JP7459115B2 - 波面センサ及び関連するメトロロジ装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2019年1月25日に出願された欧州特許第19153671.3号の優先権を主張するものであり、この特許は、参照によりその全体を本明細書に援用される。
[0053] 図5は、従来のハルトマンタイプの波面センサの動作原理を示している。開口アレイ502は、放射ビームの通路に配置され、イメージセンサ504は、例えば、CCD又はCMOSイメージセンサである。開口アレイ502は、例えば、開口506が、次元X、Yで規定される平面内で規則的なアレイの形で離間した金属プレートを含む。波面センサに垂直にZ方向に接近した放射は、開口アレイを通り抜け、そのため、同様にX-Y平面に配置されたイメージセンサ504上にスポット508のアレイを形成する。放射ビームが完全に同位相の平行光線のみを含み、Z軸に完全に合致するように、放射ビームが理想的な平面状の波面を有する場合に、各スポットは、対応する開口506の真後ろに形成される。他方で、実際のビームは、図面に示す凸形波面510などの何らかの傾斜及び/又は湾曲形態を有する。この場合に、波面は、開口アレイ内の各位置において特定の態様で傾斜し、対応するスポット508は、その傾斜に応じた位置ずれを伴ってイメージセンサ504上に形成される。相対位置ずれは、スポットの絶対「ゼロ偏位」位置が未知の場合でさえ、観察及び測定することができる。
フィルムベースの波面メトロロジデバイス
上記の課題を考慮して、HHG源によって生成されたものなどの、EUV放射(例えば、0.01~100nm、0.1~100nm、1~100nm、1~50nm、5~30nm、1~20nm又は10~20nmの波長)の波面を測定する課題の多くに対処する、フィルムベースの波面メトロロジデバイス又は波面センサが提案される。フィルムベースの波面センサの任意選択の実施形態はまた、(例えば、広帯域HHG源からの)広帯域EUV放射の異なる波長を別々に測定するのに十分なスペクトル分解能を提供する。提案されるフィルムベースの波面センサは、凹部アレイを含む、適切な材料の凹部付きフィルムを使用して、上記放射を検出面(例えば、検出器)又はその周辺に集束させる。検出面の周辺では、例えば、検出面から1cm以内又は1mm以内を含むことができる。
低分散、
できるだけ小さい屈折率(<1)、及び、
(少なくとも広帯域用途では)低吸収性である。
[0079] ここで、多数の適用例について説明する。このセクションでは、放射源に関係するパラメータの監視及び/又は調整について詳細に説明する。しかし、これらは単なる例であり、提案されるフィルムベースの波面センサには他にも多くの可能な用途がある。他の用途は、例えば、照明光学系のアライメント及び/又は監視に関係し、本明細書における概念は、そのような用途での波長センサの出力の使用に等しく適用される。
1)ポンピング光の方向と、
2)ポンピング光焦点の位置決めと、
3)ポンピング光の波面(例えば、空間光変調器440を修正する、又は再プログラミングすることによる)と、
4)ガス流設定、ノズル形状、及び他のガスジェットパラメータと、
5)ガスジェットノズル劣化と、
6)ガス組成及び純度と、
がある。
・駆動レーザ軸に沿った駆動レーザ集束レンズ及び/又はガスジェットの位置の移動は、発散度、空間コヒーレンス特性、及び/又は高調波のスペクトル幅の変化に応じて制御することができる。
・駆動レーザ集束レンズの横移動、又は入射駆動レーザビーム方向の角度は、波面傾斜によって示されるHHビームの方向の変化に応じて制御することができる。
・HHG相互作用領域のガス圧は、HHGビームの観測した強度及びスペクトル成分から導出された位相整合特性の変化に応じて制御することができる。
・駆動レーザ強度、例えば、ピーク強度は、HHG放射強度、及び、任意選択でスペクトル成分の変化に応じて制御することができる。
・駆動レーザビームの空間形状は、HHG放射ビームの発散度及び空間特性と、任意選択で強度との変化に応じて、(調整可能な開口か、又は空間光変調器440かのいずれかを通じて)変えることができる。
・レーザパルス形状及びパルス長は、HHG放射強度及びスペクトル成分の変化に応じて、レーザ増幅システムのパルスコンプレッサを変化させることによってか、ビームを発散させることによってか、又は空間光変調器440などのパルス成形デバイスによって変えることができる。
