JP7451389B2 - 粒子線加速装置、粒子線加速装置の粒子線遮断方法、及び粒子線治療装置 - Google Patents

粒子線加速装置、粒子線加速装置の粒子線遮断方法、及び粒子線治療装置 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、超電導電磁石を備えた粒子線加速装置、及びその粒子線加速装置の粒子線遮断方法、並びに上記粒子線加速装置にて加速された粒子線を用いる粒子線治療装置に関する。
近年、炭素イオン等の粒子線を、患者の病巣組織(例えば癌)に照射して治療を行う粒子線治療技術が注目されている。この粒子線治療技術によれば、正常組織にダメージを与えず、病巣組織のみをピンポイントで死滅させることができるため、手術や投薬治療等に比べて患者への負担が少なく、治療後の社会復帰の早期化も期待できる。
体内の深い位置にある癌細胞を治療するためには、粒子線を加速する必要がある。一般的に、粒子線を加速する粒子線加速装置は大きく二種類に分類される。ひとつは直線状に加速手段(高周波加速空洞)を配置する線形加速器、もうひとつは粒子線の軌道を曲げる偏向装置を概円形状に配置し、この円軌道の一部に加速手段(高周波加速空洞)を配置する円形加速器である。特に、炭素や陽子などの重い粒子では、粒子線生成直後の低エネルギ帯の加速には線形加速器を、高エネルギ帯の加速には円形加速器を用いる方式が一般的である。
上述のように粒子線を周回させながら加速する円形加速器は、粒子線の外形を制御する集束・発散装置(四極電磁石装置)、粒子線の軌道を曲げる偏向装置(二極電磁石装置)、及び粒子線の軌道のズレを補正するステアリング電磁石装置等を順次配列することで構成される。この円形加速器において、周回させる粒子の質量やエネルギが増大すると磁気剛性(磁場による曲げ難さ)が増大するために、粒子線の軌道半径が大きくなり、その結果、円形加速器を含む装置全体が大型化してしまう。装置が大型化すると建屋等付帯設備も大型化してしまい、都市部など設置範囲に制限がある場所では本装置を導入することが困難になる。
特開2019-141245号公報 特開2015-159060号公報 特開2017-33978号公報
円形加速器の大型化を抑制するためには、偏向装置等が発生する磁場強度を大きくする必要がある。一般的な偏向装置では鉄心の磁気飽和の影響で1.5Tを超える磁場の発生が困難であるが、偏向装置に超電導技術を適用することで高磁場化が可能になり、円形加速器の小型化が可能になる。ところが、粒子線治療装置用の円形加速器の偏向装置等を構成する超電導電磁石にクエンチなどの異常が発生した場合には、粒子線が患者に誤照射されるリスクが発生する恐れがある。
本発明の実施形態は、上述の事情を考慮してなされたものであり、粒子線を所定の軌道に適正に保持して粒子線の誤照射リスクを低減できる粒子線加速装置、粒子線加速装置の粒子線遮断方法、及び粒子線治療装置を提供することを目的とする。
本発明の実施形態における粒子線加速装置は、粒子線を所定の軌道に誘導する誘導手段と、前記粒子線を前記軌道上で加速する加速手段と、前記粒子線を前記軌道上で遮断する粒子線遮断手段と、前記誘導手段、前記加速手段及び前記粒子線遮断手段を制御する制御手段とを有し、前記粒子線を周回させながら加速する粒子線加速装置であって、前記誘導手段が超電導電磁石と、この超電導電磁石を遮断する超電導電磁石遮断手段とを備えてなり、前記超電導電磁石遮断手段が、遮断機及び保護抵抗を備えてなり、前記遮断機を開動作させて前記超電導電磁石と前記保護抵抗とを閉回路に形成することで前記超電導電磁石を遮断させ、前記保護抵抗の抵抗値は、前記超電導電磁石遮断手段の遮断時定数が前記粒子線遮断手段の遮断時定数よりも長くなるように設定され、前記制御手段は、前記超電導電磁石に異常が発生した際には、前記粒子線遮断手段を起動させて前記粒子線の遮断を完了した後に、前記超電導電磁石遮断手段を起動させて前記超電導電磁石を遮断するよう構成されたことを特徴とするものである。
