JP7489143B1 - フィルター装置 - Google Patents

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JP7489143B1
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  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

【課題】排気ガスに起因する異物が配管の内部に付着することを抑制する。【解決手段】フィルター装置60は、排気ガス中に含まれる異物を除去するためのフィルター装置60であって、筐体64と、筐体64内に収容されたフィルターユニット72と、筐体64と後続の配管82とを接続し、フィルターユニット72を通過した排気ガスを配管82へ流出させる出口ユニット30と、を備え、出口ユニット30は、出口ユニット30の内部に導入された熱ガスにより、出口ユニット30の内面に沿って排気ガスの流れの上流側から下流側へ向かって螺旋状に流れる渦旋回流を形成する。【選択図】図6

Description

本発明は、フィルター装置に関する。
半導体製造プロセスや液晶製造プロセスで生じる排気ガスには、人体に有害な成分が含まれている。例えば、半導体製造プロセスには、イオン注入法、アルミ等の金属エッチング法、CVD法を含む各種の方式が採用されている。いずれの方式を採用した半導体製造プロセスにおいても、フッ化水素酸、シランガス、テトラエトキシシラン、アンモニア等の有害ガスや反応生成物等の夾雑物、その他ミストやダストといった微粒子が混在する排気ガスが発生する。そのため、半導体製造プロセスや液晶製造プロセスでは、排気ガス中に混在する微粒子を除去するための除害設備が用いられている。例えば特許文献1には、排気ガス中に含まれる微粒子を除去することができるフィルター装置が開示されている。
特開2005-74362号公報
半導体製造プロセスや液晶製造プロセスで生じる高温の排気ガス中には、気化した状態の成分(気化成分)も含まれる。このような気化成分は、従来のフィルター装置を用いても十分に除去できない場合がある。従来の除害設備は、配管で互いに接続されたフィルター装置や後段の除害装置を含んでいる。排気ガスは、配管を通って各装置へ送られる。このとき、排気ガス中の気化成分が、配管の壁面で冷却されて凝縮又は固化(粉化)して異物となり、配管の壁面に付着することがある。壁面に付着した異物は、配管の詰まりの原因となり得る。したがって、従来は、定期的に配管を取り外して配管の内部を清掃する必要があった。
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、排気ガスに起因する異物が配管の内部に付着することを抑制することを目的とする。
本発明によるフィルター装置は、
[1]排気ガス中に含まれる異物を除去するためのフィルター装置であって、
筐体と、
前記筐体内に収容されたフィルターユニットと、
前記筐体と後続の配管とを接続し、前記フィルターユニットを通過した前記排気ガスを前記配管へ流出させる出口ユニットと、を備え、
前記出口ユニットは、前記出口ユニットの内部に導入された熱ガスにより、前記出口ユニットの内面に沿って前記排気ガスの流れの上流側から下流側へ向かって螺旋状に流れる渦旋回流を形成する、フィルター装置、である。
本発明によるフィルター装置は、
[2]前記出口ユニットは、壁部と、前記壁部の内側に配置された案内管を有し、
前記壁部と前記案内管との間に、前記熱ガスが通る熱ガス流路が形成される、[1]に記載のフィルター装置、である。
本発明によるフィルター装置は、
[3]前記案内管は、前記下流側へ向かうにつれて中心軸線に近づくように延びる傾斜部と、前記傾斜部の前記下流側の端部に接続され、前記中心軸線と平行に延びる平行部と、を有する、[2]に記載のフィルター装置、である。
本発明によるフィルター装置は、
[4]前記出口ユニットは、前記熱ガス流路に前記熱ガスを導入する導入管と、前記壁部において前記導入管が開口する開口部とを有する、[2]又は[3]に記載のフィルター装置、である。
本発明によるフィルター装置は、
[5]前記導入管は、前記開口部において径方向に対して傾斜した方向に延びる、[4]に記載のフィルター装置、である。
本発明によれば、排気ガスに起因する異物が配管の内部に付着することを抑制することができる。
