもよい。不揮発性の活性剤の含有量は、フラックス全体に対して、20重量%以下であることが好ましい。不揮発性の活性剤の含有量が20重量%以下であっても、脂肪酸及びイミダゾール化合物の高い活性力により、良好な濡れ性を発揮する。 The activator may contain a non-volatile activator. The content of the non-volatile activator is preferably 20% by weight or less based on the total weight of the flux. Even if the content of the non-volatile activator is 20% by weight or less, good wettability is exhibited due to the high activity of the fatty acid and the imidazole compound.
(チキソ剤)
本実施形態に係るフラックスは、該フラックスのチキソ性をより高める観点から、さらに、チキソ剤を含んでいてもよい。チキソ剤としては、例えば、ひまし硬化油、脂肪酸アミド、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、ガラスフリット等が挙げられる。これらの中でも、チキソ剤は、揮発性を高める観点から、脂肪酸アミドであることが好ましい。揮発性を高める脂肪酸アミドとしては、例えば、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミド、ミリスチン酸アミド等が挙げられる。なお、チキソ剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(thixotropic agent)
The flux according to the present embodiment may further contain a thixotropic agent in order to further enhance the thixotropic properties of the flux. Examples of the thixotropic agent include castor hardened oil, fatty acid amide, kaolin, colloidal silica, organic bentonite, and glass frit. Among these, the thixotropic agent is preferably a fatty acid amide in order to enhance volatility. Examples of the fatty acid amide that enhances volatility include stearic acid amide, lauric acid amide, palmitic acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, behenic acid amide, and myristic acid amide. The thixotropic agent may be used alone or in combination of two or more kinds.
チキソ剤の含有量は、フラックス全体に対して、1重量%以上であることが好ましく、8重量%以上であることがより好ましい。また、チキソ剤の含有量は、フラックス全体に対して、20重量%以下であることが好ましく、12重量%以下であることがより好ましい。なお、チキソ剤が2種以上含まれる場合、前記含有量はチキソ剤の合計含有量である。 The content of the thixotropic agent is preferably 1% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more, based on the total flux. The content of the thixotropic agent is preferably 20% by weight or less, and more preferably 12% by weight or less, based on the total flux. When two or more types of thixotropic agents are included, the above content is the total content of the thixotropic agents.
(溶剤)
本実施形態に係るフラックスは、該フラックスの粘度を適切な範囲に調整する観点から、溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルジグリコール)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(ジブチルジグリコール)、ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテル(2エチルヘキシルジグリコール)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルジグリコール)等のグリコールエーテル類;n-ヘキサン、イソヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族系化合物;酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、コスモール43N(商品名)等のエステル類;メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、ジエチルケトン等のケトン類;エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、イソブタノール、オクタンジオール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ファインオキソコール(商品名、登録商標)等のアルコール類等が挙げられる。なお、溶剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(solvent)
The flux according to the present embodiment may contain a solvent in order to adjust the viscosity of the flux to an appropriate range. Examples of the solvent include glycol ethers such as diethylene glycol monohexyl ether (hexyl diglycol), diethylene glycol dibutyl ether (dibutyl diglycol), diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether (2-ethylhexyl diglycol), and diethylene glycol monobutyl ether (butyl diglycol); aliphatic compounds such as n-hexane, isohexane, and n-heptane; esters such as isopropyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, and Cosmol 43N (trade name); ketones such as methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, and diethyl ketone; and alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, isobutanol, octanediol, trimethylolpropane, neopentyl glycol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and Fine Oxocol (trade name, registered trademark). The solvents may be used alone or in combination of two or more.
溶剤の含有量は、フラックス全体に対して、1重量%以上であることが好ましく、8重量%以上であることがより好ましい。また、溶剤の含有量は、フラックス全体に対して、38重量%以下であることが好ましく、20重量%以下であることがより好ましい。なお、溶剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は溶剤の合計含有量である。 The solvent content is preferably 1% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more, based on the total flux. The solvent content is preferably 38% by weight or less, and more preferably 20% by weight or less, based on the total flux. When two or more types of solvents are included, the above content is the total solvent content.
