JP7488893B2 - 非極性iii族窒化物二元及び三元材料、それらの取得方法及び用途 - Google Patents
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Description
-再成長後にさらにナノ結晶長方形ブロック(ナノタイル)に発展するナノピラーの秩序のある(エッチングされた)配列として処理される、非極性III族窒化物テンプレートである層。
-連続的な成長は、ナノピラー、特にナノタイルによって支持された合体した非極性III族窒化物層をもたらす。
再成長したナノ結晶は、非極性III族窒化物フィルムの組成と同じ又は異なる組成を有する。
-XxGa1-xN、カチオンXはIn又はAlを指し、0<x≦1であり、あるいは
-InxAl1-xN、0<x≦1である。
フィルムは、秩序配列でナノ結晶長方形ブロック(ナノタイル)を含み、単結晶フィルムに全体的又は部分的に埋め込まれ、前記ブロックは、式XxZ1-xNを有し、XとZは、第III族元素Ga、In及びAlから独立して選択され、0≦x≦1である。
a)マスクは、好ましくは、金属マスクであり、より好ましくは、Niマスクである。マスクは、従来の方法(ジュールや電子ビーム蒸着など)によって堆積し、マスクパターンは、電子ビ-ムリソグラフィ(EBL)、ナノインプリント(NIL)、又はナノ/マイクロピラー用の光リソグラフィによって処理される。NILは、広域をカバーする最速の方法を提供するため、最適な技術である。孔は、円形、長方形、正方形、又は三角形にすることができる。マスクの孔配列のパターン(分布)は、三角形、正方形、及びひし形、平行四辺形、六角形などの多角形、又は任意の混合物からなる材料群から選択され、明確に定義された方向を持つジオメトリを持つことができる。非極性III族窒化物の異なる方位面の不均一な成長速度を考慮すると、図2.aの上面図に示すように、孔配列のパターンの好ましいジオメトリは、[0001]方向(c面)に沿って配向された長辺を有する長方形である。
<実施例1>MBEによるm面AlN疑似基板の取得
本実施例は、MBEによって成長した高品質m面AlN2D層の成長プロセスを示す。プロセスは、プラズマアシストMBE(PA-MBE)システムを使用して、(100)γ-LiAlO2基板上にm面GaNバッファー層を成長させることによって開始する。熱NIL技術が、バッファー上に予め堆積したNiフィルム上のパターンを画定するために使用された。
前のセクションで述べたように、提案された方法は、各層が異なる組成を持ち、誘電体マスクを使用せずに歪みのない多層(タンデム)デバイスを作製するのにも適している。この実施例は、MBEによって成長したm面GaNp‐n接合上に低いTD密度で歪みのないm面InGaN層を生成する方法を示す。歪みのないm面InGaN層上にさらに成長させると、InGaN-GaNタンデム太陽電池用のm面InGaNp‐n接合が生成される。図6は、提案された方法によって成長した歪みのないp型m面InGaN層(パターンフィル)を有するm面InGaN-GaNタンデム太陽電池のスケッチを示す。
Claims (16)
- 非極性III族窒化物材料を得るための方法であって、
複数のナノピラーを形成するように非極性III族窒化物テンプレートをエッチングするステップであって、前記非極性III族窒化物テンプレートは、式XxZ1-xNを有するm面又はa面配向の単結晶であり、XとZは、Ga、In及びAlからなる群から独立して選択され、0≦x≦1であり、前記複数のナノピラーは、ナノピラーの配列を形成するように2つの方向に沿って配置され、前記2つの方向は、c方向及び前記c方向に対する直交方向を含むステップと、
ナノタイルの配列を得るように前記ナノピラーの配列上に第1のIII族窒化物を成長させるステップと、
前記ナノタイルの配列及び合体した非極性III族窒化物層を含む前記非極性III族窒化物材料を得るために、前記合体した非極性III族窒化物層を形成するように前記ナノタイルの配列上に第2のIII族窒化物を成長させるステップと、を含み、
前記ナノピラーの断面形状は円形であり、
前記ナノピラーの配列において、前記ナノピラーは、100nm~1000nmの範囲の高さ、20nm~2000nmの範囲の断面サイズ、及び50nm~2000nmの範囲の2つのナノピラーの中心間のピッチを有し、
前記第1のIII族窒化物の材料は前記ナノピラーの配列の材料と同じであり、
前記第2のIII族窒化物の材料は前記第1のIII族窒化物の材料と異なる、
ことを特徴とする方法。 - 前記c方向における2つの隣接するナノピラーの間のピッチは、前記直交方向における2つの隣接するナノピラーの間のピッチよりも大きい、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記非極性III族窒化物テンプレートをエッチングする前に、前記非極性III族窒化物テンプレート上にパターン化されたマスクを形成するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記ナノピラーの配列上に前記III族窒化物を成長させる前に、前記ナノピラーの配列の上面を露出させるように前記パターン化されたマスクを除去するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記