JP7452335B2 - Fe基ナノ結晶合金磁心の製造方法 - Google Patents
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Description
Fe基ナノ結晶合金の代表的な組成として、Feを主成分とするFe-Si-B-Cu-Nb系のアモルファスナノ結晶の磁性材料が知られている(特許文献1)。このような磁性材を用いたコイルやコアは、一般的に、ナノ結晶化可能なFe基非晶質合金のリボンを巻回して円柱状の磁心を形成し、熱処理することにより得られる。
透磁率をより高める方法としては、熱処理中に磁心に磁場を印加して結晶磁気異方性を調整する技術も知られている(特許文献2)。また、さらに高い透磁率を達成すべく、磁心に磁場印加を行う最適なタイミングについて検討が行われている(特許文献3~9)。
Fe基合金のリボンが巻回された磁心を準備する磁心準備工程と前記磁心の熱処理工程とを含み、前記熱処理工程が、
前記Fe基合金の結晶化開始温度未満の一定温度を保持しながら、前記磁心に対し、前記磁心の高さ方向の磁場を印加する磁場印加工程と、
前記Fe基合金の結晶化開始温度以上の温度でナノ結晶化を行うナノ結晶化工程と、
をこの順に含み、
前記磁場印加工程における磁場印加終了時の結晶化度が、8%以上40%以下である、Fe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。
[2]
前記熱処理工程が、前記磁場印加工程の前に、前記磁場印加工程における熱処理温度未満の一定温度を保持する保温工程をさらに含み、
前記保温工程における前記一定温度が、前記Fe基合金の結晶化開始温度より65℃低い温度以上、前記Fe基合金の結晶化開始温度より45℃低い温度以下である、[1]に記載のFe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。
[3]
前記磁心準備工程で準備する前記磁心は、前記Fe基合金のリボンの表面に厚さ4nm以上の酸化被膜を有する、[1]又は[2]に記載のFe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。
本明細書において、低周波領域の透磁率は、周波数10kHzにおける透磁率に基づい
て評価することができる。また、高周波領域の透磁率は、100kHz以上の周波数における透磁率に基づいて評価することができ、好ましい一例では1MHzにおける周波数に基づいて評価することができる。
μr=μ/μ0 (1)
μr:比透磁率
μ0:真空の透磁率=4π×10-7[H/m]
μ:透磁率[H/m]=Ll/A/N2
L:インダクタンス[H]
l:磁路長[m]
A:コア有効断面積[m2]
N:巻き数
本工程で準備する磁心は、Fe基合金リボンが巻回されたものである。Fe基合金リボンを構成するFe基合金は、熱処理によりナノ結晶化可能なFe基合金であれば特に制限されず、例えばファインメット(登録商標)等のFe-Si-B-Cu-Nb系合金が挙げられる。Fe-Si-B-Cu-Nb系合金の具体的な組成としては、下記一般式(I)で表される組成が好ましく例示される。この組成は、Cr、Mn等の不可避的不純物を含んでいてもよい。
一般式(I)中a~dは、それぞれ、原子%で、8.3≦a≦8.8、1.3≦b≦1.6、1.1≦c≦1.3及び5.3≦d≦5.7を表し、かつ、15≦a+b+c+d≦20を満たす。
超急冷法によるFe基合金リボンの作製は、大気等の酸化性雰囲気下で行ってもよく、アルゴン、ヘリウム、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、真空条件下で行ってもよい。
なお、得られるFe基合金リボンは、非晶質相からなり、結晶相を含まないことが好ましいが、一部に結晶相を含んでいてもよい。
ンが巻回された磁心を「未酸化の磁心」と称することがある。酸化被膜付き磁心の熱処理により、高周波領域でより高い透磁率を示すFe基ナノ結晶合金磁心を得ることができる。