本実施形態に係るフラックスは、その他の添加剤として、例えば、安定剤、界面活性剤、消泡剤、及び、腐食防止剤から選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。その他の添加剤の合計含有量は、特に限定されるものではなく、例えば、フラックス全体に対して、5重量%以下とすることができる。 The flux according to this embodiment may contain at least one of the following other additives: a stabilizer, a surfactant, an antifoaming agent, and a corrosion inhibitor. The total content of the other additives is not particularly limited, and may be, for example, 5% by weight or less of the entire flux.
本実施形態に係るフラックスは、リフロー後の残渣を低減させる観点から、樹脂を含まないことが望ましい。フラックスが樹脂を含む場合、その含有量は、リフロー後の残渣を低減させる観点から、フラックス全体に対して、5重量%以下であることが好ましい。 The flux according to this embodiment desirably does not contain resin, from the viewpoint of reducing residue after reflow. If the flux contains resin, the content is preferably 5% by weight or less of the entire flux, from the viewpoint of reducing residue after reflow.
樹脂としては、例えば、ガムロジン、トール油ロジン、ウッドロジン、重合ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、アクリル化ロジン、ロジンエステル、酸変性ロジン、超淡色ロジン等のロジン系樹脂;公知の合成樹脂等が挙げられる。 Examples of resins include rosin-based resins such as gum rosin, tall oil rosin, wood rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, acrylated rosin, rosin ester, acid-modified rosin, and very light-colored rosin; known synthetic resins, etc.
本実施形態に係るフラックスの製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、脂肪酸と、イミダゾール化合物と、必要に応じて活性剤、チキソ剤、溶剤及びその他の添加剤とを加熱容器に投入した後、100~120℃まで加熱することにより全原料を溶解させる。そして、室温まで冷却することにより、本実施形態に係るフラックスを得ることができる。 The method for producing the flux according to this embodiment is not particularly limited. For example, a fatty acid, an imidazole compound, and optionally an activator, a thixotropic agent, a solvent, and other additives are placed in a heating vessel, and then all the raw materials are dissolved by heating to 100 to 120°C. The flux according to this embodiment can be obtained by cooling to room temperature.
本実施形態に係るフラックスは、脂肪酸と、イミダゾール化合物と、活性剤と、チキソ剤と、溶剤と、その他の添加剤とを含むが、当該構成に限定されるものではない。その他の実施形態に係るフラックスは、脂肪酸と、イミダゾール化合物と、活性剤と、チキソ剤と、溶剤と、その他の添加剤とからなり、好ましくは、脂肪酸と、イミダゾール化合物と、活性剤とからなる。 The flux according to this embodiment includes a fatty acid, an imidazole compound, an activator, a thixotropic agent, a solvent, and other additives, but is not limited to this configuration. Fluxes according to other embodiments are composed of a fatty acid, an imidazole compound, an activator, a thixotropic agent, a solvent, and other additives, and are preferably composed of a fatty acid, an imidazole compound, and an activator.
<ソルダペースト>
本実施形態に係るソルダペーストは、上述のフラックスと、融点が260℃以下のはんだ合金粉末と、を含む。本実施形態に係るソルダペーストは、フラックスの含有量が、ソルダペースト全体に対して、8重量%以上12重量%以下であることが好ましい。
<Solder paste>
The solder paste according to the present embodiment contains the above-mentioned flux and a solder alloy powder having a melting point of not more than 260° C. The solder paste according to the present embodiment preferably contains the flux in an amount of 8% by weight or more and 12% by weight or less with respect to the entire solder paste.
