JP3449778B2 - Flux for soldering - Google Patents
Flux for solderingInfo
- Publication number
- JP3449778B2 JP3449778B2 JP06627994A JP6627994A JP3449778B2 JP 3449778 B2 JP3449778 B2 JP 3449778B2 JP 06627994 A JP06627994 A JP 06627994A JP 6627994 A JP6627994 A JP 6627994A JP 3449778 B2 JP3449778 B2 JP 3449778B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- compound
- flux
- bis
- examples
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、はんだ付け用フラック
スに関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a soldering flux.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、はんだ付け用フラックスの多くは
ロジンやロジン変性樹脂に有機酸,ハロゲン化水素塩か
らなる活性剤を添加したものである。しかし、これらは
はんだ付け作業終了後残渣として基板上に残り冷熱のく
り返しで亀裂を生じたり、プリント基板の回路に針を突
きあてて行うインサーキット試験において接触針が刺ら
ず、不良と判定されることがあった。また残渣は吸湿や
温度上昇により変化し基材の腐食や電気特性の劣化を与
えることが多かった。そのため、はんだ付け作業終了後
は、フラックスの残留物の除去を目的としてフロン等に
よる洗浄を行っている。しかも、現在はその洗浄剤であ
るフロンにも環境問題に関して厳しく規制がなされてお
り、フロンによる洗浄が実施困難になってきている。2. Description of the Related Art Conventionally, most soldering fluxes are rosin or rosin-modified resin to which an activator composed of an organic acid or a hydrogen halide is added. However, these are judged to be defective because they remain on the board as a residue after the soldering work and cracks due to repeated cold and heat, or the contact needle does not stick in the in-circuit test performed by sticking the needle to the circuit of the printed circuit board. There was something. In addition, the residue often changed due to moisture absorption or temperature rise, which often caused corrosion of the base material and deterioration of electrical characteristics. Therefore, after the soldering work is completed, cleaning with chlorofluorocarbon or the like is performed for the purpose of removing the residue of the flux. Moreover, at present, the cleaning agent, Freon, is also strictly regulated with respect to environmental problems, making it difficult to carry out cleaning with Freon.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの問題
点、すなわち、はんだ付け後洗浄除去を行わずして、冷
熱のくり返しやインサーキット試験に耐え、かつ温湿度
上昇による基材の腐食や温度上昇による電気特性の劣化
の少ない、さらには無洗浄化によるフロン規制に対応し
うるはんだ付け用フラックスの提供を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves these problems, namely, it can withstand repeated cold and heat and in-circuit tests without cleaning and removing after soldering, and can corrode the base material due to increase in temperature and humidity. It is an object of the present invention to provide a soldering flux that is less likely to deteriorate electrical characteristics due to temperature rise, and that can comply with CFC regulations by eliminating cleaning.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、ビス(2−オ
キサゾリン)化合物,ジチオール化合物,有機カルボン
酸化合物及び活性剤を含有してなるはんだ付け用フラッ
クスである。本発明に用いるビス(2−オキサゾリン)
化合物は、一般式SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a soldering flux containing a bis (2-oxazoline) compound, a dithiol compound, an organic carboxylic acid compound and an activator. Bis (2-oxazoline) used in the present invention
The compound has the general formula
【化1】
(但し、Rは炭素間結合又は2価の炭化水素基を示し、
R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素,アルキル基又は
アリール基を示す。)で表わされ、Rが炭化水素基のと
き、アルキレン基,シクロアルキレン基又はアリーレン
基等が挙げられる。Rが炭素間結合のとき、2,2′−
ビス(2−オキサゾリン),2,2′−ビス(4−メチ
ル−2−オキサゾリン),2,2′−ビス(5−メチル
−2−オキサゾリン),2,2′−ビス(5,5′−ジ
メチル−2−オキサゾリン),2,2′−ビス(4,
4,4′,4′−テトラメチル−2−オキサゾリン)等
があげられる。Rが炭化水素基のとき、該アルキレン基
を有するものとして、1,2−ビス(2−オキサゾリン
−2−イル)エタン,1,4−ビス(2−オキサゾリン
−2−イル)ブタン,1,6−ビス(2−オキサゾリン
−2−イル)ヘキサン,1,8−ビス(2−オキサゾリ
ン−2−イル)オクタン等があげられ、該シクロアルキ
レン基を有するものとして、1,4−ビス(2−オキサ
ゾリン−2−イル)シクロヘキサン等があげられ、該ア
リーレン基を有するものとして、1,2−ビス(2−オ
キサゾリン−2−イル)ベンゼン,1,3−ビス(2−
オキサゾリン−2−イル)ベンゼン(以下1,3−PB
Oと略す。),1,4−ビス(2−オキサゾリン−2−
イル)ベンゼン,1,2−ビス(5−メチル−2−オキ
サゾリン−2−イル)ベンゼン,1,3−ビス(5−メ
チル−2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン,1,4
−ビス(5−メチル−2−オキサゾリン−2−イル)ベ
ンゼン,1,4−ビス(4,4′−ジメチル−2−オキ
サゾリン−2−イル)ベンゼン等があげられる。好まし
くは1,3−PBOが用いられる。これらは単独又は併
用して用いてもよい。[Chemical 1] (However, R represents a carbon-carbon bond or a divalent hydrocarbon group,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent hydrogen, an alkyl group or an aryl group. ), When R is a hydrocarbon group, an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or the like can be mentioned. When R is a carbon-carbon bond, 2,2'-
Bis (2-oxazoline), 2,2'-bis (4-methyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (5-methyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (5,5 ' -Dimethyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4,
4,4 ', 4'-tetramethyl-2-oxazoline) and the like. When R is a hydrocarbon group, 1,2-bis (2-oxazolin-2-yl) ethane, 1,4-bis (2-oxazolin-2-yl) butane, 1, as the one having the alkylene group 6-bis (2-oxazolin-2-yl) hexane, 1,8-bis (2-oxazolin-2-yl) octane and the like can be mentioned. As the one having the cycloalkylene group, 1,4-bis (2 -Oxazolin-2-yl) cyclohexane and the like, and those having the arylene group include 1,2-bis (2-oxazolin-2-yl) benzene and 1,3-bis (2-
Oxazolin-2-yl) benzene (hereinafter 1,3-PB
Abbreviated as O. ), 1,4-bis (2-oxazoline-2-
Yl) benzene, 1,2-bis (5-methyl-2-oxazolin-2-yl) benzene, 1,3-bis (5-methyl-2-oxazolin-2-yl) benzene, 1,4
Examples thereof include -bis (5-methyl-2-oxazolin-2-yl) benzene and 1,4-bis (4,4'-dimethyl-2-oxazolin-2-yl) benzene. Preferably 1,3-PBO is used. These may be used alone or in combination.