なお、本明細書において、特段明記しない限り、磁心準備工程で準備される磁心には、未酸化の磁心及び酸化被膜付き磁心の双方を含むものとする。
加熱温度は、酸化性雰囲気の種類、加熱時間等にもよるが、通常300℃以上、好ましくは400℃以上であり、また、通常Fe基合金の結晶化開始温度未満の温度であって、450℃以下、好ましくは420℃以下である。
また、加熱時間は、酸化性雰囲気の種類、加熱温度等にもよるが、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上であり、また、通常30時間以下、好ましくは25時間以下、より好ましくは20時間以下である。
装置:アルバック・ファイ株式会社製、PHI 5600CIM
X線源:単色化AlKα線
分析面積:400μm2
(スパッタ条件)
イオン種:アルゴン(Ar+)
加速電圧:3kV
掃引領域:4mm×4mm
レート:1.9nm/min(SiO2換算)
すなわち、Fe基合金リボンに絶縁性の酸化被膜を形成することにより、巻回したFe基合金リボン間の電気的絶縁性が高くなり、Fe基合金リボン間に渦電流が流れることが抑制される。その結果、渦電流損失を低下し、高周波領域の透磁率を高めることができると考えられる。
熱処理工程は、Fe基合金の結晶化開始温度未満の一定温度を保持しながら、前記磁心に対し、前記磁心の高さ方向の磁場を印加する磁場印加工程と、Fe基合金の結晶化開始温度以上の温度でナノ結晶化を行うナノ結晶化工程とをこの順に含む。
なお、熱処理工程において、磁場印加工程以外の工程では、意図的に磁場を印加することなく行われるものとする。
磁場印加工程は、Fe基合金の結晶化開始温度未満の一定温度を保持しながら、前記磁心に対し、前記磁心の高さ方向(すなわち、Fe基合金リボンの幅方向)の磁場を印加する工程である。磁場印加工程においては、磁場印加を、結晶化度が8%以上40%以下の段階で終了する。
磁場印加終了時の結晶化度が上記範囲内である状態で、磁場印加を行うことにより、高透磁率を示すFe基ナノ結晶合金磁心を得ることができる。
等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、真空条件下で行ってもよいが、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
ナノ結晶化工程は、磁場印加工程の後、Fe基合金の結晶化開始温度以上の温度に昇温してナノ結晶化を行う工程である。本工程において、ナノ結晶化は、結晶化度が50%以上60%以下の範囲内となるよう行われる。本工程により、結晶相(bcc相)からなる結晶粒と非晶質相とを含むFe基ナノ結晶合金が形成される。
なお、本明細書において、結晶化開始温度は、示差走査熱量計(DSC)の測定条件を昇温速度10℃/分で行ったときの、ナノ結晶化の開始による発熱反応が検出される温度として定義される。
本実施形態における熱処理工程は、前記磁場印加工程の前に、前記磁場印加工程における熱処理温度未満の一定温度を保持する保温工程をさらに含んでいてもよい。当該一定温度は、Fe基合金の結晶化開始温度より65℃低い温度以上、Fe基合金の結晶化開始温度より45℃低い温度以下である。
、保温工程を行うことにより、オーバーシュートが抑制され、熱処理炉内の温度も均一化される。そして、その結果、Fe基ナノ結晶合金磁心の透磁率のばらつきを抑制することができる。なお、オーバーシュートが抑制されるとは、保温工程を行った場合に、磁場印加工程の際の熱処理炉の設定温度と熱処理炉内の実際の温度との差が、保温工程を行わなかった場合よりも小さくなることを指す。