一般的に、リフロー温度は、部品の損傷を抑制する観点から、260℃以下で行われる。そのため、通常、融点が260℃以下のはんだ合金粉末が用いられる。このようなはんだ合金粉末としては、例えば、Sn-Pb系の共晶はんだ合金、鉛フリーはんだ合金等が挙げられる。鉛フリーはんだ合金としては、例えば、スズ、銀、銅、インジウム、亜鉛、ビスマス、アンチモン等を含む合金が挙げられる。より具体的には、Sn/Ag、Sn/Ag/Cu、Sn/Cu、Sn/Ag/Bi、Sn/Bi、Sn/Ag/Cu/Bi、Sn/Sb、Sn/Zn/Bi、Sn/Zn、Sn/Zn/Al、Sn/Ag/Bi/In、Sn/Ag/Cu/Bi/In/Sb、In/Ag等の合金が挙げられる。 In general, the reflow temperature is 260°C or less in order to prevent damage to components. Therefore, solder alloy powders with a melting point of 260°C or less are usually used. Examples of such solder alloy powders include Sn-Pb eutectic solder alloys and lead-free solder alloys. Examples of lead-free solder alloys include alloys containing tin, silver, copper, indium, zinc, bismuth, antimony, etc. More specifically, examples of alloys include Sn/Ag, Sn/Ag/Cu, Sn/Cu, Sn/Ag/Bi, Sn/Bi, Sn/Ag/Cu/Bi, Sn/Sb, Sn/Zn/Bi, Sn/Zn, Sn/Zn/Al, Sn/Ag/Bi/In, Sn/Ag/Cu/Bi/In/Sb, and In/Ag.
本実施形態に係るソルダペーストは、上述のフラックスと、融点が260℃以下のはんだ合金粉末と、を含む。前記ソルダペーストは、上述のフラックスを含むことにより、はんだの濡れ性を向上させると共に、リフロー後の残渣を低減させることができる。 The solder paste according to this embodiment contains the above-mentioned flux and a solder alloy powder having a melting point of 260°C or less. By containing the above-mentioned flux, the solder paste can improve the wettability of the solder and reduce the residue after reflow.
本実施形態に係るソルダペーストは、フラックスの含有量が、ソルダペースト全体に対して、8重量%以上12重量%以下であることにより、はんだの濡れ性をより向上させると共に、リフロー後の残渣をより低減させることができる。 The solder paste according to this embodiment contains flux in an amount of 8% by weight or more and 12% by weight or less relative to the total solder paste, which improves the wettability of the solder and reduces the residue after reflow.
本実施形態に係るソルダペーストの製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、フラックスと、はんだ合金粉末とを混合することにより、本実施形態に係るソルダペーストが得られる。 The method for producing the solder paste according to this embodiment is not particularly limited. For example, the solder paste according to this embodiment can be obtained by mixing flux and solder alloy powder.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 The following describes examples of the present invention, but the present invention is not limited to the following examples.
[ソルダペーストの作製]
表1~3に示す配合量の各原料を加熱容器に投入し、120℃まで加熱することにより、全原料を溶解させた。その後、室温まで冷却することにより、均一に分散された各実施例及び比較例のフラックスを得た。なお、表1に示す各配合量は、フラックスに含まれる各成分の含有量と等しい。次に、各フラックスを10質量%、はんだ粉(Sn-3.0wt%Ag-0.5wt%Cu)を90質量%となるように混合して、各実施例及び比較例のソルダペーストを得た。
[Preparation of solder paste]
Each raw material was placed in a heating vessel in the amounts shown in Tables 1 to 3 and heated to 120°C to dissolve all the raw materials. The mixture was then cooled to room temperature to obtain uniformly dispersed fluxes for each Example and Comparative Example. The amounts shown in Table 1 are equal to the contents of each component contained in the flux. Next, 10% by mass of each flux and 90% by mass of solder powder (Sn-3.0 wt% Ag-0.5 wt% Cu) were mixed to obtain solder pastes for each Example and Comparative Example.