【0005】本発明に用いるジチオール化合物は、脂肪
族ジチオール化合物,芳香族ジチオール化合物等があげ
られる。該脂肪族ジチオール化合物としては、エチレン
グリコールビスチオグリコレート,ブチレングリコール
ビスチオグリコレート等があげられる。該芳香族ジチオ
ール化合物としては、芳香族炭化水素ジチオール化合
物,芳香族複素環ジチオール化合物等があげられる。該
芳香族炭化水素ジチオール化合物としては、4,4′−
チオビスベンゼンチオール,ビス(4−メルカプトフェ
ニル)エーテル(以下MPSと略す。),3,4−ジメ
ルカプトトルエン等があげられる。該芳香族複素環ジチ
オール化合物としては、6−ジブチルアミノ−1,3,
5−トリアジン−2,4−ジチオール,6−アミノフェ
ニル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール,
2,5−ジメルカプト−1,2,4−チアジアゾール等
があげられる。好ましくは、MPS,6−ジブチルアミ
ノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールが用
いられる。ジチオール化合物の代わりに芳香族メルカプ
トカルボン酸、例えばチオサリチル酸を用いることがで
きる。これらは単独又は併用して用いてもよい。Examples of the dithiol compound used in the present invention include an aliphatic dithiol compound and an aromatic dithiol compound. Examples of the aliphatic dithiol compound include ethylene glycol bisthioglycolate and butylene glycol bisthioglycolate. Examples of the aromatic dithiol compound include aromatic hydrocarbon dithiol compounds and aromatic heterocyclic dithiol compounds. Examples of the aromatic hydrocarbon dithiol compound include 4,4′-
Examples thereof include thiobisbenzenethiol, bis (4-mercaptophenyl) ether (hereinafter abbreviated as MPS), and 3,4-dimercaptotoluene. As the aromatic heterocyclic dithiol compound, 6-dibutylamino-1,3,3
5-triazine-2,4-dithiol, 6-aminophenyl-1,3,5-triazine-2,4-dithiol,
2,5-dimercapto-1,2,4-thiadiazole and the like can be mentioned. Preferably, MPS, 6-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol is used. Aromatic mercaptocarboxylic acids, such as thiosalicylic acid, can be used in place of the dithiol compound. These may be used alone or in combination.
【0006】本発明に用いる有機カルボン酸化合物とし
ては、例えば有機モノカルボン酸、ジカルボン酸、ポリ
カルボン酸が挙げられる。これらは又活性剤としても作
用する。有機カルボン酸化合物はカルボキシル基以外
に、水酸基、二重結合を併せ持ってもよい。有機モノカ
ルボン酸としては、カプロン酸,エナント酸,カプリン
酸,ペラルゴン酸,カプリン酸,ラウリル酸,ミリスチ
ン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,アラキン酸,ベヘ
ニン酸等の炭素数が6〜21の脂肪族モノカルボン酸と
安息香酸,サリチル酸,アニス酸,アントラニル酸,p
−トルエンスルホン酸,5−スルホサリチル酸,4−ス
ルホフタル酸,スルファニル酸,ナフタレンカルボン酸
などの炭素数が7〜11の芳香族モノカルボン酸があげ
られる。該脂肪族ジカルボン酸としてはシュウ酸,マロ
ン酸,コハク酸,グルタル酸,アジピン酸,ピメリン
酸,スベリン酸,アゼライン酸,セバシン酸,ドデカン
二酸,エイコサン二酸等の炭素数が0〜34の脂肪族ジ
カルボン酸があげられる。該芳香族ジカルボン酸として
は、フタル酸,イソフタル酸,ナフタレンジカルボン
酸,ジフェニルスルホンジカルボン酸,ジフェニルメタ
ンジカルボン酸等の炭素数が6〜13のものがあげられ
る。これらは単独又は併用して用いてもよい。該ポリカ
ルボン酸としては炭素数が4〜8のトリメリット酸,ト
リメシン酸,ピロメリット酸,ブタン−1,2,3,4
−テトラカルボン酸があげられる。また水酸基を併せも
つ有機カルボン酸としては乳酸、クエン酸、酒石酸、レ
ブリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸等の炭素数が
3〜18のヒドロキシカルボン酸があげられ、2重結合
を併せもつ有機カルボン酸としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、フマル酸、マレイン酸、オレイン酸、リノー
ル酸、リノレン酸、ダイマー酸等の炭素数が2〜36の
ものがあげられる。これらは単独又は併用してもよい。
有機カルボン酸化合物の中でジカルボン酸化合物は強靱
な残渣膜を与えるので有利に用いられる。Examples of the organic carboxylic acid compound used in the present invention include organic monocarboxylic acids, dicarboxylic acids and polycarboxylic acids. They also act as activators. The organic carboxylic acid compound may have a hydroxyl group and a double bond in addition to the carboxyl group. As the organic monocarboxylic acid, an aliphatic group having 6 to 21 carbon atoms such as caproic acid, enanthic acid, capric acid, pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid and behenic acid Monocarboxylic acid and benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, anthranilic acid, p
-Aromatic monocarboxylic acids having 7 to 11 carbon atoms such as toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 4-sulfophthalic acid, sulfanilic acid and naphthalenecarboxylic acid. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid and eicosanedioic acid having 0 to 34 carbon atoms. Aliphatic dicarboxylic acid is mentioned. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include those having 6 to 13 carbon atoms such as phthalic acid, isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, diphenyl sulfone dicarboxylic acid and diphenylmethane dicarboxylic acid. These may be used alone or in combination. Examples of the polycarboxylic acid include trimellitic acid having 4 to 8 carbon atoms, trimesic acid, pyromellitic acid, butane-1,2,3,4.
-Tetracarboxylic acids. Examples of the organic carboxylic acid having a hydroxyl group also include hydroxycarboxylic acids having 3 to 18 carbon atoms such as lactic acid, citric acid, tartaric acid, levulinic acid, and 12-hydroxystearic acid. Organic carboxylic acids having a double bond are also included. Examples thereof include those having 2 to 36 carbon atoms such as acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and dimer acid. These may be used alone or in combination.
Among the organic carboxylic acid compounds, the dicarboxylic acid compound is advantageously used because it gives a tough residual film.
