JP7449639B2 - フォトマスクの検査装置及び検査方法 - Google Patents

Description

本発明は、フォトマスクの検査装置及び検査方法に関する。

フォトマスクは、ｉ）表面に遮光膜が形成されたガラス基板等の透明基板（フォトマスクブランクス）を用意する工程、ｉｉ）フォトマスクブランクスの表面にレジストを均一に塗布する工程、ｉｉｉ）描画装置の電子ビーム又はレーザを用いてフォトマスクブランクスの表面に所定のパターンを描画する工程、ｉｖ）電子ビーム又はレーザによって露光されたレジストを除去する工程（ポジ型のレジストでなく、ネガ型のレジストであれば、露光されなかったレジストを除去する工程）、ｖ）レジストが除去されて遮光膜が露出した部分をエッチングして除去する工程、ｖｉ）遮光膜を覆っているレジストを除去する工程、を経て製造される。これにより、フォトマスクは、遮光膜が残存する部分である所定のパターンの遮光部と、透明基板が露出する部分である透過部とを備える。

これらの工程における諸々の原因により、パターンのエッジ部（遮光部のエッジ部）には、歪み、ムラ等の誤差が生じることがある。もちろん、この誤差が存在するフォトマスクを用いて製造したフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：flat panel display）にも、同様の表示誤差が生じることがある。ＦＰＤは、人間の視覚に訴えるため、誤差の存在は、ＦＰＤの品位を損なうことになる。近年は、高集積化技術の発達により回路パターンが微細化し、これに伴い、フォトマスクのパターンについても、高精度化の要求が高まっている。

そこで、従来より、フォトマスクに許容できない誤差が存在するか否かの検査が行われている。フォトマスクの検査装置には、主に、ダイ・ツー・データベース（Die To Database）方式と、ダイ・ツー・ダイ（Die To Die）方式とがある。ダイ・ツー・データベース方式は、フォトマスクの画像データとフォトマスクの描画データとを比較して誤差の有無を検査する方法である。ダイ・ツー・ダイ方式は、フォトマスクの異なる位置にある同じパターンの画像データを比較して誤差の有無を検査する方法である。

また、これらの方法の代わりに、あるいはこれらの方法に加え、フォトマスクの画像を拡大表示し、誤差の有無を目視で検査する方法がある。目視検査の場合、表示倍率が小さいと、検査時間は短くなるが、誤差の見落としが生じやすいという問題がある。このため、目視検査は、ある程度大きな表示倍率で拡大表示して行う必要がある。しかし、表示倍率が大きくなるほど、スループットが低下し、検査時間が長くなるという問題がある（たとえば、表示倍率が２倍によれば、スループットは１／４となる。）。特に、経験値や習熟度が低い検査者の場合、検査時間が長くなる傾向にある。

なお、特許文献１は、ダイ・ツー・ダイ方式を用い、一方の画像データに誤差（線幅欠陥）が存在する場合、一方の画像データと他方の画像データとで隣接する複数の画素の輝度が変化することを利用し、輪郭画素の輝度データの和を比較することによって、誤差を検出する方法を開示している。

特開２００７－２５５９５９号公報

そこで、本発明は、フォトマスクのパターンのエッジ部における誤差の有無を検査するにあたり、スループットを向上して検査時間を短くすることができ、かつ、検査精度を向上することができるフォトマスクの検査装置及び検査方法を提供することを課題とする。

本発明に係るフォトマスクの検査装置は、
フォトマスクの画像データを記憶する記憶部と、
フォトマスクの画像データから検査画像データを作成する検査画像データ作成部と、
検査画像データに係る検査画像を表示可能とする画像表示部とを備え、
検査画像データ作成部は、
フォトマスクの画像データをマトリクス状に分割する画像データ分割部と、
各分割画像データから、各分割画像に含まれるパターンの１つのエッジラインに対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む単位検査画像データを作成する単位検査画像データ作成部と、
各単位検査画像データを統合して検査画像データを作成する単位検査画像データ統合部とを備える
フォトマスクの検査装置である。

また、本発明に係るフォトマスクの検査方法は、
フォトマスクの画像データをマトリクス状に分割し、各分割画像データから、各分割画像に含まれるパターンの１つのエッジラインに対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む単位検査画像データを作成し、各単位検査画像データを統合して作成される検査画像データを用意し、
検査画像データに係る検査画像を表示し、パターンのエッジ部における誤差の有無を（目視又は装置で）検査する
フォトマスクの検査方法である。

ここで、本発明に係るフォトマスクの検査装置の一態様として、
単位検査画像データ作成部は、分割画像データから作成される第１中間データ、第１中間データにおけるパターンのエッジラインを第１オフセット量でパターンの外側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データを含む第２中間データ、及び、第１中間データにおけるパターンのエッジラインを第２オフセット量でパターンの内側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データを含む第３中間データ、の少なくとも２つの中間データを合成処理して単位検査画像データを作成する
との構成を採用することができる。

また、この場合、
単位検査画像データ作成部は、第１中間データ、第２中間データ及び第３中間データの３つの中間データを合成処理して単位検査画像データを作成する
との構成を採用することができる。