本実施形態に係る製造方法は、Fe基合金リボンが巻回された磁心に熱処理を行う際に、Fe基合金の結晶化度が特定の範囲内にあるタイミングで磁場印加を行うことにより、高透磁率を示すFe基ナノ結晶合金磁心を得るものである。本製造方法では、磁場印加工程においてオーバーシュートが生じると、熱処理炉の設定温度以上の温度が磁心に加わり、結晶相の析出が過剰に進行する。そうすると、磁場印加を行う際の結晶化度を特定の範囲内に調整することが困難となり、Fe基ナノ結晶合金磁心の透磁率にばらつきが生じる虞がある。ここで、磁場印加工程の前に保温工程を行うと、Fe基合金リボンが巻回された磁心に加わる熱エネルギー量が抑制されるため、結晶相の析出速度が緩やかになり、結晶相の析出に伴う自己発熱が抑制される結果、オーバーシュートが抑制されると推測される。そして、オーバーシュートが抑制されることで、熱処理を行う際のFe基合金の結晶化度を特定の範囲内とすることができるため、Fe基ナノ結晶合金磁心の透磁率のばらつきが抑制されると考えられる。
より詳細には、保温工程終了時の結晶化度は、好ましくは5%未満、より好ましくは3%以下であり、また、通常0%超である。保温工程開始時の結晶化度は特に制限されず、通常0%以上5%未満である。
本実施形態に係る製造方法により製造されるFe基ナノ結晶合金磁心は、リアクトル、コモンモードチョークコイル、トランス、通信用パルストランス、モータ又は発電機の磁心、ヨーク材、電流センサー、磁気センサー、アンテナ磁心、電磁波吸収シート等の各種
磁性部品に用いることができる。これらのうち、当該Fe基ナノ結晶合金磁心は、低周波領域から高周波領域にわたって高い透磁率が要求されるコモンモードチョークコイル、ノイズフィルター、特にACノイズフィルター等の用途に特に好適に用いられる。
(磁心準備工程)
Fe82.718Si8.655B1.493Cu1.287Nb5.584で表される組成を有する、幅5mm及び厚さ14μmのFe基合金リボン(安泰科技社製,ナノクリスタル箔 RN5G-0050F)を巻回し、外径21mm、内径12mm及び高さ5mmの磁心を作製した。なお、Fe基合金リボンを構成するFe基合金の結晶化開始温度を示差走査熱量計(DSC)での測定により求めたところ、516℃であった。
上記磁心準備工程で作製した磁心を熱処理炉内に配置し、窒素ガス雰囲気中で熱処理を行った。具体的には、磁心の温度を120分かけて20℃から478℃まで昇温させた後、478℃で30分間保持しながら磁心の高さ方向に磁場強度100mTの磁場を印加した。次いで、磁心の温度を60分かけて550℃まで昇温させ、550℃で60分間保持した。その後、磁心の温度を150分かけて100℃まで降温し、Fe基ナノ結晶合金磁心を得た。実験例1-1~実験例1-5の熱処理工程における温度プロファイルを図1に示す。
磁場印加工程における熱処理温度及び熱処理時間を表1-1~表1-3に示す通りに変更した以外は、実験例1-1と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
磁心準備工程で準備した磁心を、120分かけて20℃から磁場印加工程における熱処理温度まで昇温し、磁場印加が行われた時間と同一時間、当該温度を保持した。その後、60分かけて20℃まで冷却した後の磁心をXRD分析装置(ブルカー・エイエックスエス株式会社製,D8 DISCOVER)を用いて分析した。XRDパターンにおける結晶成分のピーク面積及び非晶質成分のピーク面積から、上記式(2)に基づいて、磁場印加終了時の結晶化度を算出した。結果を表1-1~表1-3に示す。
実験例で得たFe基ナノ結晶合金磁心を樹脂ケースに装填した後、当該樹脂ケースに線径0.5mmの銅線を10ターン巻くことでコイルを作製した。インピーダンス・アナライザ(Agilent Technologies社製,4294A)を用い、周波数10kHz及び100kHzにおいて、得られたコイルのインダクタンスを測定し、上記式(1)に基づいてFe基ナノ結晶合金磁心の比透磁率を求めた。なお、磁路長lは0.051m、有効断面積Aは1.85×10-5m2、及び巻き数Nは5である。結果を表1-1~表1-3、図2及び図3に示す。