図1は、本発明の一実施形態を説明するための図であって、フィルター装置を含む除害システムの一例を概略的に示す図である。 図2は、フィルター装置の一例を示す縦断面図である。 図3は、図2のIII-III線に対応するフィルター装置の横断面図である。 図4は、フィルター装置の出口ユニットの一例を示す縦断面図である。 図5は、図4のV-V線に対応する出口ユニットの横断面図である。 図6は、出口ユニット内に生じる渦旋回流を模式的に示す図である。 図7は、フィルター装置の一変形例を示す縦断面図である。 図8は、フィルター装置の他の変形例を示す縦断面図である。 図9は、フィルター装置のさらに他の変形例を示す縦断面図である。 図10は、図9のX-X線に対応するフィルター装置の横断面図である。 図11は、フィルター装置のさらに他の変形例を示す縦断面図である。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張することがある。
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本明細書では、出口ユニット30の中心軸線Aが延びる方向(長手方向)を軸方向da、軸方向daと直交する方向を径方向dr、中心軸線A周りの円周に沿った方向を周方向dcとする。また、径方向drに沿って、中心軸線Aに近づく側を内側とし、中心軸線Aから遠ざかる側を外側とする。
図1は、本発明の一実施形態を説明するための図であって、フィルター装置60を含む除害システム10の一例を概略的に示す図である。
除害システム10は、半導体製造装置や液晶製造装置等の製造装置5から排出された排気ガスに含まれる有害成分を処理するシステムである。本実施形態の除害システム10は、第1フィルター装置61(フィルター装置60)と、真空ポンプ12と、第2フィルター装置62(フィルター装置60)と、除害装置14と、を含んでいる。本実施形態の除害システム10は、第1フィルター装置61及び第2フィルター装置62の2つのフィルター装置60を含んでいるが、これに限られず、除害システム10は、1つのフィルター装置60のみを含んでもよいし、3つ以上のフィルター装置60を含んでもよい。図1には、製造装置5から排出された排気ガスの流れが矢印で示されている。
除害システム10は、配管20~24を含んでいる。配管20は、製造装置5と第1フィルター装置61とを接続する。製造装置5から排出された排気ガスは、配管20を通って第1フィルター装置61へ向かう。
配管21は、第1フィルター装置61と真空ポンプ12とを接続する。第1フィルター装置61から排出された排気ガスは、配管21を通って真空ポンプ12へ向かう。
配管22は、真空ポンプ12と第2フィルター装置62とを接続する。真空ポンプ12から排出された排気ガスは、配管22を通って第2フィルター装置62へ向かう。
配管22は、第2フィルター装置62と除害装置14とを接続する。第2フィルター装置62から排出された排気ガスは、配管23を通って除害装置14へ向かう。
配管24は、一端が除害装置14に接続されている。除害装置14から排出された排気ガスは、配管24を通って除害システム10の外部へ向かう。
配管24の他端は、他の処理装置に接続されてもよいし、大気中に排出するための排出通路に接続されてもよい。
真空ポンプ12は、排気ガスを第1フィルター装置61から吸引して第2フィルター装置62へ送出する機能を有する。真空ポンプ12としては、特に限定されることなく種々の真空ポンプが用いられ得る。
除害装置14は、第1フィルター装置61及び第2フィルター装置62で微粒子が除去された排気ガスにさらなる処理を行い、残存する有害成分を除去する装置である。除害装置14としては、特に限定されることなく種々の除害装置が用いられ得る。
第1フィルター装置61及び第2フィルター装置62は、排気ガス中に含まれる液体微粒子、固体微粒子等の微粒子の少なくとも一部を除去する装置である。本明細書では、第1フィルター装置61及び第2フィルター装置62を互いから区別する必要がない場合には、第1フィルター装置61及び第2フィルター装置62を、いずれも単にフィルター装置60と呼ぶ。フィルター装置60では、第1の配管81からフィルター装置60内に流入した排気ガス中に含まれる液体微粒子、固体微粒子等の微粒子の少なくとも一部が除去される。その後、排気ガスは、フィルター装置60から第2の配管(後続の配管)82に流出する。第1フィルター装置61がフィルター装置60である場合、配管20が第1の配管81であり、配管21が第2の配管82である。また、第2フィルター装置62がフィルター装置60である場合、配管22が第1の配管81であり、配管23が第2の配管82である。