【0007】本発明に用いられるもう一つの活性剤とし
て各種アミン化合物のハロゲン化水素塩が挙げられる。
アミン化合物としては、脂肪族一級モノアミン、脂肪族
二級モノアミン、脂肪族三級モノアミン、脂肪族ジアミ
ン、トリアミン、ポリアミン、脂環式アミン、芳香族ア
ミン、複素環式アミン、アミノアルコール、ヒドラジ
ン、アミノ化合物等があげられる。脂肪族一級モノアミ
ンとしては炭素数1〜8の例えば、メチルアミン、エチ
ルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、イ
ソブチルアミン、sec−ブチルアミン、t−ブチルアミ
ン、n−アミルアミン、sec−アミルアミン、2−エチ
ルブチルアミン、n−ヘプチルアミン、2−エチルヘキ
シルアミン、n−オクチルアミン、t−オクチルアミン
等が挙げられる。脂肪族二級モノアミンとしては炭素数
2〜16のジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−
プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピル
アミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、
ジアミルアミン、ジオクチルアミン等が挙げられる。脂
肪族三級モノアミンとしては炭素数3〜24の例えばト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソブチルア
ミン、トリ−n−アミルアミン、トリ−n−オクチルア
ミン等が挙げられる。脂肪族ジアミン、トリアミン及び
ポリアミンとしては炭素数2〜8の例えばエチレンジア
ミン、1,2−プロピレンジアミン、1,3−ジアミノ
プロパン、ジエチレントリアミン、メチルアミノプロピ
ルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、トリエチレ
ンテトラミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、3−
ジエチルアミノプロピルアミン、N−2−ヒドロキシエ
チレンジアミン、テトラエチレンペンタミン等が挙げら
れる。脂環式アミンとしては、炭素数6〜12のシクロ
ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等が挙げられ
る。芳香族アミンとしては炭素数6〜14のアニリン,
メチルアニリン,ジメチルアニリン,ジエチルアニリ
ン,ブチルアニリン,N,N−ジブチルアニリン,アミ
ルアニリン,t−アミルアニリン,N,N−ジアミルア
ニリン,N,N−ジ−t−アミルアニリン,o−トルイ
ジン,ジエチルベンジルアミン,ベンジルアミン,o−
クロロアニリン等が挙げられる。Another activator used in the present invention is a hydrogen halide salt of various amine compounds.
As the amine compound, aliphatic primary monoamine, aliphatic secondary monoamine, aliphatic tertiary monoamine, aliphatic diamine, triamine, polyamine, alicyclic amine, aromatic amine, heterocyclic amine, amino alcohol, hydrazine, amino Examples include compounds. Examples of the aliphatic primary monoamines having 1 to 8 carbon atoms include, for example, methylamine, ethylamine, n-propylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-amylamine, sec-amylamine, 2-ethyl. Butylamine, n-heptylamine, 2-ethylhexylamine, n-octylamine, t-octylamine and the like can be mentioned. As the aliphatic secondary monoamine, dimethylamine having 2 to 16 carbon atoms, diethylamine, di-n-
Propylamine, isopropylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine,
Diamylamine, dioctylamine and the like can be mentioned. Examples of the aliphatic tertiary monoamine include trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-n-amylamine, tri-n-octylamine and the like having 3 to 24 carbon atoms. To be Aliphatic diamines, triamines and polyamines having 2 to 8 carbon atoms such as ethylenediamine, 1,2-propylenediamine, 1,3-diaminopropane, diethylenetriamine, methylaminopropylamine, dimethylaminopropylamine, triethylenetetramine, 1, 6-hexamethylenediamine, 3-
Diethylaminopropylamine, N-2-hydroxyethylenediamine, tetraethylenepentamine and the like can be mentioned. Examples of the alicyclic amine include cyclohexylamine having 6 to 12 carbon atoms and dicyclohexylamine. An aniline having 6 to 14 carbon atoms as the aromatic amine,
Methylaniline, dimethylaniline, diethylaniline, butylaniline, N, N-dibutylaniline, amylaniline, t-amylaniline, N, N-diamylaniline, N, N-di-t-amylaniline, o-toluidine, Diethylbenzylamine, benzylamine, o-
Examples include chloroaniline.
【0008】複素環式アミンとしては炭素数5〜9のピ
リジン,β−ピコリン,2,6−ルチジン,イソキノリ
ン,キノリン,ピラゾール,α−ピコリン,γ−ピコリ
ン,2,4−ルチジン等が挙げられる。アミノアルコー
ルとしては炭素数2〜6の例えばモノエタノールアミ
ン,ジエタノールアミン,トリエタノールアミン,モノ
エチルエタノールアミン,モノ−n−ブチルエタノール
アミン,ジメチルエタノールアミン,ジエチルエタノー
ルアミン,エチルジエタノールアミン,n−ブチルジエ
タノールアミン,ジ−n−ブチルエタノールアミン,ト
リイソプロパノールアミン等が挙げられる。ヒドラジン
系アミノ化合物としては、炭素数0〜7の例えばヒドラ
ジン,フェニルヒドラジン,β−アセチルフェニルヒド
ラジン,2−ヒドロキシエチルヒドラジン,1,1−ジ
メチルヒドラジン等が挙げられる。ハロゲン化水素塩と
して用いられる塩は、フッ化水素塩、塩酸塩、臭化水素
塩等があげられる。好ましくはジエチルアミン,エチル
アミン,2−エチルヘキシルアミンの塩酸塩および臭化
水素塩が用いられる。本発明において各成分の使用量比
はビス(2−オキサゾリン)化合物に対する、ジチオー
ル化合物と有機カルボン酸化合物との合計量のモル比が
0.5〜1.5の範囲で、好ましくは0.95〜1.0
5の範囲で用いられる。また、有機カルボン酸化合物の
量は、ジチオール化合物に対し、5〜95モル%の範
囲、好ましくは10〜50モル%で用いられる。活性剤
の量は、フラックス固形分に対し0.05〜50重量%
の範囲で、好ましくは5〜30重量%で用いられる。ま
た、活性剤中用いられるハロゲン化水素塩はフラックス
固形分に対し、10重量%以下の範囲、好ましくは0.
5〜5重量%の範囲で用いられる。フラックスを液状で
使用する場合は、有機溶剤を加えてもよい。該溶剤とし
ては、アセトン,メチルエチルケトン等のケトン系溶
剤,メタノール,エタノール,イソプロパノール,メチ
ルセロソルブ,エチルセロソルブ,ブチルセロソルブ,
1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール系溶
剤,トルエン,キシレン等の芳香族系溶剤等があげられ
る。これらは単独又は併用して用いてもよい。有機溶剤
は通常20〜99.5重量%の範囲で用いられる。溶剤
が20重量%未満であるときは、フラックスの粘度が高
くなりすぎて塗布性が悪くなることがあり、99.5重
量%をこえるときは、フラックスの有効成分が少なく、
非酸素雰囲気中においても、はんだ付け性が悪くなるこ
とがある。Examples of the heterocyclic amine include pyridine having 5 to 9 carbon atoms, β-picoline, 2,6-lutidine, isoquinoline, quinoline, pyrazole, α-picoline, γ-picoline and 2,4-lutidine. . Examples of amino alcohols having 2 to 6 carbon atoms include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoethylethanolamine, mono-n-butylethanolamine, dimethylethanolamine, diethylethanolamine, ethyldiethanolamine, n-butyldiethanolamine, Examples thereof include di-n-butyl ethanolamine and triisopropanolamine. Examples of the hydrazine-based amino compound include those having 0 to 7 carbon atoms such as hydrazine, phenylhydrazine, β-acetylphenylhydrazine, 2-hydroxyethylhydrazine, and 1,1-dimethylhydrazine. Examples of the salt used as the hydrogen halide salt include hydrogen fluoride salt, hydrochloride and hydrobromide salt. Diethylamine, ethylamine, 2-ethylhexylamine hydrochloride and hydrobromide are preferably used. In the present invention, the usage ratio of each component is such that the molar ratio of the total amount of the dithiol compound and the organic carboxylic acid compound to the bis (2-oxazoline) compound is in the range of 0.5 to 1.5, preferably 0.95. ~ 1.0
Used in the range of 5. Further, the amount of the organic carboxylic acid compound is used in the range of 5 to 95 mol%, preferably 10 to 50 mol% based on the dithiol compound. The amount of activator is 0.05 to 50% by weight with respect to the flux solid content.