また、本発明の実施形態における粒子線加速装置の粒子線遮断方法は、粒子線を所定の軌道に誘導する誘導手段と、前記粒子線を前記軌道上で加速する加速手段と、前記粒子線を前記軌道上で遮断する粒子線遮断手段とを有し、前記粒子線を周回させながら加速する粒子線加速装置の粒子線遮断方法であって、前記誘導手段が超電導電磁石と、この超電導電磁石を遮断する超電導電磁石遮断手段とを備えてなり、前記超電導電磁石遮断手段が、遮断機及び保護抵抗を備えてなり、前記遮断機を開動作させて前記超電導電磁石と前記保護抵抗とを閉回路に形成することで前記超電導電磁石を遮断させ、前記保護抵抗の抵抗値は、前記超電導電磁石遮断手段の遮断時定数が前記粒子線遮断手段の遮断時定数よりも長くなるように設定される場合、前記超電導電磁石に異常が発生した際には、前記粒子線遮断手段を起動させて前記粒子線の遮断を完了した後に、前記超電導電磁石遮断手段を起動させて前記超電導電磁石を遮断することを特徴とするものである。
更に、本発明の実施形態における粒子線治療装置は、前記実施形態に記載の粒子線加速装置と、この粒子線加速装置にて加速された粒子線を患者の患部に照射する粒子線照射装置とを有し、前記粒子線を用いて治療を行うものである。
本発明の実施形態によれば、粒子線を所定の軌道に適正に保持して粒子線の誤照射リスクを低減できる。
一実施形態に係る粒子線治療装置としての荷電粒子線治療装置を示すブロック図。 図1における粒子線加速装置としての超電導シンクロトロンを示す平面図。 図2の偏向装置、集束・発散装置を構成する超電導電磁石装置を示す電気回路図。 図2の超電導シンクロトロンにおける制御系を示すブロック図。 図2における超電導シンクロトロンにおいて、超電導電磁石遮断装置と荷電粒子線遮断装置とが同時に起動した場合の超電導電磁石電流値と粒子線強度のそれぞれの変化を示すタイミングチャート。 図2における超電導シンクロトロンにおいて、荷電粒子線遮断装置による荷電粒子線の遮断完了後に超電導電磁石遮断装置が起動した場合の超電導電磁石電流値と粒子線強度のそれぞれの変化を示すタイミングチャート。
以下、本発明を実施するための形態を、図面に基づき説明する。
図1は、一実施形態に係る粒子線治療装置としての荷電粒子線治療装置を示すブロック図である。この図1に示す荷電粒子線治療装置10は荷電粒子、例えば負パイ中間子、陽子、ヘリウムイオン、炭素イオン、ネオンイオン、シリコンイオンまたはアルゴンイオンを治療照射用の荷電粒子線源とする装置である。そして、この荷電粒子線治療装置10は、粒子線発生装置11、粒子線加速装置12、粒子線輸送装置13及び粒子線照射装置14を有し、被照射体としての患者の患部5に荷電粒子線1を照射するものである。
粒子線発生装置11は、荷電粒子線1を発生する装置であり、例えば電磁場やレーザなどを用いて生成したイオン等を引き出す装置である。
粒子線加速装置12は、荷電粒子線1を所定のエネルギに加速する装置であり、その一例として前段加速装置15と後段加速装置16との2段の加速装置を備えて構成される。前段加速装置15としては、ドリフトチューブリニアックDTLや高周波四重極型線形加速器RFQ等の線形加速器がある。また、後段加速装置16としては、シンクロトロンやサイクロトロン等の円形加速器がある。
これらの粒子線加速装置12は、荷電粒子線1の通過空間を真空気密に保持する真空ダクト(配管)、荷電粒子線1を電場によって加速する高周波加速空洞、荷電粒子線1を安定的に誘導する偏向装置(二極電磁石装置)及び集束・発散装置(四極電磁石装置)、並びにそれらの各装置等を制御する制御装置を有して構成される。
粒子線輸送装置13は、粒子線加速装置12にて加速された荷電粒子線1を粒子線照射装置14へ輸送する装置であり、真空ダクト、偏向装置、集束・発散装置、及びそれらを制御する制御装置を有して構成される。
粒子線照射装置14は、粒子線輸送装置13の下流に設置されて、この粒子線輸送装置13を通過した特定エネルギの荷電粒子線1を、患者の患部5に設定された照射点に正確に照射させるべく荷電粒子線1の軌道を調整し、更に、患部5における荷電粒子線1の照射位置及び照射線量を監視する。