図2は、フィルター装置60の一例を示す縦断面図である。図3は、図2のIII-III線に対応するフィルター装置60の横断面図である。フィルター装置60は、筐体64と、フィルターユニット72と、出口ユニット30とを備えている。図2に示された例では、フィルター装置60は、仕切壁74及び衝突板76をさらに備えている。図2に示された例では、筐体64は、本体部66と、蓋部68とを含んでいる。本体部66は、底部が閉塞された略円筒形状を有しており、内部にフィルターユニット72を収容している。本体部66の側面の下方部分には、第1の配管81が接続されている。これにより、第1の配管81の内部と本体部66の内部とが互いに連通している。
蓋部68は、本体部66の上部を閉塞する部材である。蓋部68は、例えばボルト締め等により、本体部66に対して着脱可能に固定されている。蓋部68を本体部66から取り外すことにより、本体部66内に収容されたフィルターユニット72を交換することができる。蓋部68には、出口ユニット30が接続されている。蓋部68及び出口ユニット30は、互いに一体に形成されてもよいし、溶接、ボルト締め等により互いに連結されてもよい。
フィルターユニット72は、第1の配管81から筐体64内に流入した排気ガス中に含まれる液体微粒子、固体微粒子等の微粒子の少なくとも一部を除去する。フィルターユニット72の具体的構成は特に限られず、フィルターユニットとして機能する公知のユニットが適宜用いられ得る。例えば、フィルターユニット72として、特開2005-74362号公報に開示されたフィルターユニットを用いてもよい。図2及び図3に示された例では、フィルターユニット72は円筒形状を有しており、フィルターユニット72の径方向の外側から内側に向かって、排気ガスがフィルターユニット72を通過することにより、排気ガス中に含まれる微粒子の少なくとも一部が除去される。図2では、排気ガスの流れが、符号Eが付された白抜き矢印で示されている。
仕切壁74は、第1の配管81から流入してフィルターユニット72を通過していない排気ガスが第2の配管82へ向かうことを抑制するための部材である。仕切壁74の中央部には貫通孔が形成されており、フィルターユニット72を通過した排気ガスは、この貫通孔を通って第2の配管82へ向かう。
衝突板76は、仕切壁74の貫通孔と第2の配管82との間に配置されている。衝突板76は、仕切壁74の貫通孔を通った排気ガスが衝突することが意図された部材である。排気ガスが衝突板76に衝突することにより、フィルターユニット72を通過した後も排気ガス中に含まれる微粒子が第2の配管82へ向かうことが抑制される。
半導体製造プロセスや液晶製造プロセスで生じる高温の排気ガス中には、気化した状態の成分(気化成分)も含まれる。このような気化成分は、フィルターユニット72を用いても十分に除去できない場合がある。この場合、排気ガス中の気化成分が、フィルター装置60に接続された後続の配管の壁面で冷却されて凝縮又は固化(粉化)して異物となり、配管の壁面に付着することがある。壁面に付着した異物は、配管の詰まりの原因となり得る。
このような問題に対処するため、本実施形態のフィルター装置60は、後続の配管(第2の配管)82の壁面への異物の付着を抑制するための出口ユニット30を有している。第1フィルター装置61は、第1出口ユニット31を有し、第2フィルター装置62は、第2出口ユニット32を有している。本明細書では、第1出口ユニット31及び第2出口ユニット32を互いから区別する必要がない場合には、第1出口ユニット31及び第2出口ユニット32を、いずれも単に出口ユニット30と呼ぶ。
図4及び図5を参照して、本実施形態の出口ユニット30について説明する。図4は、出口ユニット30の一例を示す縦断面図であり、図5は、図4のV-V線に対応する出口ユニット30の横断面図である。