In the range of, preferably 5 to 30% by weight. Further, the hydrogen halide salt used in the activator is in the range of 10% by weight or less based on the solid content of the flux, preferably 0.1%.
It is used in the range of 5 to 5% by weight. When the flux is used in liquid form, an organic solvent may be added. Examples of the solvent include ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, isopropanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve,
Examples thereof include alcohol solvents such as 1-methoxy-2-propanol and aromatic solvents such as toluene and xylene. These may be used alone or in combination. The organic solvent is usually used in the range of 20-99.5% by weight. When the amount of the solvent is less than 20% by weight, the viscosity of the flux may be too high and the coating property may be deteriorated. When the amount of the solvent exceeds 99.5% by weight, the effective component of the flux is small,
The solderability may deteriorate even in a non-oxygen atmosphere.
【0009】本発明のフラックスは更に、熱可塑性樹脂
を含んでもよい。本発明に用いる熱可塑性樹脂として
は、ロジン,ロジン変性樹脂,合成樹脂等があげられ
る。該ロジン及びロジン変性樹脂としては、ウッドロジ
ン,ガムロジン,トールロジン,不均化ロジン,水添ロ
ジン,重合ロジン,変性ロジン等があげられる。該合成
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、スチ
レンマレイン樹脂等のカルボキシル基を含有する樹脂、
或はエポキシ樹脂やレゾール系,ノボラック系のフェノ
ール樹脂等が用いられる。これらは単独又は併用して用
いてもよい。本発明において熱可塑性樹脂の使用量は、
フラックス固形分に対して5〜95重量%の範囲で、好
ましくは10〜50重量%の範囲で用いられる。本発明
のフラックスは更に、エポキシ基含有化合物を含んでも
よい。本発明に用いるエポキシ基含有化合物は、フェノ
ールグリシジル型化合物,エステルグリシジル型化合物
等があげられる。該フェノールグリシジル型化合物とし
ては、ビスフェノールAグリシジルエーテル,ビスフェ
ノールFグリシジルエーテル,テトラブロモビスフェノ
ールAグリシジルエーテル等があげられる。該グリシジ
ルエステル型化合物としては、フタル酸グリシジルエス
テル,テトラヒドロフタル酸グリシジルエステル,ダイ
マー酸グリシジルエステル,8,11−ジメチル−7,1
1−オクタデカジエン−1,18−ジグリシジルエステ
ル,n−エチルオクタデカンジグリシジルエステル等が
あげられる。これらは単独又は併用して用いてもよい。
本発明において有機カルボン酸化合物と、エポキシ基化
合物の反応を加速する為、触媒を用いてもよい。かかる
触媒として例えば、トリエチルベンジルアンモニウムク
ロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、テ
トラメチルアンモニウムクロリド等の第四級アンモニウ
ム塩や、ベンジルジメチルアミン、トリブチルアミン、
トリス(ジメチルアミノ)メチルフェノール等の三級ア
ミンや、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−メ
チルイミダゾール等のイミダゾール化合物が挙げられ
る。これらはフラックス固形分に対して0.2−2重量
%用いることができる。The flux of the present invention may further contain a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin used in the present invention include rosin, rosin-modified resin, and synthetic resin. Examples of the rosin and rosin-modified resin include wood rosin, gum rosin, tall rosin, disproportionated rosin, hydrogenated rosin, polymerized rosin and modified rosin. As the synthetic resin, a resin containing a carboxyl group such as polyester resin, acrylic resin, styrene-maleic resin,
Alternatively, an epoxy resin, a resole-based resin, a novolac-based phenolic resin, or the like is used. These may be used alone or in combination. In the present invention, the amount of the thermoplastic resin used is
It is used in the range of 5 to 95% by weight, preferably 10 to 50% by weight, based on the flux solids. The flux of the present invention may further include an epoxy group-containing compound. Examples of the epoxy group-containing compound used in the present invention include phenol glycidyl type compounds and ester glycidyl type compounds. Examples of the phenol glycidyl type compound include bisphenol A glycidyl ether, bisphenol F glycidyl ether, and tetrabromobisphenol A glycidyl ether. Examples of the glycidyl ester type compound include phthalic acid glycidyl ester, tetrahydrophthalic acid glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester, and 8,11-dimethyl-7,1.
1-octadecadiene-1,18-diglycidyl ester, n-ethyl octadecane diglycidyl ester and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination.
In the present invention, a catalyst may be used in order to accelerate the reaction between the organic carboxylic acid compound and the epoxy group compound. Examples of such catalysts include quaternary ammonium salts such as triethylbenzylammonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, benzyldimethylamine, tributylamine,
Examples include tertiary amines such as tris (dimethylamino) methylphenol, and imidazole compounds such as 2-methyl-4-ethylimidazole and 2-methylimidazole. These can be used in an amount of 0.2-2% by weight based on the flux solid content.
