JP7459739B2 - 固体撮像素子 - Google Patents

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Description

本発明は、固体撮像素子に関する。
従来より、可視光を受光する画素と、赤外光を受光する画素と、各画素に共通の電荷保持部と、を備えた撮像装置が、例えば特許文献1で提案されている。各画素は、受光量に応じた電荷を生成して蓄積する光電変換部の電荷を電荷保持部に転送する電荷転送部を有する。電荷保持部は、各画素から転送された電荷を保持する。
国際公開第2016/167044号
しかしながら、上記従来の技術では、電荷保持部が可視光用の画素と赤外光用の画素とで共通化されているので、可視光用の画素に電荷転送部が必要であると共に、赤外光用の画素を駆動するための電荷転送部も必要になる。したがって、電荷転送部すなわちトランジスタの数が多くなるので、電荷保持部のサイズを小さくせざるを得ず、ひいては電荷の蓄積容量も小さくなってしまう。これに伴い、外乱光が強い環境下では、可視光用の画素からのブルーミングの影響を受けて赤外光用の画素の電荷を長時間蓄積することが困難になる。
本発明は上記点に鑑み、外乱光が強い環境下でも可視光用の画素からのブルーミングの影響を受けずに赤外光用の画素の電荷を長時間蓄積することができる固体撮像素子を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、固体撮像素子は、可視光の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する可視光用の第1画素(101)、第2画素(102)、第3画素(103)、及び第4画素(104)を含む。固体撮像素子は、赤外光の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する赤外光用の第5画素(105)を含む。
また、固体撮像素子は、第1駆動回路部(110)、第2駆動回路部(111)、第3駆動回路部(112)、及び第4駆動回路部(113)を含む。
第1駆動回路部は、第1画素及び第5画素に接続されると共に、第1画素及び第5画素の両方を駆動する。第2駆動回路部は、第2画素及び第5画素に接続されると共に、第2画素及び第5画素の両方を駆動する。第3駆動回路部は、第3画素及び第5画素に接続されると共に、第3画素及び第5画素の両方を駆動する。第4駆動回路部は、第4画素及び第5画素に接続されると共に、第4画素及び第5画素の両方を駆動する。
第5画素は、第5画素で生成される電荷の一部を蓄積するための第1蓄積容量部(155)、第2蓄積容量部(156)、第3蓄積容量部(157)、及び第4蓄積容量部(158)を有する。
第1蓄積容量部は、第1駆動回路部と第5画素との間の第1経路(106)に接続される。第2蓄積容量部は、第2駆動回路部と第5画素との間の第2経路(107)に接続される。第3蓄積容量部は、第3駆動回路部と第5画素との間の第3経路(108)に接続される。第4蓄積容量部は、第4駆動回路部と第5画素との間の第4経路(109)に接続される。
これによると、第1駆動回路部は、第1画素の駆動だけでなく、第5画素を駆動するためにも共有される。このため、赤外光用の第5画素から第1蓄積容量部に電荷を蓄積する際に、可視光用の第1画素からあふれ出る電荷を第1経路の一部及び第1駆動回路部を介して排出することができる。第2画素、第3画素、及び第4画素からあふれ出る電荷も同様に排出することができる。また、第5画素は4個の蓄積容量部を有しているので、赤外光の受光量に応じた電荷を蓄積するための容量を充分に確保することができる。したがって、外乱光が強い環境下でも可視光用の第1~第4画素からのブルーミングの影響を受けずに赤外光用の第5画素の電荷を長時間蓄積することができる。
なお、この欄及び特許請求の範囲で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