本実施形態の第1出口ユニット31には、第1の熱ガス生成器28が接続され、第2出口ユニット32には、第2の熱ガス生成器29が接続されている。本明細書では、第1の熱ガス生成器28及び第2の熱ガス生成器29を互いから区別する必要がない場合には、第1の熱ガス生成器28及び第2の熱ガス生成器29を、いずれも単に熱ガス生成器27と呼ぶ。熱ガス生成器27は、高温のガス(熱ガス)を生成する装置である。ガスとしては、例えば窒素ガス(Nガス)等の不活性ガスを用いることができる。熱ガス生成器27では、不活性ガスが例えば200℃以上300℃以下の温度に加熱される。加熱された不活性ガス(熱ガス)は、熱ガス生成器27から出口ユニット30へ送出される。
出口ユニット30は、フィルター装置60のフィルターユニット72を通過した排気ガスを第2の配管22へ流出させる機能を有する。フィルター装置60から排出された排気ガスは、後続の配管82を通る間に配管82の壁部により冷却され得る。冷却された排気ガスにおいて凝縮又は固化した気化成分は、配管82の壁部に付着し得る。本実施形態では、出口ユニット30内に熱ガス生成器27で生成された熱ガスを注入し、配管82を通る排気ガスの温度の低下を抑制する。
出口ユニット30は、壁部35と、案内管40と、導入管50と、を含んでいる。壁部35は、出口ユニット30の外壁を形成する略円筒状の部材である。壁部35は、中心軸線Aに沿って延びている。出口ユニット30の上流側の端部には、筐体64の内部と連通する第1開口33が形成されている。出口ユニット30の下流側の端部には、後続の配管(第2の配管)82と連通する第2開口34が形成されている。フィルターユニット72を通過した排気ガス流Eは、第1開口33を介して出口ユニット30内に流入する。出口ユニット30を通った排気ガス流Eは、第2開口34を介して後続の配管82へ流出する。壁部35の内径は、配管82の内径と同一であってもよい。壁部35は、例えば金属により形成される。出口ユニット30の全長は、例えば、30mm以上300mm以下とすることができる。好ましくは、出口ユニット30の全長は、50mm以上200mm以下とすることができる。また、壁部35の内径は、例えば、10mm以上200mm以下とすることができる。好ましくは、壁部35の内径は、25mm以上150mm以下とすることができる。
案内管40は、出口ユニット30内に熱ガス流路Pを形成するための部材である。案内管40は、壁部35の内側に配置された、略円筒状の部材である。案内管40は、例えば金属により形成される。案内管40の厚さは、壁部35の厚さより小さくてもよい。案内管40の中心軸線は、壁部35の中心軸線Aと一致している。すなわち、案内管40は、中心軸線Aに沿って延びている。案内管40と壁部35との間には隙間が形成されており、この隙間が熱ガス流路Pを形成する。また、案内管40の内側には、筐体64の内部から出口ユニット30内に流入した排気ガスの流路である排気ガス流路Pが形成される。
本実施形態の案内管40は、傾斜部42と、平行部44とを有している。傾斜部42は、下流側へ向かうにつれて中心軸線Aに近づくように延びている。平行部44は、傾斜部42の下流側の端部に接続されている。平行部44は、中心軸線Aと平行に延びる円筒状の部分である。傾斜部42の上流側の端部は、壁部35に対して固定されている。これにより、案内管40が壁部35に対して取り付けられている。傾斜部42の上流側の端部と壁部35との間の隙間は、全周にわたって閉塞されている。これにより、筐体64の内部から出口ユニット30内に流入した排気ガスが、上流側から熱ガス流路P内に流入することが抑制される。
本実施形態では、傾斜部42及び平行部44には、当該傾斜部42及び平行部44を径方向drに貫通する孔が設けられていない。これにより、案内管40が配置されている区間において、熱ガスが排気ガス流路P内に流入することが抑制される。また、案内管40が配置されている区間において、排気ガスが熱ガス流路P内に流入することが抑制される。なお、これに限られず、傾斜部42及び/又は平行部44には、当該傾斜部42及び/又は平行部44を径方向drに貫通する孔が設けられてもよい。
案内管40の下流側の端縁(平行部44の下流側の端縁)すなわち下流端46は、壁部35の下流側の端縁よりも上流側に位置している。案内管40の下流端46が、壁部35の下流側の端縁よりも下流側に位置する場合、出口ユニット30が後続の配管82と接続されていないときに、下流端46が他の部材と接触し、下流端46及び/又は当該他の部材に傷や変形を生じる恐れがある。本実施形態では、下流端46が壁部35の下流側の端縁を超えて外側に位置することがないので、下流端46が他の部材と接触することを抑制することができる。