以上より、磁場印加終了時の結晶化度が8%以上40%以下となるよう磁場印加を行うことで、低周波領域及び高周波領域のいずれにおいても高い透磁率を示すFe基ナノ結晶合金磁心が得られることが示された。
実験例1-1で作製した磁心を熱処理炉内に配置し、窒素ガス雰囲気中で熱処理を行った。具体的には、温度を120分かけて20℃から460℃まで昇温させた後、460℃で150分間保持した。次いで、60分かけて485℃まで昇温し、485℃で180分間保持しながら磁心の高さ方向に磁場強度100mTの磁場を印加した。次いで、温度を60分かけて560℃まで昇温させ、560℃で90分間保持した。その後、温度を105分かけて20℃まで降温し、Fe基ナノ結晶合金磁心を得た。実験例2-1~実験例2-5の熱処理工程における温度プロファイルを図4に示す。
485℃での保持を開始してから30分後に磁場印加を開始した以外は、実験例2-1と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
485℃での保持を開始してから60分後に磁場印加を開始した以外は、実験例2-1と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
485℃での保持を開始してから90分後に磁場印加を開始した以外は、実験例2-1と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
実験例1-1で作製した磁心を熱処理炉内に配置し、窒素ガス雰囲気中で熱処理を行った。具体的には、温度を120分かけて20℃から480℃まで昇温させた後、480℃で150分間保持しながら磁心の高さ方向に磁場強度100mTの磁場を印加した。次いで、温度を60分かけて550℃まで昇温させ、550℃で60分間保持した。その後、温度を150分かけて100℃まで降温し、Fe基ナノ結晶合金磁心を得た。実験例2-21~実験例2-25の熱処理工程における温度プロファイルを図5に示す。
480℃での保持を開始してから30分後に磁場印加を開始した以外は、実験例2-21と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
480℃での保持を開始してから60分後に磁場印加を開始した以外は、実験例2-21と同様にしてFe基ナノ結晶合金磁心を得た。
実験例1-1~実験例1-75と同様の方法により、磁場印加開始時及び磁場印加終了時の結晶化度を算出した。結果を表2に示す。
実験例で得たFe基ナノ結晶合金磁心を樹脂ケースに装填した後、当該樹脂ケースに線径0.5mmの銅線を8ターン巻くことでコイルを作製した。インピーダンス・アナライザ(Agilent Technologies社製,4294A)を用い、周波数10kHz及び100kHzにおいて、得られたコイルのインダクタンスを測定し、上記式(
1)に基づいてFe基ナノ結晶合金磁心の比透磁率を求めた。なお、磁路長lは0.051m、有効断面積Aは1.85×10-5m2、及び巻き数Nは5である。結果を表2に示す。
磁場印加工程において、オーバーシュートが発生した際の熱処理炉内の最高到達温度から熱処理炉の設定温度を差し引いた温度(ΔT)を求めた。結果を表2に示す。
また、表2より、結晶化度が20%のときから30%に至るまでの間に磁場印加を行うと、Fe基ナノ結晶合金磁心の透磁率のばらつき抑制効果が特に高いことがわかった(実験例2-11~実験例2-15)。
以上より、保温工程を行うことにより磁場印加工程におけるオーバーシュートが抑制され、その結果、Fe基ナノ結晶合金磁心の透磁率のばらつきを抑制できることがわかった。
(磁心準備工程)
Fe82.718Si8.655B1.493Cu1.287Nb5.584で表される組成を有する、幅13mm及び厚さ14μmのFe基合金リボン(安泰科技社製,ナノクリスタル箔 RN5G-0050F)を巻回し、外径25mm、内径15mm及び高さ