表1~3に示す各原料の詳細を以下に示す。
(脂肪酸)
ノナン酸:東京化成工業(株)製、製品名「ノナン酸」
オクタン酸:東京化成工業(株)製、製品名「n-オクタン酸」
ヘプタン酸:東京化成工業(株)製、製品名「ヘプタン酸」
2-エチルヘキサン酸:東京化成工業(株)製、製品名「2-エチルヘキサン酸」
2-ヘキシルデカン酸:東京化成工業(株)製、製品名「2-ヘキシルデカン酸」
リノレン酸:東京化成工業(株)製、製品名「リノレン酸」
オレイン酸:東京化成工業(株)製、製品名「オレイン酸」
(イミダゾール化合物)
2PZ-PW:2-フェニルイミダゾール、四国化成(株)製、製品名「2PZ-PW」
2P4MZ:2-フェニル-4-メチルイミダゾール、四国化成(株)製、製品名「2P4MZ」
2E4MZ:2-エチル-4-メチルイミダゾール、四国化成(株)製、製品名「2E4MZ」
(樹脂)
KE-604:酸変性ロジン、荒川化学工業(株)製、製品名「KE-604」
KR-612:超淡色ロジン、荒川化学工業(株)製、製品名「KR-612」
ロンヂスR:不均化ロジン、荒川化学工業(株)製、製品名「ロンヂスR」
(溶剤)
ODA:KHネオケム(株)製、製品名「オクタンジオール」
トリメチロールプロパン:三菱ガス化学(株)製、製品名「トリメチロールプロパン」
NPG:三菱ガス化学(株)製、製品名「ネオペンチルグリコール」
DMHD:LUZHOU FUBANG CHEMICAL(株)製、製品名「2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール」
C-43N:日清オイリオグループ(株)製、製品名「コスモール43N」
ファインオキソコール180A:日産化学(株)製、製品名「ファインオキソコール180A」
MPD:3-メチル-1,5-ペンタンジオール、(株)クラレ製、製品名「MPD」
HeDG:ヘキシルジグリコール、日本乳化剤(株)製、製品名「HeDG」
(活性剤)
MeSA:小松川化学(株)製、製品名「メチルコハク酸」
PhSA:Beijing Hercules chemicals(株)製、製品名「Phenylsuccinic Acid」
アジピン酸:住友化学工業(株)製、製品名「アジピン酸」
グルタル酸:東京化成工業(株)製、製品名「グルタル酸」
AZA:エメリー オレオケミカルズ ジャパン(株)製、製品名「エメロックス1144」
マレイン酸:扶桑化学工業(株)製、製品名「含水マレイン酸」
ジグリコール酸:みどり化学(株)製、製品名「ジグリコール酸」
DBBD:トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、東京化成工業(株)製、製品名「DBBD」
(チキソ剤)
lauramide:日本化成(株)製、製品名「ダイヤミッドY」
stearamide:花王(株)製、製品名「脂肪酸アマイドS」
J-630:N,N’-ヘキサメチレン-ビス-12-ヒドロキシステアリルアミド、伊藤製油(株)製、製品名「J-630」
ひまし硬化油:伊藤製油(株)製、製品名「ひまし硬化油」
(その他の添加剤)
2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-4-メチルフェノール):安定剤、東京化成工業(株)製
Details of each raw material shown in Tables 1 to 3 are shown below.
(fatty acid)
Nonanoic acid: Product name "Nonanoic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
Octanoic acid: Product name "n-octanoic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
Heptanoic acid: Product name "Heptanoic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
2-Ethylhexanoic acid: Product name "2-ethylhexanoic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
2-Hexyldecanoic acid: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product name "2-hexyldecanoic acid"
Linolenic acid: Product name "Linolenic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
Oleic acid: Product name "Oleic acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
(Imidazole Compounds)
2PZ-PW: 2-phenylimidazole, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., product name "2PZ-PW"
2P4MZ: 2-phenyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., product name "2P4MZ"
2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., product name "2E4MZ"
(resin)
KE-604: Acid-modified rosin, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "KE-604"
KR-612: Ultra-light-colored rosin, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "KR-612"
LONDISU R: Disproportionated rosin, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., product name "LONDISU R"
(solvent)
ODA: Manufactured by KH Neochem Co., Ltd., product name "Octanediol"
Trimethylolpropane: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., product name "Trimethylolpropane"
NPG: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., product name "Neopentyl glycol"
DMHD: LUZHOU FUBANG CHEMICAL CO., LTD., product name "2,5-dimethyl-2,5-hexanediol"
C-43N: Product name "Cosmol 43N" manufactured by Nisshin Oillio Group, Ltd.