導入管50は、熱ガス生成器27で生成された熱ガスを熱ガス流路P内に導入するための管である。具体的には、導入管50は、熱ガスを壁部35と案内管40との間の隙間に導入する。壁部35には、導入管50が開口する開口部52が設けられている。開口部52において、導入管50が熱ガス流路Pに開口する。
開口部52は、軸方向daにおける案内管40の傾斜部42が配置された区間内に位置している。換言すると、開口部52は、径方向drから見て傾斜部42と重なっている。これにより、開口部52から熱ガス流路P内に導入された熱ガスは、傾斜部42に案内されて、熱ガス流路P内を下流側に向かって流れる。
図5に示されているように、導入管50は、開口部52において径方向drに対して傾斜した方向に延びている。導入管50の中心軸線Bと開口部52における壁部35の延長面との交点をCとする。ここでの径方向drは、図5に示された断面において、中心軸線Aと点Cとを結ぶ直線に沿って規定される。中心軸線Bと開口部52における径方向drとの間に形成される2つの角度のうち小さいほうの角度を角度θとする。角度θは、例えば、30度以上90度以下である。角度θは、40度以上80度以下であってもよい。導入管50は、軸方向daに対して垂直に伸びている。これに限られず、導入管50は、軸方向daに対して0度より大きく90度未満の角度を有して傾斜した方向に延びてもよい。とりわけ、導入管50は、壁部35に近づくにつれて下流側へ向かうように、軸方向daに対して傾斜した方向に延びてもよい。なお、図4及び図5に示された例では、導入管50は直線状に延びているが、これに限られず、導入管50は曲線状に延びる部分を含んでもよい。
次に、図4~図6を参照して、出口ユニット30内への熱ガスの導入方法について説明する。図6は、出口ユニット30内への熱ガスの導入方法について説明する図であって、とりわけ出口ユニット30内に生じる熱ガスの渦旋回流を模式的に示す図である。
本実施形態では、筐体64の内部から後続の配管82へ向かう排気ガスは、出口ユニット30へ流入する。排気ガスの温度は、例えば100℃程度である。出口ユニット30内には、案内管40で囲まれた排気ガス流路Pが形成されている。出口ユニット30へ流入した排気ガスは、排気ガス流路P内を流れる。図4及び図6では、排気ガスの流れが、符号Eが付された白抜き矢印で示されている。案内管40が配置されている区間内では、排気ガスは、出口ユニット30の壁部35に接触することはない。なお、案内管40が配置されている区間内において、排気ガスは、案内管40を介して熱ガスから伝わる熱により加熱され得る。
熱ガス生成器27で生成された熱ガスは、導入管50を介して熱ガス流路P内へ導入される。熱ガスは、例えば200℃~300℃に加熱された窒素ガスである。導入管50から開口部52を介して熱ガス流路P内へ導入された熱ガスは、案内管40の傾斜部42に案内されて、熱ガス流路P内を下流側(図4及び図6では上側)に向かって流れる。図4~図6では、熱ガスの流れが、符号Hが付された矢印で示されている。
図5に示されているように、導入管50は、開口部52において径方向drに対して傾斜した方向に延びている。これにより、導入管50から熱ガス流路P内へ導入された熱ガスには、中心軸線A周りに回転する方向に進む力が作用する。したがって、熱ガス流路P内へ導入された熱ガスは、熱ガス流路P内を、中心軸線A周りに回転しながら下流側へ向かって流れる。これにより、図6に示されているように、出口ユニット30の内部に導入された熱ガスにより、出口ユニット30(壁部35)の内面に沿って上流側から下流側へ向かって螺旋状に流れる渦旋回流が形成される。
熱ガスが渦旋回流を形成することにより、熱ガス流Hには遠心力が作用する。したがって、熱ガス流Hは、案内管40の下流端46を超えた後も渦旋回流を形成しながら進み、後続の配管82内へ流入する。このとき、熱ガス流Hは、出口ユニット30(壁部35)の内面及び後続の配管82の内面に沿って進む。その一方、案内管40の下流端46を超えた後の排気ガス流Eは、熱ガスの渦旋回流の内側を下流側へ向かって進む。したがって、排気ガス流Eは、案内管40の下流端46を超えた後の特定の長さを有する区間内においては、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部に接触せずに進む。すなわち、この区間内においては、排気ガスと熱ガスとは実質的に互いに混合せずに流れる。