13mmの未酸化の磁心を作製した。この未酸化の磁心を、大気雰囲気中、400℃で15時間加熱することで、酸化被膜付き磁心を作製した。なお、Fe基合金リボンを構成するFe基合金の結晶化開始温度を示差走査熱量計(DSC)での測定により求めたところ、516℃であった。
上記磁心準備工程で作製した酸化被膜付き磁心を熱処理炉内に配置し、窒素ガス雰囲気中で熱処理を行った。具体的には、温度を120分かけて20℃から490℃まで昇温させた後、490℃で90分間保持しながら磁心の高さ方向に磁場強度100mTの磁場を印加した。次いで、温度を60分かけて550℃まで昇温させ、550℃で60分間保持した。その後、温度を150分かけて100℃まで降温し、Fe基ナノ結晶合金磁心を得た。実験例3-1~実験例3-3の熱処理工程における温度プロファイルを図6に示す。
酸化被膜付き磁心に代え、実験例3-1の磁心準備工程で作製した未酸化の磁心を用いた以外は、実験例3-1と同様にして熱処理工程を行い、Fe基ナノ結晶合金磁心を得た。
磁心準備工程で作製した酸化被膜付き磁心の酸化被膜の厚さ、及び未酸化の磁心の自然酸化被膜の厚さを、以下の手順で測定した。
X線光電子分光法(XPS)により、酸化被膜付き磁心から巻き出したリボンの表面をスパッタリングしながら酸素濃度を分析することにより、酸化被膜の厚さを測定した。測定条件は下記の通りである。測定された酸素濃度プロファイルにおいて、リボン表面の酸素原子濃度が10%以上の部分の厚さを酸化被膜の厚さとした。結果を表3に示す。
装置:アルバック・ファイ株式会社製,PHI 5600CIM
X線源:単色化AlKα線
分析面積:400μm2
(スパッタ条件)
イオン種:アルゴン(Ar+)
加速電圧:3kV
掃引領域:4mm×4mm
レート:1.9nm/min(SiO2換算)
実験例1-1と同様にして、磁場印加終了時の結晶化度を算出した。結果を表3に示す。
実験例で得たFe基ナノ結晶合金磁心を樹脂ケースに装填した後、当該樹脂ケースに線径0.5mmの銅線を8ターン巻くことでコイルを作製した。インピーダンス・アナライザ(Agilent Technologies社製,4294A)を用い、周波数10kHz、100kHz及び1MHzにおいて、得られたコイルのインダクタンスを測定し、上記式(1)に基づいてFe基ナノ結晶合金磁心の比透磁率を求めた。なお、磁路長lは0.051m、有効断面積Aは1.85×10-5m2、及び巻き数Nは3である。結果を表3に示す。
以上より、熱処理に供する磁心として酸化被膜付き磁心を用いることにより、高周波領域におけるFe基ナノ結晶合金磁心の透磁率が向上することが示された。
Claims (3)
- Fe基合金のリボンが巻回された磁心を準備する磁心準備工程と前記磁心の熱処理工程とを含み、前記熱処理工程が、
前記Fe基合金の結晶化開始温度未満の一定温度を保持しながら、前記磁心に対し、前記磁心の高さ方向の磁場を印加する磁場印加工程と、
前記Fe基合金の結晶化開始温度以上の温度でナノ結晶化を行うナノ結晶化工程と、
をこの順に含み、
前記磁場印加工程における磁場印加終了時の結晶化度が、8%以上40%以下である、Fe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。 - 前記熱処理工程が、前記磁場印加工程の前に、前記磁場印加工程における熱処理温度未満の一定温度を保持する保温工程をさらに含み、
前記保温工程における前記一定温度が、前記Fe基合金の結晶化開始温度より65℃低い温度以上、前記Fe基合金の結晶化開始温度より45℃低い温度以下である、請求項1に記載のFe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。 - 前記磁心準備工程で準備する前記磁心は、前記Fe基合金のリボンの表面に厚さ4nm以上の酸化被膜を有する、請求項1又は2に記載のFe基ナノ結晶合金磁心の製造方法。
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