非極性III族窒化物テンプレートは、第1基板上に成長した非極性III族窒化物2D層であり、又は、前記非極性III族窒化物テンプレートは、非極性III族窒化物基板である、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1基板は、Al2O3、SiC、Si、LiAlO2、LiGaO2、m面GaN及びm面AlNからなる群から選択され、前記非極性III族窒化物基板は、III族窒化物バルク材料から切り出すことによって形成され、前記III族窒化物バルク材料は、GaN、AlN、InN、AlxGa1-xN、lnxGa1-xN及びlnxAl1-xNからなる群から選択され、0<x<1である、ことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記非極性III族窒化物テンプレートは、100nm以上の厚さを有する前記非極性III族窒化物2D層を前記第1基板上に成長させることによって形成され、前記非極性III族窒化物2D層は、結晶多形のないm面又はa面配向の単結晶である、ことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記合体した非極性III族窒化物層を形成するように前記ナノタイルの配列上に前記III族窒化物を成長させた後に、前記合体した非極性III族窒化物層上に厚い層をホモエピタキシァル過成長させるステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記合体した非極性III族窒化物層を形成するように前記ナノタイルの配列上に前記III族窒化物を成長させた後に、
前記テンプレートから前記非極性III族窒化物層を分離すること、又は、
前記非極性III族窒化物層を支持する前記テンプレートの残りの部分から前記非極性III族窒化物層を分離すること
の少なくとも1つを実行するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 非極性III族窒化物材料であって、
複数のナノタイルと、
非極性III族窒化物層と、を含み、
前記複数のナノタイルは少なくとも部分的に前記非極性III族窒化物層に埋め込まれ、前記非極性III族窒化物層は、前記複数のナノタイル上に第2のIII族窒化物を成長させて形成され、
前記複数のナノタイルは、ナノタイルの配列を形成するように2つの方向に沿って配置され、前記2つの方向は、c方向及び前記c方向に対する直交方向を含み、前記ナノタイルの配列はナノピラーの配列上に第1のIII族窒化物を成長させて形成され、
前記ナノピラーの断面形状は円形であり、
前記ナノピラーの配列において、前記ナノピラーは、100nm~1000nmの範囲の高さ、20nm~2000nmの範囲の断面サイズ、及び50nm~2000nmの範囲の2つのナノピラーの中心間のピッチを有し、
前記第1のIII族窒化物の材料は前記ナノピラーの配列の材料と同じであり、
前記第2のIII族窒化物の材料は前記第1のIII族窒化物の材料と異なり、
前記非極性III族窒化物層及び前記複数のナノタイルのそれぞれは、結晶多形のないm面又はa面配向の単結晶材料であり、
前記非極性III族窒化物層及び前記複数のナノタイルのそれぞれは、GaN、AlN、InN、Al x Ga 1-x N、ln x Ga 1-x N及びln x Al 1-x Nからなる群から選択され、0<x<1であり、かつ、分子式XxZ1-xNを有し、XとZは、Ga、In及びAlからなる群から独立して選択され、0≦x≦1である、ことを特徴とする非極性III族窒化物材料。 - 前記c方向における2つの隣接するナノタイルの間のピッチは、前記直交方向における2つの隣接するナノタイルの間のピッチよりも大きい、ことを特徴とする請求項10に記載の非極性III族窒化物材料。
- 各ナノタイルの断面形状は長方形であり、前記長方形の2つの長辺は前記c方向に延在し、前記長方形の2つの短辺はa方向又はm方向に延在する、ことを特徴とする請求項10に記載の非極性III族窒化物材料。
- 前記非極性III族窒化物層は、Al又はInの少なくとも1つを含む、ことを特徴とする請求項10に記載の非極性III族窒化物材料。
- 光電子デバイス、高出力電子デバイス、又は高周波電子デバイスを含むデバイスであって、
前記光電子デバイス、高出力電子デバイス、又は高周波電子デバイスは、テンプレート又は基板を含み、
前記テンプレート又は前記基板は、請求項10から13のいずれか一項に記載の非極性III族窒化物材料を含む、
デバイス。 - 前記光電子デバイスは、発光ダイオード(LED)、レーザダイオード(LD)、及び太陽電池からなる群から選択され、
前記高出力電子デバイスと前記高周波電子デバイスはそれぞれ、電界効果トランジスタ及びバイポーラートランジスタからなる群から独立して選択される、ことを特徴とする請求項14に記載のデバイス。 - 多層構造体であって、
異なる組成を有する2つのIII族窒化物層と、
前記2つのIII族窒化物層の間に配置された、非極性III族窒化物材料を含むバッファー層と、を含み、
前記バッファー層は、請求項10から13のいずれか一項に記載の非極性III族窒化物材料を含む、
ことを特徴とする多層構造体。
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