この区間内においては、排気ガスが出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部により冷却されることはない。これにより、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化(粉化)して異物となり、配管82の壁面に付着することを効果的に抑制することができる。したがって、配管82の壁面に付着した異物によって配管82につまりが生じることを抑制することができる。
この特定の長さを有する区間内において、排気ガス流Eの外側には熱ガスの渦旋回流が位置する。これにより、この区間内において、熱ガスの熱により排気ガスの温度が上昇し得る。この場合、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化することが、より効果的に抑制される。
特定の長さを有する区間を超えると、排気ガスと熱ガスとが混合される。これにより、排気ガスの温度が上昇する。したがって、排気ガスが、上記特定の長さを有する区間を超えた後も、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化することが抑制される。
なお、排気ガスと熱ガスとが実質的に混合しない区間における特定の長さは、排気ガスの流量及び速度、熱ガスの流量及び速度、導入管の配置角度等により変化し得る。
本実施形態のフィルター装置60は、排気ガス中に含まれる異物を除去するためのフィルター装置60であって、筐体64と、筐体64内に収容されたフィルターユニット72と、筐体64と後続の配管82とを接続し、フィルターユニット72を通過した排気ガスを配管82へ流出させる出口ユニット30と、を備え、出口ユニット30は、出口ユニット30の内部に導入された熱ガスにより、出口ユニット30の内面に沿って排気ガスの流れの上流側から下流側へ向かって螺旋状に流れる渦旋回流を形成する。
このようなフィルター装置60によれば、熱ガスが渦旋回流を形成することにより、熱ガス流Hには遠心力が作用する。したがって、特定の区間内において、熱ガス流Hは、出口ユニット30の内面及び後続の配管82の内面に沿って進む。その一方、当該区間内において、排気ガスは、出口ユニット30の壁部35及び配管82の壁部に接触せずに進む。すなわち、この区間内においては、排気ガスと熱ガスとは実質的に互いに混合せずに、すなわち分離されて流れる。
したがって、この区間内においては、排気ガスが出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部により冷却されることはない。これにより、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化(粉化)して異物となり、配管82の壁面に付着することを効果的に抑制することができる。したがって、配管82の壁面に付着した異物によって配管82につまりが生じることを抑制することができる。
本実施形態のフィルター装置60では、出口ユニット30は、壁部35と、壁部35の内側に配置された案内管40を有し、壁部35と案内管40との間に、熱ガスが通る熱ガス流路Pが形成される。
このような出口ユニット30によれば、案内管40が配置された区間内において排気ガス流Eと熱ガス流Hとを互いに分離したまま下流側へ向かって流れさせることができる。これにより、案内管40の下流側においても、排気ガス流Eと熱ガス流Hとが実質的に互いに混合せずに流れるようになる。したがって、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化することを、さらに抑制することができる。
また、案内管40が配置されている区間内において、排気ガスは、案内管40を介して熱ガスから伝わる熱により加熱され得る。これによっても、排気ガス中の気化成分が、出口ユニット30の壁部35及び後続の配管82の壁部で冷却されて凝縮又は固化することを、さらに抑制することができる。
本実施形態のフィルター装置60では、案内管40は、下流側へ向かうにつれて中心軸線Aに近づくように延びる傾斜部42と、傾斜部42の下流側の端部に接続され、中心軸線Aと平行に延びる平行部44と、を有する。
このようなフィルター装置60によれば、傾斜部42により、排気ガス流E及び熱ガス流Hを適切に案内することができる。また、平行部44により、排気ガス流Eと熱ガス流Hとを互いに分離したまま、下流側へ向かって流れさせることができる。