第1実施形態に係る固体撮像素子の画素配置を示した図である。 固体撮像素子の回路構成を示した図である。 固体撮像素子の平面レイアウトを示した図である。 図3のIV-IV断面図である。 画素の読み出しシーケンスであり、可視蓄積と赤外光蓄積とがオーバーラップしない場合を示した図である。 第5画素の読み出し方法を示したタイムチャートである。 可視光用の画素から電荷を排出することを説明するための回路図である。 画素の読み出しシーケンスであり、可視蓄積と赤外光蓄積とがオーバーラップする場合を示した図である。 第2実施形態に係る蓄積容量部を示した断面図である。 第3実施形態に係る固体撮像素子の回路構成を示した図である。 第3実施形態に係る固体撮像素子の平面レイアウトを示した図である。 図11のXII-XII断面図である。 第4実施形態に係る固体撮像素子の回路構成を示した図である。 第4実施形態に係る固体撮像素子の平面レイアウトを示した図である。 図14のXV-XV断面図である。 第4実施形態に係る画素の読み出しシーケンスであり、可視蓄積と赤外光蓄積とがオーバーラップしない場合を示した図である。 第4実施形態に係る第5画素の読み出し方法を示したタイムチャートである。 第4実施形態に係る画素の読み出しシーケンスであり、可視蓄積と赤外光蓄積とがオーバーラップする場合を示した図である。 第4実施形態に係る画素の配列を説明するための図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
以下、第1実施形態について図を参照して説明する。本実施形態に係る固体撮像素子は、昼間あるいは夜間での撮影及び前方の距離情報を取得するための撮像装置に適用される。
図1に示されるように、固体撮像素子100は、第1画素101、第2画素102、第3画素103、第4画素104、及び第5画素105を備える。第1~第4画素101~104は、可視光の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する可視光用の画素である。第1画素101及び第4画素104は、緑(G)に対応する光を検出する。第2画素102は、青(B)に対応する光を検出する。第3画素103は、赤(R)に対応する光を検出する。第5画素105は、赤外光(IR)の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する赤外光用の画素である。
各画素101~105は、4×4の各マス目に対応する位置に配置される。第5画素105は、中央の4マスに位置する。第1画素101及び第4画素104は、第5画素105を中心とした対角にそれぞれ位置する。第2画素102及び第3画素103は、第1画素101及び第4画素104の反対の対角にそれぞれ位置する。つまり、第1~第4画素101~104は、第5画素105を囲んでいる。これにより、固体撮像素子100は、画素単位を構成する。また、複数の固体撮像素子100がマトリクス状に配置されることで画素配列部が構成される。
図示しないが、画素配列部は撮像装置の一部を構成する。撮像装置は、読み出し制御を行うための水平制御線、読み出された信号を伝送する垂直信号線、読み出し対象となる画素を垂直方向に走査する垂直走査回路、読み出し対象となる画素を水平方向に走査する水平走査回路、各回路を制御する制御回路等を備える。
図2に示されるように、固体撮像素子100は、各画素101~105の他に、第1経路106、第2経路107、第3経路108、第4経路109、第1駆動回路部110、第2駆動回路部111、第3駆動回路部112、及び第4駆動回路部113を備える。
第1経路106の一端は、第1駆動回路部110に接続される。第2経路107の一端は、第2駆動回路部111に接続される。第3経路108の一端は、第3駆動回路部112に接続される。第4経路109の一端は、第4駆動回路部113に接続される。各経路106~109の他端は、第5画素105に接続される。
第1駆動回路部110は、第1経路106を介して第1画素101及び第5画素105の両方に接続される。第1駆動回路部110は、第1画素101または第5画素105に蓄積された電荷を電圧に変換し、第1信号線114に出力する。第1駆動回路部110は、図示しない制御回路の指令に従って第1画素101及び第5画素105の両方を駆動する。
第1駆動回路部110は、電源と第1信号線114との間に直列接続された2つのトランジスタ115、116(Ts1)と、電源とトランジスタ115のゲートとの間に接続されたトランジスタ117(Tr1)と、を有する。トランジスタ115のゲートは、第1経路106の一端に接続される。
第1画素101は、緑(G)に対応する電荷を生成して蓄積する複数の光電変換部118、119、120と、読み出し用のトランジスタ121、122、123(Txg1、Txg2、Txg3)と、を有する。第1経路106とグランドとの間に、光電変換部118とトランジスタ121とが直列接続され、光電変換部119とトランジスタ122とが直列接続され、光電変換部120とトランジスタ123とが直列接続される。光電変換部は、フォトダイオードである。読み出しの際は、トランジスタ121~123がONされ、フォトダイオードである各光電変換部118、119、120から第1経路106に電荷が転送され、第1駆動回路部110が駆動されることによって、各光電変換部118~120の電荷が信号として第1信号線114に出力される。