さて、前述の粒子線加速装置12の後段加速装置16としての超電導シンクロトロン17を図2に示す。この超電導シンクロトロン17は、荷電粒子線1を周回させながら加速する装置であって、円環形状の真空ダクト20の外径側に複数の偏向装置21、複数の集束・発散装置22、複数の六極電磁石装置23、高周波加速空洞24、入射装置25、出射装置26及び荷電粒子線遮断装置27が配置され、更に制御装置30を有して構成される。
真空ダクト20は、荷電粒子線1の通過空間を真空気密に保持する配管であり、その軸線に、荷電粒子線1が通過する所定の軌道3が形成される。
偏向装置21は、二極電磁石装置にて構成され、生成する磁場によって荷電粒子線1を所定の軌道3に沿って周回させる。また、集束・発散装置22は、四極電磁石装置にて構成され、生成する磁場によって所定の軌道3上を周回する荷電粒子線1を集束または発散させる。従って、これらの偏向装置21及び集束・発散装置22は、荷電粒子線1を所定の軌道3に安定的に誘導する誘導手段として機能する。
高周波加速空洞24は、高周波電圧の印加により生じた電場によって、真空ダクト20内の所定の軌道3に沿って周回する荷電粒子線1を加速する加速手段として機能する。また、入射装置25は、粒子線発生装置11にて生成された荷電粒子線1を超電導シンクロトロン17内に入射する入射手段として機能する。また、出射手段26は、超電導シンクロトロン17にて加速された荷電粒子線1を粒子線輸送装置13へ出射する出射手段として機能する。
荷電粒子線遮断装置27は、真空ダクト20内の所定の軌道3上を周回する荷電粒子線1を緊急遮断する粒子線遮断手段として機能する。この荷電粒子線遮断装置27による遮断は、具体的には、図示しないゲートが閉鎖されることによる荷電粒子線1の遮断や、図示しないバンプ電磁石が荷電粒子線1を廃棄軌道へ蹴り出すことによる荷電粒子線1の遮断などである。また、制御装置30は、上述の各装置等21、22、23、24、25、26及び27を制御する制御手段として機能する。
上述の偏向装置21及び集束・発散装置22は、一般には常電導電磁石を有して構成される。これに対し、本実施形態では、偏向装置21及び集束・発散装置22の少なくとも一方が、図3に示す超電導電磁石32を備えた超電導電磁石装置31にて構成される。この超電導電磁石装置31は、超電導電磁石32と励磁電源33と遮断機34とが直列接続され、保護抵抗35が超電導電磁石32に並列接続されて構成される。
超電導電磁石32に異常、例えばクエンチが発生して、図示しないクエンチ検知器がクエンチ信号を出力することで遮断機34が開動作する。この遮断機34の開動作により超電導電磁石32と保護抵抗35とが直列接続されて閉回路が形成され、これにより、超電導電磁石32に蓄積されたエネルギが保護抵抗35で消費されて超電導電磁石32が遮断される。従って、上述の遮断機34及び保護抵抗35は、超電導電磁石32を遮断する超電導電磁石遮断手段として機能する超電導電磁石遮断装置28を構成する。
ところで、超電導電磁石装置31にて構成される偏向装置21及び集束・発散装置22の少なくとも一方では、超電導電磁石32にクエンチ等の異常が発生した場合に、荷電粒子線遮断装置27(図2)と超電導電磁石遮断装置28(図3)とが同時に起動して、荷電粒子線遮断装置27により荷電粒子線1の遮断が開始され、超電導電磁石遮断装置28によりクエンチ等が発生した超電導電磁石32の遮断が開始されると、図5に示すように、荷電粒子線1の遮断が完了する前に、クエンチ等が発生した超電導電磁石32の電流値が変化(低下)して、遮断完了前の荷電粒子線1が所定の軌道3から外れてしまう可能性がある。
荷電粒子線1が所定の軌道3から大きく外れてしまう場合には、その荷電粒子線1は真空ダクト20に衝突して損失される。これに対し、荷電粒子線1が所定の軌道3に対してわずかに外れた場合には、それらは患者位置まで到達し、粒子線照射装置14により想定しない位置に誤照射される恐れがある。