本実施形態のフィルター装置60では、出口ユニット30は、熱ガス流路Pに熱ガスを導入する導入管50と、壁部35において導入管50が開口する開口部52とを有する。
本実施形態のフィルター装置60では、導入管50は、開口部52において径方向drに対して傾斜した方向に延びる。
このようなフィルター装置60によれば、導入管50からの熱ガスの流入圧力を駆動力として、出口ユニット30内に熱ガスの渦旋回流を形成することができる。したがって、簡単な構成で熱ガスの渦旋回流を形成することができる。
図7~図11を参照して、本実施形態の変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述の実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。
図7は、フィルター装置60の一変形例を示す縦断面図である。本変形例では、フィルターユニット72は、筐体64の蓋部68に接触して配置されている。また、フィルターユニット72の下端と筐体64の本体部66の底部との間には隙間が形成されている。
本変形例では、第1の配管81は、本体部66の底部に接続されている。フィルターユニット72の下端には、下カバー板91が取り付けられている。下カバー板91は、第1の配管81から流入してフィルターユニット72を通過していない排気ガスが第2の配管82へ向かうことを抑制するための部材である。フィルターユニット72には、当該フィルターユニット72を軸線方向に貫通する貫通孔が形成されている。下カバー板91は、少なくともこの貫通孔の下端を閉塞するように配置されている。
本変形例では、第1の配管81から筐体64内に流入した排気ガスは、下カバー板91に当たって筐体64の側壁部へ向かう。その後、フィルターユニット72の径方向の外側から内側に向かって、排気ガスがフィルターユニット72を通過することにより、排気ガス中に含まれる微粒子の少なくとも一部が除去される。
図8は、フィルター装置60の他の変形例を示す縦断面図である。本変形例では、フィルターユニット72は、筐体64の蓋部68から離間するとともに筐体64の底部から離間して配置されている。すなわち、フィルターユニット72の上端と蓋部68との間には隙間が形成されているとともに、フィルターユニット72の下端と筐体64の底部との間には隙間が形成されている。
フィルターユニット72の上端には、上カバー板92が取り付けられている。上カバー板92は、第1の配管81から流入してフィルターユニット72を通過していない排気ガスが第2の配管82へ向かうことを抑制するための部材である。上カバー板92の中央部には誘導管93が接続されている。誘導管93は、上カバー板92の中央部に形成された貫通孔と連通している。誘導管93は、フィルターユニット72を通過した排気ガスを出口ユニット30へ向かって誘導する機能を有する。また、誘導管93は、フィルターユニット72を蓋部68から吊り下げて保持する機能を有してもよい。
本変形例では、第1の配管81は、筐体64の蓋部68に接続されている。第1の配管81から筐体64内に流入した排気ガスは、フィルターユニット72の径方向の外側から内側に向かってフィルターユニット72を通過する。これにより、排気ガス中に含まれる微粒子の少なくとも一部が除去される。その後、排気ガスは、上カバー板92の貫通孔及び誘導管93を通って出口ユニット30へ向かう。
熱ガスが導入される出口ユニット30に隣接する蓋部68は、熱ガスからの熱の伝達により比較的高温になり得る。この場合、フィルターユニット72における蓋部68に隣接する部分が高温になり損傷するおそれがある。本変形例では、フィルターユニット72が蓋部68から離間して配置されているので、熱ガスから伝達された熱によりフィルターユニット72が高温になることを抑制することができる。したがって、熱によるフィルターユニット72の損傷を抑制することができる。
図9は、フィルター装置60のさらに他の変形例を示す縦断面図である。図10は、図9のX-X線に対応するフィルター装置60の横断面図である。本変形例のフィルター装置60は、中心軸線に沿って見たときに渦巻状の形状を有する渦巻状流路95を有している(図10参照)。フィルター装置60は、連続した渦巻状流路95を形成するように筐体内に配置された隔壁96と、隔壁96の少なくとも一面に配置されたフィルター部材97とを有している。