第2駆動回路部111は、第2経路107を介して第2画素102及び第5画素105の両方に接続される。第2駆動回路部111は、第2画素102または第5画素105に蓄積された電荷を電圧に変換し、第2信号線124に出力する。第2駆動回路部111は、図示しない制御回路の指令に従って第2画素102及び第5画素105の両方を駆動する。
第2駆動回路部111は、電源と第2信号線124との間に直列接続された2つのトランジスタ125、126(Ts2)と、電源とトランジスタ125のゲートとの間に接続されたトランジスタ127(Tr2)と、を有する。トランジスタ125のゲートは、第2経路107の一端に接続される。
第2画素102は、青(B)に対応する電荷を生成して蓄積する複数の光電変換部128、129、130と、読み出し用のトランジスタ131、132、133(Txb1、Txb2、Txb3)と、を有する。第2経路107とグランドとの間に、光電変換部128とトランジスタ131とが直列接続され、光電変換部129とトランジスタ132とが直列接続され、光電変換部130とトランジスタ133とが直列接続される。各光電変換部128~130の読み出しは、第1画素101と同じである。
第3駆動回路部112は、第3経路108を介して第3画素103及び第5画素105の両方に接続される。第3駆動回路部112は、第3画素103または第5画素105に蓄積された電荷を電圧に変換し、第3信号線134に出力する。第3駆動回路部112は、図示しない制御回路の指令に従って第3画素103及び第5画素105の両方を駆動する。
第3駆動回路部112は、電源と第3信号線134との間に直列接続された2つのトランジスタ135、136(Ts3)と、電源とトランジスタ135のゲートとの間に接続されたトランジスタ137(Tr3)と、を有する。トランジスタ135のゲートは、第3経路108の一端に接続される。
第3画素103は、赤(R)に対応する電荷を生成して蓄積する複数の光電変換部138、139、140と、読み出し用のトランジスタ141、142、143(Txr1、Txr2、Txr3)と、を有する。第3経路108とグランドとの間に、光電変換部138とトランジスタ141とが直列接続され、光電変換部139とトランジスタ142とが直列接続され、光電変換部140とトランジスタ143とが直列接続される。各光電変換部138~140の読み出しは、第1画素101と同じである。
第4駆動回路部113は、第4経路109を介して第4画素104及び第5画素105の両方に接続される。第4駆動回路部113は、第4画素104または第5画素105に蓄積された電荷を電圧に変換し、第4信号線144に出力する。第4駆動回路部113は、図示しない制御回路の指令に従って第4画素104及び第5画素105の両方を駆動する。
第4駆動回路部113は、電源と第4信号線144との間に直列接続された2つのトランジスタ145、146(Ts4)と、電源とトランジスタ145のゲートとの間に接続されたトランジスタ147(Tr4)と、を有する。トランジスタ145のゲートは、第4経路109の一端に接続される。
第4画素104は、緑(G)に対応する電荷を生成して蓄積する複数の光電変換部148、149、150と、読み出し用のトランジスタ151、152、153(Txg4、Txg5、Txg6)と、を有する。第4経路109とグランドとの間に、光電変換部148とトランジスタ151とが直列接続され、光電変換部149とトランジスタ152とが直列接続され、光電変換部150とトランジスタ153とが直列接続される。各光電変換部148~150の読み出しは、第1画素101と同じである。
第5画素105は、各経路106~109の他端とグランドとの間に接続された光電変換部154を有する。第5画素105は、第1蓄積容量部155、第2蓄積容量部156、第3蓄積容量部157、及び第4蓄積容量部158を有する。各蓄積容量部155~158は、第5画素105で生成される電荷の一部を蓄積するための第5画素105に専用の電荷保持部である。
第1蓄積容量部155は、第1駆動回路部110と第5画素105との間の第1経路106に接続される。第1蓄積容量部155は、第1経路106上に配置された2つのトランジスタ159、160(Txi1、Txi5)と、各トランジスタ159、160の間とグランドとの間に接続された蓄積容量161と、を有する。蓄積容量161はコンデンサとして構成される。トランジスタ159がOFF、トランジスタ160がONの場合、第5画素105の電荷が蓄積容量161に転送される。トランジスタ159がON、トランジスタ160がOFFの場合、電荷が蓄積容量161から第1経路106に転送され、第1駆動回路部110の動作によって、蓄積容量161の電荷が電圧に変換され、第1信号線114に出力される。