S21:ウェハを処理して基板上に構造を形成する。
S22:基板全体にわたってCD及び/又は他のパラメータを測定する。
S23:メトロロジレシピを更新する。
S24:リソグラフィ及び/又はプロセスレシピを更新する。
[0093] EUV/SXR波長領域において小型レンズアレイとして機能する波面センサの修正形態が上記に開示された。波面センサは、高い透過率を提供し、それゆえ、高い精度で短い取得時間を提供する。波面センサは、波面次数の高い空間分解能を有し、また(任意選択で)スペクトル分解測定を提供する。提案される波面センサはまた、コンパクトな設計を有する。
1.放射ビームに交差する位置アレイでの波面の傾斜を測定する波面センサであって、上記波面センサは、上記位置アレイの各々に凹部を含む凹部アレイを有するフィルムを含み、上記凹部アレイの各凹部は、上記放射の集束を実施するように動作可能である、波面センサ。
2.上記凹部アレイは、上記フィルムの
表面平面、
インターフェイス平面、
一側面、及び、
両側面、
の少なくとも1つに配置される、条項1に記載の波面センサ。
3.上記フィルムは、上記波面を実質的に透過させるように動作可能である透過フィルムである、条項1又は2に記載の波面センサ。
4.上記フィルムは、任意選択で1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して、1未満の屈折率の実部を有する、条項1~3の何れか一項に記載の波面センサ。
5.上記屈折率の上記実部は、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.99未満である、条項4に記載の波面センサ。
6.上記屈折率の上記実部は、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.97未満である、条項4に記載の波面センサ。
7.上記屈折率の上記実部は、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.96未満である、条項4に記載の波面センサ。
8.上記フィルムは、1~50nmの範囲の波長に対して最小消光係数を有し、任意選択で、上記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.2未満の消光係数を有する、条項1~7の何れか一項に記載の波面センサ。
9.上記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.1未満の消光係数を有する、条項8に記載の波面センサ。
10.上記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.05未満の消光係数を有する、条項8に記載の波面センサ。
11.上記フィルムは低分散を有する、条項1~10の何れか一項に記載の波面センサ。
12.上記フィルムは、1~50nm、任意選択で1~20nm、任意選択で10~20nmの放射範囲の少なくとも一部に対して、2よりも小さい、任意選択で1.5よりも小さい分散を有する、条項11に記載の波面センサ。
13.上記フィルムは、MgO、Co、Ni、Cu、Zr、Zn、Ga、Ge、As、Cd、In、Pb、Bi、C、Y及びScの少なくとも1つを含む、条項1~12の何れか一項に記載の波面センサ。
14.上記フィルムはジルコニウムで構成される、条項1~13の何れか一項に記載の波面センサ。
15.上記凹部の各々は凹状である、条項1~14の何れか一項に記載の波面センサ。
16.上記凹部の各々は部分球状である、条項1~15の何れか一項に記載の波面センサ。
17.上記フィルムは1μm未満の厚さを有する、条項1~16の何れか一項に記載の波面センサ。
18.上記フィルムは100nmの厚さを有する、条項1~17の何れか一項に記載の波面センサ。
19.上記フィルムは100nm未満の厚さを有する、条項1~18の何れか一項に記載の波面センサ。
20.各凹部の直径は100μmよりも大きい、条項1~19の何れか一項に記載の波面センサ。
21.各凹部の直径は300μmよりも大きい、条項1~20の何れか一項に記載の波面センサ。