フィルター部材97は、隔壁96の内面に沿って設けられている。フィルター部材97は、渦巻状流路95における径方向の外側に位置している。排気ガスがフィルター部材97に触れて進行する過程で、反応生成物等の夾雑物、その他ミストやダストを含めた微粒子がフィルター部材97に捕捉される。このようなフィルター部材97は、例えば繊維素材で構成される。フィルター部材97は、耐熱性や耐薬品性に優れた繊維素材で構成されることが好ましい。フィルター部材97を構成する繊維素材は、上記の要求を満足する繊維素材であれば特に限られないが、製造の容易性等の観点からは不織布であることが好ましい。
第1の配管から流入した排気ガスは、渦巻状流路95内を中心軸線周りに回転しながら流れる。このとき、排気ガス中に含まれる微粒子には、渦巻状流路95の外側に向かう遠心力が作用する。これにより、排気ガス中に含まれる微粒子は、フィルター部材97に接触して、フィルター部材97に捕捉される。このような渦巻状流路95を有したフィルター装置60は、例えば特許第4636640号公報及び特許第4864283号公報に記載されたフィルター装置と同様に構成することができる。
図11は、フィルター装置60のさらに他の変形例を示す縦断面図である。図9に示されたフィルター装置60は、渦巻状流路95とフィルターユニット72とを含んでいる。フィルターユニット72は、排気ガス流Eの流れに沿って渦巻状流路95に対して下流側に配置されている。図11に示された例では、フィルターユニット72は、渦巻状流路95の上方に配置されている。なお、図11に示された例では、フィルターユニット72は、蓋部68に接して配置されているが、図8に示された例のように、フィルターユニット72は、蓋部68から離間して配置されてもよい。
5 製造装置
10 除害システム
12 真空ポンプ
14 除害装置
20 配管
21 配管
22 配管
23 配管
24 配管
27 熱ガス生成器
28 第1の熱ガス生成器
29 第2の熱ガス生成器
30 出口ユニット
31 第1出口ユニット
32 第2出口ユニット
33 第1開口
34 第2開口
35 壁部
40 案内管
42 傾斜部
44 平行部
46 下流端
50 導入管
52 開口部
60 フィルター装置
61 第1フィルター装置
62 第2フィルター装置
64 筐体
66 本体部
68 蓋部
72 フィルターユニット
74 仕切壁
76 衝突板
81 第1の配管
82 第2の配管
91 下カバー板
92 上カバー板
93 誘導管
95 渦巻状流路
96 隔壁
97 フィルター部材
E 排気ガス流
H 熱ガス流
排気ガス流路
熱ガス流路
A 中心軸線
da 軸方向
dr 径方向
dc 周方向

Claims (3)

  1. 排気ガス中に含まれる異物を除去するためのフィルター装置であって、
    筐体と、
    前記筐体内に収容されたフィルターユニットと、
    前記筐体と後続の配管とを接続し、前記フィルターユニットを通過した前記排気ガスを前記配管へ流出させる出口ユニットと、を備え、
    前記出口ユニットは、
    壁部と、前記壁部の内側に配置され前記壁部との間に熱ガス流路を形成する案内管と、前記熱ガス流路に熱ガスを導入する導入管と、前記壁部において前記導入管が開口する開口部と、を有し、
    前記案内管は、前記排気ガスの流れの上流側から下流側へ向かうにつれて中心軸線に近づくように延びる傾斜部を有し、
    前記開口部の全体が、軸方向における前記傾斜部が配置された区間内に位置しており、
    前記導入管は、前記開口部において径方向に対して傾斜した方向に延び、
    前記開口部から前記熱ガス流路内に導入された前記熱ガスは、前記傾斜部に案内されて前記熱ガス流路内を前記下流側に向かって流れ、前記出口ユニットの内面に沿って前記上流側から前記下流側へ向かって螺旋状に流れる渦旋回流を形成する、フィルター装置。
  2. 前記案内管は、前記傾斜部の前記下流側の端部に接続され、前記中心軸線と平行に延びる平行部をさらに有する、請求項に記載のフィルター装置。
  3. 前記導入管は、前記壁部に近づくにつれて前記下流側へ向かうように、前記軸方向に対して傾斜した方向に延びる、請求項1又は2に記載のフィルター装置。
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