【0010】本発明においてビス(2−オキサゾリン)
化合物とエポキシ基含有化合物とを合したものと、ジチ
オール化合物と有機カルボン酸化合物とを合したものの
量比は、モル比で前者は後者の0.8〜1.2倍モルの
範囲で、好ましくは0.95〜1.05倍モルの範囲で
用いられる。ビス(2−オキサゾリン)化合物とエポキ
シ基含有化合物及びジチオール化合物とジカルボン酸の
量比はそれぞれ5〜95モル%である。はんだ付け後の
検査工程において、作業者の眼のつかれを防ぐことやま
た光学式の検査装置での誤判定が生ずるのを防ぐことか
ら、はんだの光沢をにぶくしたいわゆる艶消し型のフラ
ックスが望まれている。本フラックスにおいて、この効
果を得るためには熱可塑樹脂としてロジンやロジン変性
樹脂を一部及び全部用い、併せて高級モノ飽和、不飽和
脂肪酸を用いることで達成される。ロジンとロジン変性
樹脂及びモノ脂肪酸の使用割合はフラックス固形分に対
し夫々5−95重量%、2−30重量%の範囲である。
艶消しに用いられる高級の飽和、不飽和モノカルボン酸
としては、炭素数8〜21の例えばカプリル酸、ラウリ
ル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ア
ラキン酸、ベヘニン酸やオレイン酸、リノール酸、リノ
レン酸などが挙げられる。また、活性剤として用いるハ
ロゲン化水素塩は、オキサゾリン化合物やエポキシ化合
物との反応でその一部は安定な共有結合化合物を与える
が、より多くのハロゲン化水素を反応によって固定化す
る為に2重結合を有するカルボキシル化合物を添加して
もよい。これら2重結合を有する化合物としてオレイン
酸やリノール酸やリノレン酸等の高級不飽和モノカルボ
ン酸やヒドロキシエチルアクリレートやヒドロキシエチ
ルメタアクリレートと酸無水物、例えば無水コハク酸、
無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無
水トリメリット酸との等モル反応物などが挙げられる。
その使用量はフラックス固形分に対し1−50重量%で
ある。In the present invention, bis (2-oxazoline)
The amount ratio of the compound and the epoxy group-containing compound combined with the compound of the dithiol compound and the organic carboxylic acid compound is preferably in the range of 0.8 to 1.2 times the mole of the latter in terms of molar ratio. Is used in the range of 0.95 to 1.05 times by mole. The amount ratios of the bis (2-oxazoline) compound and the epoxy group-containing compound, and the dithiol compound and the dicarboxylic acid are 5 to 95 mol%, respectively. In the inspection process after soldering, a so-called matte type flux with the gloss of the solder is desired because it prevents the blurring of the eyes of the worker and prevents misjudgment by the optical inspection device. It is rare. In the present flux, in order to obtain this effect, rosin or a rosin-modified resin is partially or entirely used as the thermoplastic resin, and in addition, higher monosaturated or unsaturated fatty acid is used. The proportions of rosin, rosin-modified resin and mono-fatty acid used are in the ranges of 5-95% by weight and 2-30% by weight, respectively, with respect to the flux solid content.
Examples of higher saturated and unsaturated monocarboxylic acids used for matting include those having 8 to 21 carbon atoms such as caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, oleic acid and linoleic acid. , Linolenic acid and the like. In addition, the hydrogen halide salt used as an activator gives a stable covalent bond compound in part when it reacts with an oxazoline compound or an epoxy compound, but it is doubled in order to immobilize more hydrogen halide by the reaction. A carboxyl compound having a bond may be added. As compounds having these double bonds, higher unsaturated monocarboxylic acids such as oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc., hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate and acid anhydrides such as succinic anhydride,
Examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and equimolar reaction products with trimellitic anhydride.
The amount used is 1 to 50% by weight with respect to the flux solid content.
【0011】[0011]
【作用】本発明のフラックスはそれぞれ高反応性を有す
る化合物の混合物であり、はんだ付け時の加熱により反
応し、耐熱性,耐湿性,靱性に富んだ重合体となる。そ
の為、はんだ付け処理後のフラックス残渣重合膜は加
熱、冷却の温度衝撃に対し、亀裂を生ずることがなく、
更に本フラックス処理基板に針を立て行うインサーキッ
ト試験においても針が低圧力で容易に回路に接触する。
また腐食や絶縁劣化の原因となる有機カルボン酸は重合
体中に組み込まれ、また、加熱時にハロゲン化水素塩か
ら発生するハロゲン化水素は、ビス(2−オキサゾリ
ン)化合物と多くは反応し、また未反応の残部は重合体
中で固定される。ゆえに、フラックス残渣を洗浄除去し
なくても、腐食や電気特性の劣化を招くことなく、はん
だ付け部の信頼性を確保できるものである。本発明のフ
ラックスに熱可塑性樹脂を多く含有させると未反応時の
耐水性の改良と、はんだ付け加熱時の濡れ特性の改良
や、耐水性,靱性,耐熱性等を改良することができる。
本発明のフラックスにエポキシ基含有化合物を含有させ
ると未反応時の耐水性,有機溶剤添加時の貯蔵安定性を
大幅に向上させる。また、エポキシ基含有化合物は、加
熱時にハロゲン化水素塩より発生するハロゲン化水素と
反応し、ビス(2−オキサゾリン)化合物とともに、こ
れを捕捉する役割を有する。本発明に高級飽和、不飽和
モノカルボン酸を含有させると、はんだの光沢を鈍くし
た艶消しを行うことができる。本発明に2重結合を有す
るカルボン酸化合物を含有させるとより確実に活性剤と
して用いたハロゲン化水素化合物をはんだ付の加熱で安
定な化合物に代えることができる。The flux of the present invention is a mixture of highly reactive compounds, and reacts upon heating during soldering to form a polymer having excellent heat resistance, moisture resistance and toughness. Therefore, the flux residue polymerized film after the soldering process does not crack with respect to the temperature shock of heating and cooling,
Furthermore, even in an in-circuit test in which a needle is placed upright on the flux-treated substrate, the needle easily comes into contact with the circuit at a low pressure.
In addition, organic carboxylic acids that cause corrosion and insulation deterioration are incorporated into the polymer, and the hydrogen halide generated from the hydrogen halide salt during heating reacts mostly with the bis (2-oxazoline) compound, The unreacted balance is fixed in the polymer. Therefore, even if the flux residue is not washed and removed, the reliability of the soldered portion can be secured without causing corrosion or deterioration of electrical characteristics. When the flux of the present invention contains a large amount of a thermoplastic resin, it is possible to improve the water resistance in the unreacted state, the wettability at the time of soldering heating, and the water resistance, toughness, heat resistance and the like.
When the epoxy group-containing compound is contained in the flux of the present invention, water resistance when unreacted and storage stability when an organic solvent is added are significantly improved. Further, the epoxy group-containing compound has a role of reacting with hydrogen halide generated from the hydrogen halide salt when heated, and capturing the hydrogen halide together with the bis (2-oxazoline) compound. When a higher saturated or unsaturated monocarboxylic acid is contained in the present invention, delustering of the solder can be performed to reduce the gloss. When the carboxylic acid compound having a double bond is contained in the present invention, the hydrogen halide compound used as the activator can be more reliably replaced with a stable compound by heating during soldering.