22.各凹部の直径は500μmよりも大きい、条項1~21の何れか一項に記載の波面センサ。
23.各凹部の上記直径は、凹部間の間隔と実質的に等しい、条項1~22の何れか一項に記載の波面センサ。
24.上記凹部アレイの各凹部は、上記放射を検出面又は検出面の周辺に集束させるように動作可能である、条項1~23の何れか一項に記載の波面センサ。
25.上記検出面に位置する検出器をさらに含む、条項20に記載の波面センサ。
26.上記フィルムは、1つ又は複数の層を含む基板又は被覆を含む、条項1~25の何れか一項に記載の波面センサ。
27.上記1つ又は複数の層の少なくとも1つは、上記フィルムの機械的安定性のために最適化された材料を含む、条項22に記載の波面センサ。
28.上記フィルムの機械的安定性のために最適化された上記材料は、窒化ケイ素を含む、条項23に記載の波面センサ。
29.上記1つ又は複数の層の少なくとも1つは、特定のスペクトル帯域を遮断するように最適化された材料を含む、条項22~24の何れか一項に記載の波面センサ。
30.特定のスペクトル帯域を遮断するように最適化された上記材料は、アルミニウムを含む、条項25に記載の波面センサ。
31.上記基板又は被覆は、色収差を補正するように最適化される、条項22~26の何れか一項に記載の波面センサ。
32.色収差を補正するように最適化された上記基板又は被覆は、上記フィルムと異なる屈折率と、上記フィルムの上記凹部アレイに対応する補償凹部アレイとを含む、条項27に記載の波面センサ。
33.上記凹部アレイの上記凹部の各々は、上記放射ビームのスペクトル成分を異なる方向に向けるための分散要素を設けられる、条項1~32の何れか一項に記載の波面センサ。
34.上記分散要素は回折格子である、条項29に記載の波面センサ。
35.上記波面センサは、上記スペクトル成分の正及び負の回折次数の検出に基づいて、上記アレイ内の各位置での各スペクトル成分に対する波面傾斜を計算するように動作可能である、条項29又は30に記載の波面センサ。
36.放射ビームを発生させるように動作可能な放射源装置であって、
上記発生した放射ビームに交差する位置アレイでの波面の傾斜を少なくとも断続的に測定する、条項1~35の何れか一項に記載の波面センサと、
上記測定した波面傾斜に少なくとも部分的に基づいて、上記放射源装置の動作状態を求めるプロセッサと
をさらに含む、放射源装置。
37.上記プロセッサは、上記放射源装置の動作状態を求めるために、上記測定した波面傾斜を使用するように構成される、条項32に記載の放射源装置。
38.上記発生した放射ビームは、23nmよりも短い波長を含む、条項32又は33に記載の放射源装置。
39.上記プロセッサによって求められた上記動作状態に少なくとも部分的に応じて、上記放射源装置の少なくとも1つの動作パラメータ及び/又は上記照明光学系の少なくとも1つのアライメントパラメータを自動で調整するコントローラをさらに含む、条項32、33又は34の何れか一項に記載の放射源装置。
40.第1の放射と媒体との間の相互作用を引き起こし、それにより、高調波発生によって上記放射ビームを発生させるように構成される、条項35に記載の放射源装置。
41.媒体はガス状媒体である、条項36に記載の放射源装置。
42.調整される動作パラメータは、パルス強度又は持続時間ビーム幅、軸方向焦点位置、横方向焦点位置、或いは波面などの、第1の放射の放射源及び/又はビーム送出システムの動作パラメータである、条項36又は37に記載の放射源装置。
43.調整される動作パラメータは媒体のパラメータである、条項37又は38に記載の放射源装置。
44.媒体はガスジェットであり、調整される動作パラメータは、ガス送出システムの動作パラメータである、条項39に記載の放射源装置。
45.上記プロセッサは、求めた動作状態に少なくとも部分的に基づいて、診断情報を出力するように動作可能である、条項1~44のいずれか一項に記載の放射源装置。
46.媒体はガスジェットであり、診断情報は、放射源装置の一部の摩耗状態に関する、条項41に記載の放射源装置。
47.検査放射をターゲット構造に送出する照明系と、ターゲット構造と相互作用した後の上記検査放射を検出する検出系とを含む検査装置であって、照明系は、条項32~43のいずれか一項に記載の放射源装置を含み、発生した放射ビームは、上記検査放射として使用される、検査装置。