そこで、図4及び図6に示すように、本実施形態の制御装置30は、偏向装置21及び集束・発散装置22の少なくとも一方を構成する超電導電磁石装置31の超電導電磁石32にクエンチ等の異常が発生して、クエンチ信号を受信した際に、荷電粒子線遮断装置27を起動させて荷電粒子線1を遮断させ、この荷電粒子線1の遮断が完了した後に超電導電磁石遮断装置28を起動させて、クエンチ等が発生した超電導電磁石32を遮断するよう制御している。これにより、荷電粒子線1の遮断が開始されてから完了するまでの間に、クエンチ等が発生した超電導電磁石32の電流値が低下せず適正値に保持されるので、超電導シンクロトロン17内で荷電粒子線1は所定の軌道3から外れることなく遮断されることになる。
ここで、図3に示す超電導電磁石装置31の保護抵抗35の抵抗値は、超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Ta(超電導電磁石32の遮断が開始されてから完了するまでの時間)が、荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tb(荷電粒子線1の遮断が開始されてから完了するまでの時間)よりも長くなるように設定される。
すなわち、超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Taは、超電導電磁石32のクエンチ等発生時における発生電圧とコイル温度上昇との兼ね合いで保護抵抗35の抵抗値を選択することで決定され、概ね10秒以下に設定される。一方、荷電粒子線遮断装置27による荷電粒子線1の遮断が、ゲートの閉鎖やバンプ電磁石の蹴り出しによるため、荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tbは概ね100mm秒以下に設定される。従って、超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Taが荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tbよりも長い、つまり、荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tbが超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Taよりも十分に短く設定されることになる。
以上のように構成されたことから、本実施形態によれば、次の効果(1)及び(2)を奏する。
(1)図2~図4に示すように、粒子線加速装置12としての超電導シンクロトロン17における偏向装置21及び集束・発散装置22の少なくとも一方の超電導電磁石32に異常(例えばクエンチ)が発生した際には、荷電粒子線遮断装置27を起動させて荷電粒子線1の遮断を完了した後に、超電導電磁石遮断装置28を起動させてクエンチ等が発生した超電導電磁石32を遮断する。このため、図6に示すように、このクエンチ等が発生した超電導電磁石32の電流値が低下せず適正値にある状態で荷電粒子線1の遮断を完了することができる。この結果、超電導シンクロトロン17において遮断完了前の荷電粒子線1が所定の軌道3を外れることがないので、超電導シンクロトロン17からの荷電粒子線1による粒子線照射装置14での誤照射リスクを低減できる。