【0012】[0012]
【実施例】以下に、本発明によるはんだ付け用フラック
スの効果を実施例および比較例により具体的に説明す
る。尚、実施例及び比較例において用いる略語は以下の
ものを意味する。
1,3−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン 1,3−PBO
6−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4− DB
ジチオール(三協化成製ジスネット(商品名)DB)
アジピン酸 AA
コハク酸 SA
ビスフェノールAグリシジルエーテル型エポキシ化合物 EP−828
(油化シェルエポキシ製,エピコート(商品名)828)
グリシジルエステル型エポキシ化合物 SB−20G
(岡村製油製,OS−レジンSB−20G)
ジエチルアミン塩酸塩 DEA・HCl
1−メトキシ−2−プロパノール MIPA
イソプロパノール IPA
アクリル樹脂A:高酸価アクリル樹脂 酸価110,
分子量9000Tg 50℃
アクリル樹脂B:高酸価アクリル樹脂 酸価140,
分子量10000Tg 80℃
特殊ロジン:酸価165−175,軟化点80−87
℃,無色透明
TMBAC:トリメチルベンジルアンモニウムクロリド
アクリルカルボン酸:ヒドロキシエチルアクリレートと
無水ヒドロフタル酸の等モル反応物EXAMPLES The effects of the soldering flux according to the present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples. The abbreviations used in Examples and Comparative Examples mean the following. 1,3-bis (2-oxazolin-2-yl) benzene 1,3-PBO 6-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-DB dithiol (Dysnet (trade name) DB manufactured by Sankyo Kasei) ) Adipic acid AA Succinic acid SA Bisphenol A Glycidyl ether type epoxy compound EP-828 (Oilized shell epoxy, Epicoat (trade name) 828) Glycidyl ester type epoxy compound SB-20G (Okamura Oil, OS-resin SB-20G) ) Diethylamine hydrochloride DEA.HCl 1-methoxy-2-propanol MIPA isopropanol IPA acrylic resin A: high acid value acrylic resin acid value 110,
Molecular weight 9000Tg 50 ° C Acrylic resin B: High acid value acrylic resin Acid value 140,
Molecular weight 10000Tg 80 ° C Special rosin: Acid value 165-175, Softening point 80-87
℃, colorless and transparent TMBAC: trimethylbenzylammonium chloride acrylic carboxylic acid: equimolar reaction product of hydroxyethyl acrylate and hydrophthalic anhydride
【0013】実施例1
1,3−PBO 0.507g,DB 0.384g,
SA 0.110g及びDEA−HCl 0.046g
をはかりとり、次いでMIPA 9.22gを加えよく
撹拌し均一なフラックス溶液を調整した。調整したフラ
ックスについて、後述の各種試験を行った。
実施例2〜7
実施例1と同様に〔表4〕,〔表5〕,〔表6〕に示す
組成においてフラックスを調整し、各種の試験を行っ
た。結果を〔表4〕,〔表5〕,〔表6〕に示す。
比較例1,2
実施例1と同様に〔表6〕に示す組成においてフラック
スを調整し、各種の試験を行った。結果を〔表6〕に示
す。Example 1 1,3-PBO 0.507 g, DB 0.384 g,
SA 0.110 g and DEA-HCl 0.046 g
Then, 9.22 g of MIPA was added and well stirred to prepare a uniform flux solution. Various tests described below were performed on the adjusted flux. Examples 2 to 7 In the same manner as in Example 1, the flux was adjusted in the compositions shown in [Table 4], [Table 5], and [Table 6], and various tests were conducted. The results are shown in [Table 4], [Table 5] and [Table 6]. Comparative Examples 1 and 2 In the same manner as in Example 1, the flux was adjusted in the composition shown in [Table 6] and various tests were conducted. The results are shown in [Table 6].
【0014】実施例8
アクリル樹脂B 2.4g,特殊ロジン1.6g,AA
0.4g,DB 2.4g,1,3−PBO 1.7
8g,SB−20G 1.57g,DEA・HCl
0.5g,TMBAC 0.05gを秤り取り、次いで
MIPA 90gを加え撹拌し均一なフラックス液を調
整した。調整したフラックスについて各種の試験を行っ
た。Example 8 Acrylic resin B 2.4 g, special rosin 1.6 g, AA
0.4 g, DB 2.4 g, 1,3-PBO 1.7
8g, SB-20G 1.57g, DEA / HCl
0.5 g and TMBAC 0.05 g were weighed out, and then MIPA 90 g was added and stirred to prepare a uniform flux liquid. Various tests were conducted on the adjusted flux.
【表1】
当フラックスをハンダ付け装置でガラスエポキシ製プリ
ント板に塗布後、乾燥(100℃×35秒)し、ハンダ
付け(3秒)を行った。本フラックスは低粘度で流動性
がよいので薄く均一に塗布され乾燥性がよく、またハン
ダ付け時、ブリッヂ、ツララ、ハンダボールの発生がほ
とんど認められなかった。また本フラックス及び市販ロ
ジン系フラックスを180℃×30分熱処理して得られ
た残渣を50℃×95%RHの条件下に1週間放置しそ
の後に重量の増加を調べた。吸水量はロジン系フラック
スを100とすると当フラックスは76と良好な低吸湿
性を示した。[Table 1] The flux was applied to a glass epoxy printed board with a soldering device, dried (100 ° C. × 35 seconds), and soldered (3 seconds). Since this flux has low viscosity and good flowability, it was applied thinly and uniformly and had good drying properties, and when soldering, no generation of bridges, fluffs, and solder balls was observed. Further, the residue obtained by heat-treating this flux and a commercial rosin-based flux for 30 minutes at 180 ° C. was left for 1 week under the condition of 50 ° C. × 95% RH, and then the increase in weight was examined. With respect to the amount of water absorption, when the rosin-based flux was 100, this flux was 76, showing a good low hygroscopicity.
【0015】実施例9
アクリル樹脂B 2.0g,特殊ロジン1.34g,A
A 0.19g,DB1.47g,1,3−PBO
2.45g,SB−20G 0.96g,DEA・HC
l 0.35g,TMBAC 0.05g,ステアリン
酸0.5g,リトル酸0.5gを秤りとり、次いでMI
PA 90gを加え均一なフラックス液を調整した。こ
のフラックスをガラスエポキシ製プリント基板に塗布、
乾燥後245℃のハンダ浴で3秒、ハンダ付けを行っ
た。ハンダの濡れ性は良好であり、ハンダフィレットは
にぶい光沢の艶消し外観を示した。
実施例10
1,3−PBO 3.77g,SB−20G 4.29
g,DB 4.42g,AA 1.27g,DEA・H
Cl 0.51g,アクリル樹脂A 0.46g,アク
リル樹脂B 0.46g,TMBAC 0.05gを秤
り取り、次いでMIPA 84.73gを加え均一なフ
ラックス液を調整した。調整したフラックスについて各
種の試験を行った。Example 9 Acrylic resin B 2.0 g, special rosin 1.34 g, A
A 0.19g, DB1.47g, 1,3-PBO
2.45g, SB-20G 0.96g, DEA / HC
l 0.35 g, TMBAC 0.05 g, stearic acid 0.5 g, and little acid 0.5 g, and then MI
90 g of PA was added to prepare a uniform flux solution. Apply this flux to a glass epoxy printed circuit board,
After drying, soldering was performed in a solder bath at 245 ° C. for 3 seconds. The solder wettability was good and the solder fillet had a dull, glossy, matte appearance. Example 10 1,3-PBO 3.77 g, SB-20G 4.29
g, DB 4.42g, AA 1.27g, DEA · H
Cl 0.51 g, acrylic resin A 0.46 g, acrylic resin B 0.46 g and TMBAC 0.05 g were weighed out, and then MIPA 84.73 g was added to prepare a uniform flux liquid. Various tests were conducted on the adjusted flux.