第2蓄積容量部156は、第2駆動回路部111と第5画素105との間の第2経路107に接続される。第2蓄積容量部156は、第2経路107上に配置された2つのトランジスタ162、163(Txi2、Txi6)と、各トランジスタ162、163の間とグランドとの間に接続された蓄積容量164と、を有する。蓄積容量164に対する電荷の入出力は第1蓄積容量部155と同じである。
第3蓄積容量部157は、第3駆動回路部112と第5画素105との間の第3経路108に接続さる。第3蓄積容量部157は、第3経路108上に配置された2つのトランジスタ165、166(Txi3、Txi7)と、各トランジスタ165、166の間とグランドとの間に接続された蓄積容量167と、を有する。蓄積容量167に対する電荷の入出力は第1蓄積容量部155と同じである。
第4蓄積容量部158は、第4駆動回路部113と第5画素105との間の第4経路109に接続される。第4蓄積容量部158は、第4経路109上に配置された2つのトランジスタ168、169(Txi4、Txi8)と、各トランジスタ168、169の間とグランドとの間に接続された蓄積容量170と、を有する。蓄積容量170に対する電荷の入出力は第1蓄積容量部155と同じである。
図3及び図4に示されるように、固体撮像素子100は、半導体製造プロセスによって半導体基板200に形成される。半導体基板200は、例えばp-型のSi基板である。半導体基板200は、光が入射する入射面201と、入射面201とは反対側の他面202と、を有する。入射面201の上には酸化膜203が形成され、他面202の上には酸化膜204が形成されている。各酸化膜203、204は、例えばSiOである。なお、図3は、半導体基板200の他面202の側を見ている。
図4に示されるように、第1画素101の各光電変換部118~120は、n-型の領域205として形成されている。各第4画素104の光電変換部148~150は、n-型の領域206として形成されている。図4に示されていない第2画素102の各光電変換部128~130、及び、第3画素103の各光電変換部138~140も同じである。各領域205、206の上には、p+型の領域207、208が形成されている。
第5画素105の光電変換部154は、n-型の領域209として形成されている。領域207のうちの他面202の側には2つのウェル210、211が形成されている。各ウェル210、211の表層部には、n+型の領域212、213(MEM)がそれぞれ形成されている。領域212が蓄積容量161であり、領域213が蓄積容量170である。図4に示されていない蓄積容量164、167も同様に形成されている。
すなわち、各蓄積容量部155~158と第5画素105の光電変換部154とは、入射面201に垂直な垂直方向に積層されて半導体基板200の形成されている。各蓄積容量部155~158が半導体基板200のうちの他面202の側に位置し、第5画素105の光電変換部154が半導体基板200のうちの入射面201の側に位置する。これにより、各蓄積容量部155~158が入射面201の面方向に配置されずに済むので、高い開口率と、蓄積容量161、164、167、170と、を両立することができる。なお、第5画素105は透過光の波長幅が狭く、半導体基板200の吸収効率が低いため、積層化によって発生する寄生光の影響は少ない。
また、各ウェル210、211の表層部には、n+型の領域214、215及びp+型の領域216が形成されている。酸化膜204の上には、第1画素101のトランジスタ121、第1蓄積容量部155のトランジスタ159、160、第4蓄積容量部158のトランジスタ168、169、及び第4画素104のトランジスタ153の各ゲート電極217、218、219、220、221、222が形成されている。他のトランジスタも同様に構成される。図3に示されるように、各ゲート電極217~222は配線部223にそれぞれ接続される。他のゲート電極も同様に配線部223に接続される。
図4に示されるように、酸化膜203の上にはカラーフィルタ224が配置される。カラーフィルタ224のうち第5画素105に対応する領域には、940nmで半値幅が10nmのバンドパスフィルタ等が用いられる。カラーフィルタ224の上にはマイクロレンズ225が配置される。以上が、固体撮像素子100の構成である。