48.検査放射は、23nm未満の波長を含む、条項43に記載の検査装置。
49.検出した検査放射に基づいて、ターゲット構造の特性を求めるための処理装置をさらに含む、条項44に記載の検査装置。
50.上記処理装置は、ターゲット構造の求めた特性に少なくとも部分的に基づいて、リソグラフィプロセスの第1の性能パラメータを計算するようにさらに構成される、条項46に記載の検査装置。
51.上記処理装置は、波面センサの出力にさらに基づいて、ターゲット構造の上記特性及び/又は上記第1の性能パラメータを求めるように構成される、条項46又は43に記載の検査装置。
52.上記波面センサは、検査放射の一部分を連続して受け入れ、一方、検査放射の別の部分は、ターゲット構造と相互作用する、条項43~47のいずれか一項に記載の検査装置。
53.上記波面センサは、検査放射がターゲット構造と相互作用する間以外の時間に、検査放射の少なくとも一部分を断続的に受け入れるように構成される、条項43~47のいずれか一項に記載の検査装置。
54.上記波面センサは、上記照明系の合焦要素よりも下流の上記検査放射の少なくとも一部分を受け入れるように構成される、条項43~49のいずれか一項に記載の検査装置。
Claims (14)
- ビームの放射に交差する位置アレイでの波面の傾斜を測定する波面センサであって、
前記位置アレイの各々に凹部を含む凹部アレイを有するフィルムを含み、
前記凹部アレイの各凹部は、前記放射の集束を実施するように動作可能であり、
前記フィルムは、ジルコニウム(Zr)を含む、波面センサ。 - 前記凹部アレイは、前記フィルムの表面平面、インターフェイス平面、一側面、及び、両側面、の少なくとも1つに配置される、請求項1に記載の波面センサ。
- 前記フィルムは、前記波面を実質的に透過させるように動作可能である透過フィルムである、請求項1又は2に記載の波面センサ。
- 前記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して1未満の屈折率の実部を有する、請求項1~3の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して0.2未満の消光係数を有する、請求項1~4の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記フィルムは、1~50nmの放射範囲の少なくとも一部に対して、2よりも小さい分散を有する、請求項1~5の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記凹部の各々は、凹状又は部分球状である、請求項1~6の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記フィルムは、1μm未満の厚さを有する、請求項1~7の何れか一項に記載の波面センサ。
- 各凹部の直径は、100μmよりも大きい、請求項1~8の何れか一項に記載の波面センサ。
- 各凹部の直径は、凹部間の間隔と実質的に等しい、請求項1~9の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記凹部アレイの各凹部は、前記放射を検出面又は検出面の周辺に集束させるように動作可能である、請求項1~10の何れか一項に記載の波面センサ。
- 前記凹部アレイの前記凹部の各々は、前記放射ビームのスペクトル成分を異なる方向に向けるための分散要素を設けられる、請求項1~11の何れか一項に記載の波面センサ。
- ビームの放射を発生させるように動作可能な放射源装置であって、
発生した前記ビームの放射に交差する位置アレイでの波面の傾斜を少なくとも断続的に測定する、請求項1~12の何れか一項に記載の波面センサと、
前記測定した波面傾斜に少なくとも部分的に基づいて、前記放射源装置の動作状態を求めるプロセッサと、
をさらに含む、放射源装置。 - 検査放射をターゲット構造に送出する照明系と、前記ターゲット構造と相互作用した後の前記検査放射を検出する検出系と、を含む検査装置であって、
前記照明系は、請求項13に記載の放射源装置を含み、
発生した前記ビームの放射は、前記検査放射として使用される、検査装置。
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