【表2】
当フラックスを約10cm×15cmの紙フェノール基板と
ガラスエポキシ基板に塗布し、ハンダ付けを行ない残渣
を残したまま、−40℃30分と80℃30分の冷熱衝
撃を200回ずつ与えたが、どちらも基板の残渣にも亀
裂やひび割れが入ったり、基板からの剥離も全くなかっ
た。ハンダ付け処理したプリント基板の回路に針をつき
たてて接触させ行うインサーキット試験で接触圧力15
0g以下の力で針は容易に残渣膜を貫通し、インサーキ
ット試験での検査不良は全く起こらなかった。従って無
洗浄のままでも、残渣を洗浄除去した基板と同様な取り
扱いが可能である。[Table 2] This flux was applied to a paper phenol substrate and a glass epoxy substrate of approximately 10 cm x 15 cm, and soldering was performed, and a thermal shock was applied 200 times each at -40 ° C for 30 minutes and 80 ° C for 30 minutes while leaving a residue. In both cases, the residue of the substrate was not cracked or cracked, nor was it peeled from the substrate at all. The contact pressure is 15 in the in-circuit test in which a needle is attached to the circuit of the printed circuit board that has been soldered to make contact.
The needle easily penetrated the residual film with a force of 0 g or less, and no inspection failure occurred in the in-circuit test. Therefore, even if the substrate is not washed, it can be handled in the same manner as a substrate from which residues are washed and removed.
【0016】実施例11Example 11
【表3】
表3のaおよびbそれぞれを秤り取り、MIPA 90
gを加え撹拌し、均一なフラックス液を調整した。本フ
ラックスのハンダヌレ性はaフラックス4.06秒、bフラ
ックス2.08秒であった。10cm×15cmのガラスエポキ
シプリント基板にこのフラックスを塗布し、100℃1
分間加熱し、溶媒を蒸発させた後、240−245℃の
ハンダ槽で3秒間ハンダ付けした。ハンダ付け処理プリ
ント基板をアセトンに浸漬1日放置し、残渣膜を溶解さ
せた。浸漬液を減圧、加熱下で乾燥したところ、固形分
はaフラックス 0.244g、bフラックス 0.191gであっ
た。これに50mlの水を加え3時間還流下に煮沸した。
煮沸液を冷却後、ろ別した。このろ液につきイオンクロ
マトグラフ法で塩素イオン含量を測定し、この値より初
期フラックスに含まれるクロルイオンに対する残存量を
求めた。aフラックスは59%、bフラックスは58%
であった。。このように、吸湿により基材の腐食や電気
特性の劣化につながる塩素イオンは大幅に減少してい
る。[Table 3] Weigh out each of a and b in Table 3 and use MIPA 90
g was added and stirred to prepare a uniform flux liquid. The solder wettability of this flux was a flux of 4.06 seconds and b flux of 2.08 seconds. Apply this flux to a 10cm x 15cm glass epoxy printed circuit board,
After heating for 1 minute to evaporate the solvent, it was soldered for 3 seconds in a solder bath at 240 to 245 ° C. The soldering-treated printed circuit board was immersed in acetone and left for 1 day to dissolve the residual film. When the immersion liquid was dried under reduced pressure and heating, the solid content was 0.244 g of a flux and 0.191 g of b flux. To this was added 50 ml of water and the mixture was boiled under reflux for 3 hours.
After cooling the boiling liquid, it was filtered. The chloride ion content of this filtrate was measured by an ion chromatography method, and the residual amount with respect to chlorine ions contained in the initial flux was determined from this value. a flux is 59%, b flux is 58%
Met. . In this way, chlorine ions, which lead to corrosion of the base material and deterioration of electrical characteristics due to moisture absorption, are greatly reduced.
【0017】[0017]
【表4】 [Table 4]
【0018】[0018]
【表5】 [Table 5]
【0019】[0019]
【表6】
試験方法
・乾燥度 銅板にフラックスを一滴落し、230℃
のホットプレート上で5秒間加熱、冷却後のベトつきを
指触する。
・広がり率 JIS−Z−3197 6.10によ
る。
・絶縁抵抗 JIS−Z−3197 6.8による。
2形くし形電極使用。
・腐食性 JIS−Z−3197 6.6.1によ
る。
・はんだヌレ 150℃1時間酸化させた試験銅板(寸
法7mm巾×0.3mm厚)をフラックスに浸漬塗布し、24
5±2℃に温調したはんだ槽(はんだH63A)につけ
た時、はんだの面が再び水平になるまでの時間(メニス
コグラフ法)
・剥離性 試験片を曲げた時のフラックス残渣の剥離性[Table 6] Test method / dryness Drop a drop of flux on the copper plate, 230 ℃
Heat on the hot plate for 5 seconds, and touch the stickiness after cooling. -Spread rate According to JIS-Z-3197 6.10. -Insulation resistance According to JIS-Z-3197 6.8.