(2)図3における超電導電磁石装置31の保護抵抗35の抵抗値により超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Taが荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tbよりも長くなるように設定されている。このため、荷電粒子線遮断装置27の遮断時定数Tbは、超電導電磁石遮断装置28の遮断時定数Taよりも十分に短くなる。従って、超電導電磁石装置31の超電導電磁石32にクエンチ等の異常が発生した場合に、このクエンチ等が発生した超電導電磁石32の遮断を荷電粒子線遮断装置27の遮断時係数Tbだけ待機しても、この遮断時定数Tbが十分に短いことで、クエンチ等が発生した超電導電磁石32に大電圧の発生やコイル温度上昇を抑制できる。この結果、クエンチ等が発生した超電導電磁石32に焼損等の発生を回避できる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができ、また、それらの置き換えや変更は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1…荷電粒子線、3…軌道、5…患部、10…荷電粒子線治療装置(粒子線治療装置)、12…粒子線加速装置、14…粒子線照射装置、21…偏向装置(誘導手段)、22…集束・発散装置(誘導手段)、24…高周波加速空洞(加速手段)、25…入射装置(入射手段)、26…出射装置(出射手段)、27…荷電粒子線遮断装置(粒子線遮断手段)、28…超電導電磁石遮断装置(超電導電磁石遮断手段)、30…制御装置(制御手段)、31…超電導電磁石装置、32…超電導電磁石、34…遮断機、35…保護抵抗、Ta…超電導電磁石遮断装置の遮断時定数、Tb…荷電粒子線遮断装置の遮断時定数

Claims (3)

  1. 粒子線を所定の軌道に誘導する誘導手段と、
    前記粒子線を前記軌道上で加速する加速手段と、
    前記粒子線を前記軌道上で遮断する粒子線遮断手段と、
    前記誘導手段、前記加速手段及び前記粒子線遮断手段を制御する制御手段とを有し、前記粒子線を周回させながら加速する粒子線加速装置であって、
    前記誘導手段が超電導電磁石と、この超電導電磁石を遮断する超電導電磁石遮断手段とを備えてなり、
    前記超電導電磁石遮断手段が、遮断機及び保護抵抗を備えてなり、前記遮断機を開動作させて前記超電導電磁石と前記保護抵抗とを閉回路に形成することで前記超電導電磁石を遮断させ、
    前記保護抵抗の抵抗値は、前記超電導電磁石遮断手段の遮断時定数が前記粒子線遮断手段の遮断時定数よりも長くなるように設定され、
    前記制御手段は、前記超電導電磁石に異常が発生した際には、前記粒子線遮断手段を起動させて前記粒子線の遮断を完了した後に、前記超電導電磁石遮断手段を起動させて前記超電導電磁石を遮断するよう構成されたことを特徴とする粒子線加速装置。
  2. 粒子線を所定の軌道に誘導する誘導手段と、
    前記粒子線を前記軌道上で加速する加速手段と、
    前記粒子線を前記軌道上で遮断する粒子線遮断手段とを有し、前記粒子線を周回させながら加速する粒子線加速装置の粒子線遮断方法であって、
    前記誘導手段が超電導電磁石と、この超電導電磁石を遮断する超電導電磁石遮断手段とを備えてなり、前記超電導電磁石遮断手段が、遮断機及び保護抵抗を備えてなり、前記遮断機を開動作させて前記超電導電磁石と前記保護抵抗とを閉回路に形成することで前記超電導電磁石を遮断させ、前記保護抵抗の抵抗値は、前記超電導電磁石遮断手段の遮断時定数が前記粒子線遮断手段の遮断時定数よりも長くなるように設定される場合、
    前記超電導電磁石に異常が発生した際には、前記粒子線遮断手段を起動させて前記粒子線の遮断を完了した後に、前記超電導電磁石遮断手段を起動させて前記超電導電磁石を遮断することを特徴とする粒子線加速装置の粒子線遮断方法。
  3. 請求項1に記載の粒子線加速装置と、この粒子線加速装置にて加速された粒子線を患者の患部に照射する粒子線照射装置とを有し、前記粒子線を用いて治療を行う粒子線治療装置。
JP2020203781A 2020-12-08 2020-12-08 粒子線加速装置、粒子線加速装置の粒子線遮断方法、及び粒子線治療装置 Active JP7451389B2 (ja)

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