Fine Oxocol 180A: Nissan Chemical Co., Ltd., product name "Fine Oxocol 180A"
MPD: 3-methyl-1,5-pentanediol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name "MPD"
HeDG: Hexyl diglycol, manufactured by Nippon Nyukazai Co., Ltd., product name "HeDG"
(Activator)
MeSA: Product name "Methyl succinic acid" manufactured by Komatsugawa Chemical Co., Ltd.
PhSA: Beijing Hercules chemicals Co., Ltd., product name "Phenylsuccinic Acid"
Adipic acid: Sumitomo Chemical Co., Ltd., product name "Adipic acid"
Glutaric acid: Product name "Glutaric acid" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
AZA: Emery Oleochemicals Japan Co., Ltd., product name "Emerox 1144"
Maleic acid: Fuso Chemical Co., Ltd., product name: "Hydrated maleic acid"
Diglycolic acid: Midori Chemical Co., Ltd., product name "Diglycolic acid"
DBBD: trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product name "DBBD"
(thixotropic agent)
Lauramide: Product name "Diamid Y" manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.
Stearamide: Kao Corporation, product name "Fatty Acid Amide S"
J-630: N,N'-hexamethylene-bis-12-hydroxystearylamide, manufactured by Ito Oil Mills, product name "J-630"
Castor oil: Product name: "Castor oil" manufactured by Ito Oil Mills, Ltd.
(Other additives)
2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-4-methylphenol): stabilizer, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
[残渣の評価]
TG/TDA装置(TG 8120、(株)リガク製)を使用し、アルミパンに5mgの各フラックスを秤量して、窒素気流下、10K/minの昇温速度で573Kまで加熱を行った。その際、533K時点でのTGによる重量変化率を測定した。結果を表1~3に示す。なお、重量変化率が95%以上であったものを良と判定した。
[Evaluation of Residue]
Using a TG/TDA device (TG 8120, manufactured by Rigaku Corporation), 5 mg of each flux was weighed into an aluminum pan and heated to 573 K at a temperature increase rate of 10 K/min under a nitrogen stream. The weight change rate by TG at 533 K was measured. The results are shown in Tables 1 to 3. A weight change rate of 95% or more was judged to be good.
[濡れ性評価]
FR-4樹脂基板(OSP処理をしたもの)に、各ソルダペーストを、120μmの厚みでマスク開口率が100%となるように印刷した。その後、はんだリフロー装置(エイテック製、NIS-20-82-C)を用いて、酸素濃度1000ppmの窒素雰囲気下で加熱処理を行った。加熱処理は、まず、熱処理開始(常温)から180℃までを1.5℃/秒で昇温後、180℃で100秒間維持した。その後、180℃から250℃までを2.0℃/秒で昇温し、250℃で15秒間維持した後、250℃から常温までを3.0/秒で冷却した。濡れ性評価は、目視にて下記の基準に基づき行った。
◎:ランド全体にはんだが濡れ広がっている。
○:未溶融はんだがない。
[Wettability evaluation]
Each solder paste was printed on an FR-4 resin board (OSP-treated) so that the mask aperture ratio was 100% at a thickness of 120 μm. Then, a solder reflow device (NIS-20-82-C, manufactured by Atec) was used to perform heat treatment under a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 1000 ppm. The heat treatment was first performed by increasing the temperature from the start of the heat treatment (room temperature) to 180° C. at a rate of 1.5° C./sec, and then maintaining the temperature at 180° C. for 100 seconds. Then, the temperature was increased from 180° C. to 250° C. at a rate of 2.0° C./sec, and maintained at 250° C. for 15 seconds, after which the temperature was cooled from 250° C. to room temperature at a rate of 3.0° C./sec. The wettability evaluation was performed visually based on the following criteria.
⊚: Solder has spread over the entire land.
◯: There is no unmelted solder.
表1の結果から分かるように、本発明の要件をすべて満たす各実施例のソルダペーストは、TGによる重量変化率が95%以上であり、リフロー後の残渣を低減させることができた。また、各実施例のソルダペーストは、はんだの濡れ性も良好であった。 As can be seen from the results in Table 1, the solder pastes of the examples that met all the requirements of the present invention had a weight change rate due to TG of 95% or more, and were able to reduce residue after reflow. In addition, the solder pastes of the examples also had good solder wettability.
一方、脂肪酸及びイミダゾール化合物を含まない比較例1のソルダペーストは、はんだの濡れ性は良好であるものの、TGによる重量変化率が68%であり、リフロー後の残渣を充分に低減させることができなかった。 On the other hand, the solder paste of Comparative Example 1, which did not contain fatty acids or imidazole compounds, had good solder wettability, but the weight change rate due to TG was 68%, and the residue after reflow could not be sufficiently reduced.
Claims (6)
樹脂を含まないか、又は、フラックス全体に対して5質量%以下の樹脂を含み、
前記脂肪酸及び前記イミダゾール化合物の合計含有量が、フラックス全体に対して、40質量%以上95質量%以下である、フラックスと、
融点が260℃以下のはんだ合金粉末と、を含む、ソルダペースト。 Contains a fatty acid and an imidazole compound,
The flux does not contain resin or contains 5 mass % or less of resin based on the entire flux,
A flux, the total content of the fatty acid and the imidazole compound being 40% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the entire flux;
and a solder alloy powder having a melting point of 260° C. or less.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019119983A JP7517669B2 (en) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | Flux and solder paste |
TW109121697A TW202106890A (en) | 2019-06-27 | 2020-06-24 | Flux and solder paste |
CN202080044028.9A CN113993657A (en) | 2019-06-27 | 2020-06-26 | Flux and solder paste |
PCT/JP2020/025288 WO2020262631A1 (en) | 2019-06-27 | 2020-06-26 | Flux and solder paste |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019119983A JP7517669B2 (en) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | Flux and solder paste |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021003730A JP2021003730A (en) | 2021-01-14 |
JP7517669B2 true JP7517669B2 (en) | 2024-07-17 |
Family
ID=74061787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019119983A Active JP7517669B2 (en) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | Flux and solder paste |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7517669B2 (en) |
CN (1) | CN113993657A (en) |
TW (1) | TW202106890A (en) |
WO (1) | WO2020262631A1 (en) |
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JP6458894B1 (en) | 2018-04-26 | 2019-01-30 | 千住金属工業株式会社 | Flux and solder paste |
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CN108274155A (en) * | 2018-04-17 | 2018-07-13 | 深圳市博士达焊锡制品有限公司 | A kind of solder scaling powder and preparation method thereof and a kind of solder(ing) paste |
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2019
- 2019-06-27 JP JP2019119983A patent/JP7517669B2/en active Active
-
2020
- 2020-06-24 TW TW109121697A patent/TW202106890A/en unknown
- 2020-06-26 WO PCT/JP2020/025288 patent/WO2020262631A1/en active Application Filing
- 2020-06-26 CN CN202080044028.9A patent/CN113993657A/en active Pending
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JP6458894B1 (en) | 2018-04-26 | 2019-01-30 | 千住金属工業株式会社 | Flux and solder paste |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202106890A (en) | 2021-02-16 |
CN113993657A (en) | 2022-01-28 |
WO2020262631A1 (en) | 2020-12-30 |
JP2021003730A (en) | 2021-01-14 |
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