Uses 2 comb electrodes. -Corrosion According to JIS-Z-3197 6.6.1.・ Test copper plate (dimension 7mm width x 0.3mm thickness) oxidized by solder wetting for 1 hour at 150 ° C is dipped and applied on the flux for 24
Time until the surface of the solder becomes horizontal again when it is placed in a solder bath (solder H63A) whose temperature is controlled to 5 ± 2 ° C (meniscograph method) ・ Peelability Flux residue peelability when the test piece is bent
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明のフラックスは、はんだ付け時の
加熱により付加重合反応が起り耐熱性、低吸湿性、柔軟
性に富む残渣膜を与える。その為、加熱冷却のくり返し
や外部からの応力により亀裂を生ずることがなく、また
チェックピンを用いたインサーキット試験においても容
易に膜を貫通するので接触不良が起ることがない。更に
加熱による重合反応で腐食や電気特性の低下につながる
有機カルボン酸やハロゲン化水素塩が安定な化合物とな
ったり、外的雰囲気に対して安定な状態に固定されるの
ではんだ付け後、洗浄工程を要しない。該工程省略によ
るコストの削減につながるばかりでなく、フロン規制に
も対応できる。本発明のフラックスは、ロジンと高級脂
肪酸を併用することで、にぶい光沢の艶消し状態とな
る。このことは検査工程の作業者の眼の疲れを防ぎ、光
学式検査装置の誤判定が生ずるのを防ぐ。さらに本発明
においては、ビス(2−オキサゾリン)化合物とジチオ
ール化合物及びビス(2−オキサゾリン)化合物とジカ
ルボン酸の反応性において前者は後者に較べて大きく、
またエポキシ基含有化合物とジチオール化合物の反応性
とエポキシ基含有化合物とジカルボン酸の反応性に於い
ても前者が後者に較べて大きい為、この4種の量比をか
えることにより反応性をコントロールすることが可能で
ある。例えば液状フラックスにしてはんだ槽で行うプリ
ント基板のディップはんだ付けのように数秒単位で反応
することが要求される場合、或は、はんだ粉末と混ぜて
リフロー炉で行う面実装基板のリフローはんだ付けのよ
うに数分単位で反応することが要求される場合等の使い
分けができるため幅広い用途に利用できるものである。EFFECT OF THE INVENTION The flux of the present invention gives a residual film which is rich in heat resistance, low hygroscopicity and flexibility due to addition polymerization reaction caused by heating during soldering. Therefore, cracking does not occur due to repeated heating and cooling or stress from the outside, and even in an in-circuit test using a check pin, the film easily penetrates, so that no contact failure occurs. Furthermore, the organic carboxylic acid and hydrogen halide salts, which lead to corrosion and deterioration of electrical characteristics due to the polymerization reaction due to heating, become stable compounds and are fixed in a stable state against the external atmosphere. Does not need Not only can the cost be reduced by omitting the process, but it can also comply with CFC regulations. The flux of the present invention is in a dull lusterless matte state by using rosin and higher fatty acid in combination. This prevents the eyestrain of the operator in the inspection process and prevents the optical inspection device from making an erroneous determination. Further, in the present invention, the reactivity of the bis (2-oxazoline) compound with the dithiol compound and the reactivity of the bis (2-oxazoline) compound with the dicarboxylic acid is larger in the former than in the latter,
Also, the reactivity of the epoxy group-containing compound with the dithiol compound and the reactivity of the epoxy group-containing compound with the dicarboxylic acid are larger than those of the latter, so the reactivity can be controlled by changing the amount ratio of these four types. It is possible. For example, when it is required to react in a few seconds like dip soldering of a printed circuit board which is made into liquid flux in a solder bath, or when reflow soldering of a surface mounting board is performed in a reflow furnace mixed with solder powder. It can be used for a wide range of purposes because it can be used properly when it is required to react in several minutes.
Claims (9)
ール化合物,有機カルボン酸化合物及び活性剤を含有し
てなるはんだ付け用フラックス。1. A soldering flux comprising a bis (2-oxazoline) compound, a dithiol compound, an organic carboxylic acid compound and an activator.
だ付け用フラックス。2. The soldering flux according to claim 1, further comprising an organic solvent.
はんだ付け用フラックス。3. The soldering flux according to claim 1, further comprising a thermoplastic resin.
1記載のはんだ付け用フラックス。4. The soldering flux according to claim 1, further comprising an epoxy group-containing compound.
物である請求項1記載のはんだ付け用フラックス。5. The soldering flux according to claim 1, wherein the dithiol compound is an aromatic dithiol compound.
ン酸、ジカルボン酸又はポリカルボン酸である請求項1
記載のはんだ付け用フラックス。6. The organic carboxylic acid compound is an aliphatic monocarboxylic acid, dicarboxylic acid or polycarboxylic acid.
Flux for soldering described.
ジチオール化合物とジカルボン酸との合計量のモル比が
0.5〜1.5であり、ジチオール化合物に対するジカ
ルボン酸の割合が5〜95モル%である請求項1記載の
はんだ付け用フラックス。7. The molar ratio of the total amount of the dithiol compound and the dicarboxylic acid to the bis (2-oxazoline) compound is 0.5 to 1.5, and the ratio of the dicarboxylic acid to the dithiol compound is 5 to 95 mol%. The soldering flux according to claim 1.
1記載のはんだ付け用フラックス。8. The soldering flux according to claim 1, which contains 0.05 to 50% by weight of an activator.
る、エポキシ基含有化合物の割合が5〜95モル%であ
る請求項4記載のはんだ付け用フラックス。9. The soldering flux according to claim 4, wherein the ratio of the epoxy group-containing compound to the bis (2-oxazoline) compound is 5 to 95 mol%.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06627994A JP3449778B2 (en) | 1993-04-05 | 1994-04-04 | Flux for soldering |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7834193 | 1993-04-05 | ||
JP5-78341 | 1993-04-22 | ||
JP9586793 | 1993-04-22 | ||
JP5-95867 | 1993-04-22 | ||
JP06627994A JP3449778B2 (en) | 1993-04-05 | 1994-04-04 | Flux for soldering |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH071184A JPH071184A (en) | 1995-01-06 |
JP3449778B2 true JP3449778B2 (en) | 2003-09-22 |
Family
ID=27299078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06627994A Expired - Lifetime JP3449778B2 (en) | 1993-04-05 | 1994-04-04 | Flux for soldering |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3449778B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5691598B2 (en) * | 2011-02-14 | 2015-04-01 | Jsr株式会社 | Flux and method for forming electrical connection structure |
PL2886245T3 (en) * | 2013-12-17 | 2019-12-31 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Soldering paste with adipic acid, oxalic acid and amine components |
JP7517669B2 (en) * | 2019-06-27 | 2024-07-17 | 株式会社弘輝 | Flux and solder paste |
JP7208579B1 (en) * | 2022-07-22 | 2023-01-19 | 千住金属工業株式会社 | flux and solder paste |
-
1994
- 1994-04-04 JP JP06627994A patent/JP3449778B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH071184A (en) | 1995-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5417771A (en) | Soldering flux | |
US5211763A (en) | Soldering flux composition | |
TWI465475B (en) | Solder paste and solder paste | |
US9643285B2 (en) | Cream solder composition | |
JP2014036985A (en) | Solder composition and printed wiring board using the same | |
JP7141009B1 (en) | flux and solder paste | |
JP3449778B2 (en) | Flux for soldering | |
EP0619162A2 (en) | Soldering flux | |
JP6628821B2 (en) | Flux composition, solder composition and electronic substrate | |
JP4103784B2 (en) | Flux composition for soldering, solder paste and soldering method | |
JP2006015348A (en) | Flux composition for soldering and solder paste | |
JP2004291019A (en) | Flux composition for soldering, solder paste and soldering method | |
EP3406394B1 (en) | Flux | |
JP3163506B2 (en) | Cream solder | |
JP2019171474A (en) | Flux composition, solder composition, and electronic substrate | |
CN118354863A (en) | Method for producing soldering flux and bonded body | |
JP6766196B2 (en) | Method for manufacturing solder composition and electronic board | |
JP6913122B2 (en) | Method for manufacturing solder composition and electronic board | |
JPH1043882A (en) | Solder paste | |
US2901387A (en) | Soldering flux composition | |
JP7554218B2 (en) | Solder composition and electronic substrate | |
JP2024035412A (en) | Solder compositions and electronic substrates | |
JP2019043992A (en) | Thermosetting flux composition and method of manufacturing electronic substrate | |
WO2023080146A1 (en) | Flux and production method for joined body | |
TW202308781A (en) | Flux and solder paste |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100711 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140711 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |