JP7482924B2 - 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 131
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 78
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 85
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 82
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 81
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 35
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 21
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 16
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 8
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 6
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 3
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004620 low density foam Substances 0.000 description 92
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 88
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 58
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 47
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 13
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 12
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 12
- -1 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 12
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 description 11
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N boron trioxide Inorganic materials O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 11
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol dimethyl ether Natural products COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- OLRBYEHWZZSYQQ-VVDZMTNVSA-N (e)-4-hydroxypent-3-en-2-one;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.C\C(O)=C/C(C)=O.C\C(O)=C/C(C)=O OLRBYEHWZZSYQQ-VVDZMTNVSA-N 0.000 description 3
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 2
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid Chemical compound COCCOCCOCC(O)=O YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910001423 beryllium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FRLJSGOEGLARCA-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical class [S-2].[Cd+2] FRLJSGOEGLARCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005387 chalcogenide glass Substances 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 description 1
- QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N gallium(III) oxide Inorganic materials O=[Ga]O[Ga]=O QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 1
- 229920000671 polyethylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000013460 polyoxometalate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003190 viscoelastic substance Substances 0.000 description 1
- 239000007966 viscous suspension Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
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Description
本発明は、ガラス成分に関し、特に、特注の組成プロファイルを有する光学ガラス成分および非光学ガラス成分ならびにそれらの調製方法に関する。
従来より、材料組成の傾斜は、(1)均一の組成物を含有する複数の層を一緒に溶融することによって軸方向に、または、(2)種(小さくて、早く拡散するイオンであることが典型的である)を高温でロッド状のシリカゾルゲルまたは固体の内部または外部へ拡散することによって径方向に、導入される。しかしながら、単に拡散を利用した傾斜は対称的な放物線状のプロファイルに限られており、(径方向傾斜屈折率レンズの場合、)最大で20mmの直径にすることが可能であるあるが、最も商品化されているバージョンでは、直径は2mmよりも小さい。より大きな、ゆっくりと拡散する種の導入は、難易度が高い。
本明細書で説明される様々な実施形態によって、(1)従来のガラス処理技術では達成することができない、特注の組成プロファイルを有する光学的または非光学的なガラスの形成と、(2)拡散方法によって容易に導入できない種の導入と、(3)拡散方法によって達成可能なものよりもはるかに大きな特注のパターンの材料特性を有するガラス光学部品の生成とが可能になる。
以下の説明は、本発明の一般的な原理を示す目的でなされており、本明細書で特許請求されている本発明の概念を制限することを意図するものではない。さらに、本明細書に記載の特定の特徴は、それぞれの使用可能な組合せおよび並べ替えにおいて他の記載された特徴と併せて使用することができる。
3D 3次元
DIW ダイレクトインクライティング
FDM 熱溶解積層法
IR 赤外線
G3DP ガラス3次元印刷
GRIN 屈折率ガラス
LDF 低密度フォーム
Si シリコン
S-3DP スラリーを利用した3次元印刷
SLM 選択的レーザー溶解法
Ti チタン
UV 紫外線
本明細書で説明される様々な実施形態では、1次元、2次元、または3次元の特注の材料組成プロファイルを有する能動または受動光学または非光学ガラス成分および/またはガラスセンサを製造するための方法が提供される。本明細書で説明される様々な実施形態によって、組成変化を有するまたは有さない様々な無機ガラスの3次元(3D)印刷が可能になる。ガラス組成および処理条件によっては、ガラスは人間の目に透明または不透明に映ることがある。しかしながら、「光学ガラス」という用語はスペクトルの可視部分において有用なガラスのみを指すのではなく、UV、可視、近赤外、中赤外、遠赤外にも拡張され得る。
子、アルミナ粒子、金属カルコゲナイド粒子(たとえば、CdS、CdSe、ZnS、PbS)などであるが、これらに限定されるわけではない。さらに他の実施形態では、ガラス形成材料は無機物含有粒子の単一組成物でもよい。
一実施形態では、溶媒は無極性溶媒、たとえばキシレン、アルカンであり得るが、これらに限定されるわけではない。
ウムからなる群より選択される1つ以上の第2の成分の添加による影響を受け得る。
5-15vol% ヒュームドシリカ(カボシルEH-5またはカボシルOX-50)
30-95vol% テトラエチレングリコールジメチルエーテル
0-20wt% チタンジイソプロポキシドビス(アセチルアセトネート)
0-6wt% エチレングリコール
0-2wt% ポリ(ジメチルシロキサン)
インクの調合例2
75-95vol% シリカ-チタニア含有ポリマー
10-25vol% テトラエチレングリコ-ルジメチルエーテル
0-10vol% 前加水分解のためのH2O
インクの調合例3
5-20vol% 25-nmチタニア被覆シリカ粒子
25-45vol% プロピレンカーボネート
25-45vol% テトラエチレングリコ-ルジメチルエーテル
0-5wt% MEEAA
一実施形態によると、インクの第2の成分の濃度は、構造物の組成傾斜を形成するために、印刷中に最終的な熱処理構造物に変化し得る。
一実施形態では、方法100は、犠牲材料を除去するために、形成された構造物を乾燥させることを備え、この乾燥は、形成された構造物の熱処理の前に行なわれる。完全に形成された構造物を一回のプロセスで乾燥することが理想的である。
他の実施形態では、熱処理されたガラス構造物は、シート形状であり得る。
他の実施形態では、熱処理されたガラス構造物は、部品、工具など、基板上の被膜形状であり得る。
y、z)を有している。他の手法では、ノズル208は、印刷用に6つの軸を有するように拡張し得る。ノズル208を、制御された分布パターンでインクを押し出すように位置決め可能である。
ば、自由表面ヒドロキシルから無水シロキサンへ転化する)ために代替的なガス雰囲気下でLDF214を加熱することを含み得る。いくつかの手法では、処理ステップ226は、酸化性ガス雰囲気(たとえば、O2ガス)下でのLDF214の加熱を含み得る。他の手法では、処理ステップ226は、還元性ガス雰囲気(たとえば、H2ガス)下でのLDF214の加熱を含み得る。さらに他の手法では、処理ステップ226は、非反応性ガス雰囲気(たとえば、Ar、He)下でのLDF214の加熱を含み得る。さらに他の手法では、処理ステップ226は、反応性ガス雰囲気(たとえば、N2、Cl2)下でのLDF214の加熱を含み得る。さらに他の手法では、処理ステップ226は、真空状態でのLDF214の加熱を含み得る。
一実施形態によると、方法は、図2Aのステップ228に示すように、乾燥させたLDF214を熱処理して残りの気孔を閉じ、圧密された透明のガラス部分を形成することを含む。いくつかの手法では、LDFの密集フォームを熱処理し得る。
分は図5Bでは上部である。
ルマニウムガラス、フッ化物ガラス、アルミノ珪酸ガラス、およびカルコゲナイドガラスなどのシリカ系ガラスに加えて、様々な(主に)アモルファス無機ガラス材料にも適用可能である。
印刷されたモノリスのシリカまたはシリカ-チタニア素地(直径25mm、厚さ5mm)を100℃のホットプレートの上に載せる。3時間後、印刷された素地を基板から離す。その後、素地を箱形炉で100℃で110時間乾燥させる。その後、液体を含まない素地を10℃/分の昇温速度で600℃まで加熱し、1時間放置して残りの有機成分のバーンアウトを行なう。その後素地を100℃/時間で1000℃まで昇温させ、真空状態で1時間放置する。最後に、1500℃に予備加熱された炉で3~10分間当該部分を焼結する。次に、これらの部分を除去して急速に室温まで冷却する。全ての非真空処理ステップは大気中で行なわれる。
直径が25nmのシリカまたはシリカ-チタニア粒子(直径25mm、厚さ5mm)で構成された、印刷されたモノリスシリカ素地を3℃/時の速度で箱形炉で75℃まで昇温させる。炉が75℃に達すると、印刷された素地は基板から離される。その後、素地は乾燥炉で75℃で120時間乾燥させられる。次に、液体を含まない素地は1℃/分の昇温速度で600℃に加熱され、1時間その状態で放置されて、残りの有機成分のバーンアウトを行なう。最後に、この部分は1150℃に予備加熱された炉で1時間焼結される。その後、これらの部分は除去されて急速に室温まで冷却される。全ての非真空処理ステップは大気中で行なわれる。
図6A~図6Fは、(上述のような)インクの配合物3を用いて作成された印刷部分の画像である。図6A~図6Cは、シリカのみの組成物を用いて形成された印刷部分の画像である。図6Aは、印刷後に形成された素地の画像である。図6Bは、図6Aの素地の乾燥後の画像である。図6Cは、図6Bの乾燥された素地の圧密後の画像である。
類のインク、0%のチタンアルコキシドを含むインクAと、最終的な圧密ガラスにおいて1.6wt%のTiO2を得るのに十分なチタンアルコキシドを含むインクBとを使用した。ガラスを図8に示す熱処理プロファイルを使用して圧密し、その後、セリアパッド研磨を使用して研磨した。図9Bは表面を修正したインターフェログラムであり、図9Aの画像に示す材料の大部分の内部において屈折率が変化する態様を示す図である。屈折率は中心で最も高く、そこではTiO2組成が最も高い。屈折率は縁部で最も低く、そこではTiO2組成が最も低い。中心を横切るラインアウトは、y軸上で図9B(y軸上のδη/(η0-1)、x軸上の距離(mm))の差し込みプロットによって示されるように、中心を横切る屈折率の変化が放物線状であることを示しており、部分がレンズとして機能し得ることを示唆している。図9Cは、62cmの長さの焦点距離を有するレンズから300μm焦点の画像である。
本明細書で説明された様々な実施形態は、市販用途および政府の用途の双方のための特別な組成および材料特性を有する能動または受動光学ガラス部品(たとえば、レンズ、補正板、窓、スクリーン、集光器、導波管、ミラーブランク、センサなど)を形成するために使用可能である。これらの方法を用いてイオン、分子、または粒子をガラス部品(モノリス、フィルム、またはフリーフォーム)内の任意の(すなわち、特定用途向けの)場所に導入して、吸光率、伝搬率、屈折率、分散性、散乱性、導電率、熱伝導率、熱膨張率、利得係数、ガラス転移点(Tg)、融点、光電子放出、蛍光発光、化学反応性(たとえば、エッチング速度)、または濃度/多孔性などの、ガラス内の空間的に異なる材料特性を実現することが可能である。
的なものではないことを理解されたい。したがって、本発明の実施形態の広さおよび範囲は、上記の例示的な実施形態のいずれかによって限定されるべきではなく、以下の特許請求の範囲およびそれらの等価物によってのみ定義されるべきである。
Claims (12)
- ガラス成分を形成する方法であって、前記方法は、第1のガラス形成材料を含む第1のガラス形成インク、ならびに第2のガラス形成材料および構造物における第2の成分の組成傾斜を作り出すための前記第2の成分を含む第2のガラス形成インクの押し出し系の印刷によって前記構造物を形成することと、
前記第1のガラス形成材料および前記第2のガラス形成材料をガラスに転化するために前記形成された構造物を熱処理することとを備え、
押し出し系の印刷によって前記構造物を形成することは、前記第1のガラス形成インクを印刷することと、前記第1のガラス形成インクを印刷した後に前記第2のガラス形成材料を印刷することとを備え、
前記第2のガラス形成インクは、前記第2のガラス形成材料と、前記熱処理された構造物の特性を変更する前記第2の成分とを組み合わせたものを含み、
前記構造物の組成傾斜を形成するために、前記第2のガラス形成インクにおける前記第2の成分の濃度が前記印刷中に変化する、方法。 - 犠牲材料を除去するために、前記形成された構造物を乾燥させることを備え、前記乾燥させることは、前記形成された構造物の熱処理に先立って行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のガラス形成インクの温度が前記印刷中は200℃よりも低い、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のガラス形成材料は、シリカ、ヒュームドシリカ、コロイドシリカ、コロイドシリカ分散液、チタニア粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子、および金属カルコゲナイド粒子からなる材料の群より選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のガラス形成材料は形成中に溶媒に懸濁される、請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理された構造物の研削および研磨のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理された構造物はファイバ形状である、請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理された構造物はシート形状である、請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理された構造物は3次元モノリス形状である、請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理された構造物は基板上の被覆形状である、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のガラス形成インクは、分散性の向上、相安定性の向上、ネットワーク強度の向上、pHの制御、pHの変更、レオロジーの修正、乾燥中の割れの形成の減少、結晶化の抑制、および焼結の促進からなる群より選択される効果をもたらすために効果的な量の添加物を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ガラス形成材料はシリカ-酸化ゲルマニウムを含む、請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662346228P | 2016-06-06 | 2016-06-06 | |
US62/346,228 | 2016-06-06 | ||
JP2018564977A JP7418154B2 (ja) | 2016-06-06 | 2017-06-06 | 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 |
PCT/US2017/036197 WO2017214179A1 (en) | 2016-06-06 | 2017-06-06 | Glass components with custom-tailored composition profiles and methods for preparing same |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018564977A Division JP7418154B2 (ja) | 2016-06-06 | 2017-06-06 | 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022095705A JP2022095705A (ja) | 2022-06-28 |
JP7482924B2 true JP7482924B2 (ja) | 2024-05-14 |
Family
ID=60578139
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018564977A Active JP7418154B2 (ja) | 2016-06-06 | 2017-06-06 | 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 |
JP2022046986A Active JP7482924B2 (ja) | 2016-06-06 | 2022-03-23 | 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018564977A Active JP7418154B2 (ja) | 2016-06-06 | 2017-06-06 | 特注の組成プロファイルを有するガラス成分およびその調製方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3463881A4 (ja) |
JP (2) | JP7418154B2 (ja) |
KR (2) | KR102420253B1 (ja) |
CN (1) | CN109641442A (ja) |
AU (1) | AU2017277281A1 (ja) |
CA (1) | CA3026834A1 (ja) |
MX (1) | MX2018015084A (ja) |
RU (1) | RU2739535C2 (ja) |
WO (1) | WO2017214179A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10807119B2 (en) | 2013-05-17 | 2020-10-20 | Birmingham Technologies, Inc. | Electrospray pinning of nanograined depositions |
US10559864B2 (en) | 2014-02-13 | 2020-02-11 | Birmingham Technologies, Inc. | Nanofluid contact potential difference battery |
US20200024465A1 (en) | 2016-06-06 | 2020-01-23 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Engineered feedstocks for additive manufacture of glass |
US11244816B2 (en) | 2019-02-25 | 2022-02-08 | Birmingham Technologies, Inc. | Method of manufacturing and operating nano-scale energy conversion device |
US11101421B2 (en) | 2019-02-25 | 2021-08-24 | Birmingham Technologies, Inc. | Nano-scale energy conversion device |
US10950706B2 (en) | 2019-02-25 | 2021-03-16 | Birmingham Technologies, Inc. | Nano-scale energy conversion device |
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US11046578B2 (en) | 2019-05-20 | 2021-06-29 | Birmingham Technologies, Inc. | Single-nozzle apparatus for engineered nano-scale electrospray depositions |
US11124864B2 (en) | 2019-05-20 | 2021-09-21 | Birmingham Technologies, Inc. | Method of fabricating nano-structures with engineered nano-scale electrospray depositions |
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US11616186B1 (en) | 2021-06-28 | 2023-03-28 | Birmingham Technologies, Inc. | Thermal-transfer apparatus including thermionic devices, and related methods |
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-
2017
- 2017-06-06 KR KR1020217036633A patent/KR102420253B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-06 CN CN201780035183.2A patent/CN109641442A/zh active Pending
- 2017-06-06 KR KR1020197000122A patent/KR102328482B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-06 EP EP17810877.5A patent/EP3463881A4/en active Pending
- 2017-06-06 CA CA3026834A patent/CA3026834A1/en not_active Abandoned
- 2017-06-06 AU AU2017277281A patent/AU2017277281A1/en not_active Abandoned
- 2017-06-06 RU RU2018143304A patent/RU2739535C2/ru active
- 2017-06-06 JP JP2018564977A patent/JP7418154B2/ja active Active
- 2017-06-06 WO PCT/US2017/036197 patent/WO2017214179A1/en unknown
- 2017-06-06 MX MX2018015084A patent/MX2018015084A/es unknown
-
2022
- 2022-03-23 JP JP2022046986A patent/JP7482924B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013501701A (ja) | 2009-08-10 | 2013-01-17 | ベゴ・ブレーマー・ゴルトシュレーゲライ・ヴィルヘルム・ヘルプスト・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | セラミック又はガラスセラミック物品及び該物品の製造方法 |
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---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3463881A4 (en) | 2020-01-15 |
WO2017214179A1 (en) | 2017-12-14 |
RU2739535C2 (ru) | 2020-12-25 |
KR102420253B1 (ko) | 2022-07-13 |
RU2018143304A3 (ja) | 2020-07-09 |
KR20210138148A (ko) | 2021-11-18 |
RU2018143304A (ru) | 2020-07-09 |
MX2018015084A (es) | 2019-08-16 |
JP2019525878A (ja) | 2019-09-12 |
CN109641442A (zh) | 2019-04-16 |
EP3463881A1 (en) | 2019-04-10 |
JP2022095705A (ja) | 2022-06-28 |
KR20190034521A (ko) | 2019-04-02 |
JP7418154B2 (ja) | 2024-01-19 |
CA3026834A1 (en) | 2017-12-14 |
AU2017277281A1 (en) | 2018-12-20 |
KR102328482B1 (ko) | 2021-11-18 |
AU2017277281A2 (en) | 2019-01-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220414 |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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