次に、固体撮像素子100の作動について説明する。固体撮像素子100は、撮像装置の制御回路に従って動作する。例えば、図5に示されるように、赤外光用の第5画素105はグローバルシャッタ動作で動かし、可視光用の各画素101~104はローリングシャッタ動作で動かす。
グローバルシャッタ動作では、画素配列部の一行分の第5画素105を全て同じタイミングで駆動する。具体的には、図6に示されるように、時点T10から時点T13まで各駆動回路部110~113の各トランジスタ117、127、137、147(Tr1~Tr4)をONする。これにより、第1~第4画素101~104の電荷を排出する。また、時点T11から時点T12まで、各蓄積容量部155~158の各トランジスタ159、160、162、163、165、166、168、169(Txi1~Txi8)をONする。これにより、第5画素105及び各蓄積容量161、164、167、170の電荷を排出する。こうして各画素101~105をリセットする。
続いて、時点T14では、図示しないが、撮像装置に含まれる光源からパルス光を発光させる。パルス光は、前方の距離を計測するための光である。パルス光の発光タイミングに対する露光タイミングを変更することで、前方の撮影距離を調整することができる。
時点T15では第1蓄積容量部155のトランジスタ160をONし、第5画素105の電荷を蓄積容量161に転送する。一定時間後、トランジスタ160をOFFする。
時点T16、時点T17、時点T18では、上記と同様に、第2蓄積容量部156の蓄積容量164、第3蓄積容量部157の蓄積容量167、第4蓄積容量部158の蓄積容量170に第5画素105の電荷を順に転送する。この後、時点T19から時点T20まで、各第5画素105の電荷の蓄積を行う。
時点T21から時点T24までは、各蓄積容量161、164、167、170にそれぞれ電荷転送された信号を画素配列部の各行毎に順次読み出していく動作になる。
時点T21では、各駆動回路部110~113の各トランジスタ116、126、136、146(Ts1~Ts4)をONして各駆動回路部110~113と各信号線114、124、134、144とを接続する。また、時点T22では、各駆動回路部110~113の各トランジスタ117、127、137、147(Tr1~Tr4)をONし、各経路106~109を電源電圧でリセットする。各トランジスタ117、127、137、147(Tr1~Tr4)をOFFした後、各経路106~109における信号電荷転送前の電圧を周辺回路にて読み出す。
時点T23では、各蓄積容量部155~158の各トランジスタ159、162、165、168(Txi1~Txi4)をONする。これにより、各蓄積容量部155~158に蓄積された電荷が各経路106~109に転送され、各駆動回路部110~113を介して電圧に変換された後、各信号線114、124、134、144に読み出される。赤外光の電荷の読み出し後、時点T24では、各駆動回路部110~113の各トランジスタ116、126、136、146(Ts1~Ts4)をOFFする。こうして、一行分の第5画素105の動作が終了する。
続いて、図5に示されるように、可視光用の各画素101~104については、画素配列部の上の行から順番に露光を行って電荷を蓄積するローリングシャッタ動作を行う。また、画素配列部の上の行の各画素101~104から順番に電荷の読み出しを行う。すなわち、第1画素101のトランジスタ121~123(Txg1~Txg3)をONすると共に、第1駆動回路部110のトランジスタ116(Trs1)をONする。これにより、第1画素101の電荷を電圧に変換し第1信号線114に出力する。第2~第4画素102~104も同様である。
上記のようにして、撮像装置はグローバルシャッタ動作とローリングシャッタ動作とを繰り返す。
以上説明したように、本実施形態では、各駆動回路部110~113は、可視光用の各画素101~104の駆動だけでなく、赤外光用の第5画素105を駆動するためにも共有される。このため、赤外光用の第5画素105から各蓄積容量部155~158に電荷を蓄積する際に、図7に示されるように、可視光用の各画素101~104からあふれ出る電荷を各経路106~109の一部及び各駆動回路部110~113を介して排出することができる。
また、各駆動回路部110~113が共有化されることでゲートも共有化されるので、半導体基板200に占めるゲートも少なく済む。よって、半導体基板200における開口率を高くすることができる。
さらに、赤外光用の第5画素105は4個の蓄積容量部155~158を有しているので、赤外光の受光量に応じた電荷を蓄積するための容量を充分に確保することができる。すなわち、第5画素105は大きな蓄積容量を用いた長時間の蓄積時間を確保することができる。一方、可視光用の各画素101~104については、第1経路106~第4経路109の小さい蓄積容量を用いた高い変換ゲインを確保することができる。
よって、外乱光が強い環境下でも可視光用の第1~第4画素101~104からのブルーミングの影響を受けずに赤外光用の第5画素105の電荷を長時間蓄積することができる。
変形例として、夜間等では、図8に示されるように、可視光の電荷の蓄積のタイミングと赤外光の電荷の蓄積のタイミングとをオーバーラップさせても良い。
(第2実施形態)
本実施形態では、主に第1実施形態と異なる部分について説明する。本実施形態では、図9に示されるように、各ウェル210、211の表層部には、n-型の領域226、227(MEM)がそれぞれ形成されている。領域226が蓄積容量161であり、領域227が蓄積容量170である。そして、各領域226、227は、p+型の領域228、229によって終端されている。図9に示されていない蓄積容量164、167も同様に形成されている。すなわち、各蓄積容量161、164、167、170は、埋め込みフォトダイオードとして半導体基板200に形成されている。
上記の構成によると、各蓄積容量161、164、167、170は、読み出し電圧が掛かっても表面で発生した暗電流が読み出されないので、暗電流の削減することができる。また、暗電流が読み出されないので、暗電流による固定パターンノイズを減少させることができる。これに伴い、距離測定の誤差を減少させることができる。
(第3実施形態)
本実施形態では、主に第1、第2実施形態と異なる部分について説明する。図10に示されるように、第5画素105の光電変換部154から各蓄積容量161、164、167、170への電荷転送は、トランジスタ160、163、166、169(Txi5~Txi8)ではなく、第1~第4変調部171~174によって行われる。
このため、図11及び図12に示されるように、半導体基板200において、各ウェル210、211の間の表層部にp+型の領域230、231が離間して形成されている。領域230が第1変調部171に対応し、領域231が第4変調部174に対応する。図12に示されていない第2変調部172及び第3変調部173も同様に形成されている。
上記の構成によると、各変調部171~174に与える電位を変化させることによって空乏層の幅を制御することができる。すなわち、拡散層電位を用いた空乏層変調によって電荷転送を実現することができる。また、トランジスタ160、163、166、169(Txi5~Txi8)のゲートが不要になるので、半導体基板200における開口率を高くすることができる。
(第4実施形態)
本実施形態では、主に上記各実施形態と異なる部分について説明する。図13に示されるように、第5画素105は、電荷排出部175を有する。電荷排出部175は、第5画素105に蓄積された余分な電荷を排出するものであり、光電変換部154のアノードに接続される。電荷排出部175は、第5画素105に専用のものであり、いわゆるOFD(Over Flow Drain)である。
具体的には、図14及び図15に示されるように、半導体基板200において、各ウェル210、211の間の表層部にトランジスタ160、169(Txi5、Txi8)用のp+型の領域232、233が離間して形成され、各領域232、233の間にn+型の領域234が形成されている。領域234が電荷排出部175に対応する。電荷排出部175が使用されないときは、領域234は高電位に接続される。
次に、電荷排出部175を有する固体撮像素子100の作動について説明する。図16に示されるように、グローバルシャッタ動作によって赤外光の電荷の蓄積が完了した後、電荷排出部175によって第5画素105の光電変換部154に蓄積された電荷を排出する。
電荷排出部175は、図17に示されるように動作する。まず、時点T30から時点T34までは、上述の時点T10から時点T14までと同じである。また、電荷排出部175をONし、光電変換部154の電荷を排出する。
続いて、時点T35では、電荷排出部175をOFFする。この後、赤外線に対応する電荷を蓄積するためである。時点T36から時点T39までは、上述の時点T15から時点T18までと同じである。
時点T40から時点T41までの間、電荷排出部175をONし、光電変換部154の電荷を排出する。これにより、第1蓄積容量部155の電荷と第4蓄積容量部158の電荷との混ざりを回避することができる。時点T42から時点T43までは、上述の時点T19から時点T20までと同じである。
時点T44以降、電荷排出部175をONし、光電変換部154の電荷を排出する。時点T45から時点T48までは、上述の時点T21から時点T24までと同じである。こうして、一行分の第5画素105の動作が終了する。なお、可視光用の各画素101~104は上述のローリングシャッタ動作を行う。
また、夜間等では、図18に示されるように、可視光の電荷の蓄積のタイミングと赤外光の電荷の蓄積のタイミングとをオーバーラップさせる場合にも、光電変換部154の電荷を排出することができる。
以上の構成によると、電荷排出部175によって、赤外光用の第5画素105に蓄積される環境光に基づく不要な電荷を排出することができる。また、各蓄積容量161、164、167、170で発生する暗電流起因の固定パターンノイズを削減することができる。
(第5実施形態)
本実施形態では、主に上記各実施形態と異なる部分について説明する。図19に示されるように、Quad-bayerの配列構造の中央を2の大きさの赤外光用の画素に置換する。すなわち、第5画素105の位置におけるRGBの色を周囲の同色画素信号から予測できるように補完する。そして、RGBをそれぞれ配列シフトし、Bayer変換する。
以上の信号復元方法によると、近傍の同色画素信号から赤外光用の第5画素105の部分の欠損信号を補完できるので、固体撮像素子100に第5画素105を含めたことによる可視光用の各画素101~104の解像度の低下を抑制することができる。
(他の実施形態)
上記各実施形態で示された固体撮像素子100の構成は一例であり、上記で示した構成に限定されることなく、本発明を実現できる他の構成とすることもできる。
101~105 画素
110~113 駆動回路部
155~158 蓄積容量部
106~109 経路

Claims (4)

  1. 可視光の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する可視光用の第1画素(101)、第2画素(102)、第3画素(103)、及び第4画素(104)と、
    赤外光の受光量に応じた電荷を生成して蓄積する赤外光用の第5画素(105)と、
    前記第1画素及び前記第5画素に接続されると共に、前記第1画素及び前記第5画素の両方を駆動する第1駆動回路部(110)と、
    前記第2画素及び前記第5画素に接続されると共に、前記第2画素及び前記第5画素の両方を駆動する第2駆動回路部(111)と、
    前記第3画素及び前記第5画素に接続されると共に、前記第3画素及び前記第5画素の両方を駆動する第3駆動回路部(112)と、
    前記第4画素及び前記第5画素に接続されると共に、前記第4画素及び前記第5画素の両方を駆動する第4駆動回路部(113)と、
    を含み、
    前記第5画素は、前記第5画素で生成される電荷の一部を蓄積するための第1蓄積容量部(155)、第2蓄積容量部(156)、第3蓄積容量部(157)、及び第4蓄積容量部(158)を有し、
    前記第1蓄積容量部は、前記第1駆動回路部と前記第5画素との間の第1経路(106)に接続され、
    前記第2蓄積容量部は、前記第2駆動回路部と前記第5画素との間の第2経路(107)に接続され、
    前記第3蓄積容量部は、前記第3駆動回路部と前記第5画素との間の第3経路(108)に接続され、
    前記第4蓄積容量部は、前記第4駆動回路部と前記第5画素との間の第4経路(109)に接続される、固体撮像素子。
  2. 前記各画素及び前記各蓄積容量部は、光の入射面(201)を有する半導体基板(200)に形成され、
    前記第5画素は、前記赤外光の受光量に応じた電荷を生成する光電変換部(154)を有し、
    前記各蓄積容量部と前記光電変換部とは、前記入射面に垂直な垂直方向に積層されて前記半導体基板の形成されている、請求項1に記載の固体撮像素子。
  3. 前記各画素及び前記各蓄積容量部は、光の入射面(201)を有する半導体基板(200)に形成され、
    前記各蓄積容量部は、前記第5画素で生成される電荷の一部を蓄積する蓄積容量(161、164、167、170)をそれぞれ有し、
    前記蓄積容量は、埋め込みフォトダイオードとして前記半導体基板に形成されている、請求項1または2に記載の固体撮像素子。
  4. 前記第5画素は、前記第5画素に専用のものであって、前記第5画素に蓄積された電荷を排出するための電荷排出部(175)を有する、請求項1ないし3のいずれか1つに記載の固体撮像素子。
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