また、
第２オフセット量は、対象となるパターンの設計上の線幅の１／２より小さい量である
との構成を採用することができる。

あるいは、
第２オフセット量は、対象となるパターンの設計上の線幅の１／２以上の量である
との構成を採用することができる。

以上のように、本発明によれば、検査画像においてパターンのエッジラインが少なくとも２本以上のラインに増えることにより、パターンのエッジ部に誤差がある場合、誤差は、強調され、見つけやすくなる。このため、本発明によれば、表示倍率を抑えての検査が可能となり、スループットを向上して検査時間を短くすることができる。また、本発明によれば、誤差が見つけやすくなるため、検査精度を向上することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係るフォトマスクの検査装置の概要図である。 図２は、同検査装置のブロック図である。 図３（ａ）は、フォトマスクの第１例に係る描画データの一部拡大図である。図３（ｂ）は、同描画データに基づいて製造されたフォトマスクの画像データの一部拡大図である。図３（ｃ）は、同画像データから作成された検査画像データの一部拡大図である。 図４（ａ）は、フォトマスクの第２例に係る描画データの一部拡大図である。図４（ｂ）は、同描画データに基づいて製造されたフォトマスクの画像データの一部拡大図である。図４（ｃ）は、同画像データから作成された検査画像データの一部拡大図である。 図５は、検査画像データ作成工程のフローチャートである。 図６（ａ）及び（ｂ）は、第１例についての、図５のフローチャートのステップ１に関する説明図である。図６（ｃ１）ないし（ｃ３）は、同フローチャートのステップ２に関する説明図である。 図７（ａ１）ないし（ａ３）は、同フローチャートのステップ３及び４に関する説明図である。図７（ｂ１）ないし（ｂ３）は、同フローチャートのステップ５に関する説明図である。図７（ｃ１）ないし（ｃ３）は、同フローチャートのステップ６に関する説明図である。 図８（ａ１）ないし（ａ３）は、同フローチャートのステップ７に関する説明図である。図８（ｂ１）ないし（ｂ３）は、同フローチャートのステップ８に関する説明図である。 図９（ａ）及び（ｂ）は、第２例についての、図５のフローチャートのステップ１に関する説明図である。図９（ｃ１）ないし（ｃ３）は、同フローチャートのステップ２に関する説明図である。 図１０（ａ１）ないし（ａ３）は、同フローチャートのステップ３及び４に関する説明図である。図１０（ｂ１）ないし（ｂ３）は、同フローチャートのステップ５に関する説明図である。図１０（ｃ１）ないし（ｃ３）は、同フローチャートのステップ６に関する説明図である。 図１１（ａ１）ないし（ａ３）は、同フローチャートのステップ７に関する説明図である。図１１（ｂ１）ないし（ｂ３）は、同フローチャートのステップ８に関する説明図である。 図１２（ａ）ないし（ｄ）は、それぞれ別例に係る検査画像データの一部拡大図である。

以下、本発明に係るフォトマスクの検査装置及び検査方法の一実施形態について、図面を参酌して説明する。

図１に示すように、本実施形態に係る検査装置１は、主デバイス１０と、撮像デバイス２０とを備える。

主デバイス１０は、パーソナルコンピュータ等のコンピュータを用いて構成される。主デバイス１０は、制御部１１と、記憶部１３と、Ｉ／Ｆ（インターフェイス）部１４，１５と、画像表示部１６と、入力部１７とを備える。制御部１１は、ＣＰＵで構成され、演算部１２を含む。記憶部１３は、画像解析ソフト等の各種ソフトウェアや、フォトマスクＭの画像データ、この加工データ及び加工データから作成された検査画像データ等の画像データを含む各種データを記憶する。画像表示部１６は、モニタであり、Ｉ／Ｆ部１５を介して制御部１１と接続される。入力部１７は、キーボード、マウス等であり、Ｉ／Ｆ部１５を介して制御部１１と接続される。

撮像デバイス２０は、制御部２１と、ステージ２２と、コラム２３と、キャリッジ２４と、撮像部２５と、ＸＹ駆動部２６とを備える。制御部２１は、ＣＰＵで構成される。ステージ２２上には、検査対象のフォトマスクＭが載置される。コラム２３は、Ｙ方向に移動可能にしてステージ２２に設けられる。キャリッジ２４は、Ｘ方向に移動可能にしてコラム２３に設けられる。撮像部２５は、たとえばＣＣＤイメージセンサを備える撮像ユニットである。撮像部２５は、光軸を上下方向にしてキャリッジ２４に取り付けられる。ＸＹ駆動部２６は、コラム２３及びキャリッジ２４を駆動する。これにより、撮像部２５は、ステージ２２上のフォトマスクＭの全域を網羅するようにＸＹ方向に移動し、フォトマスクＭをＸＹ方向マトリクス状の単位領域に分割して各単位領域を撮像することにより、フォトマスクＭ全面を撮像することができる。なお、撮像部２５は、単眼レンズにより画像の取り込みができればよいが、マルチレンズ化してもよい。マルチ化することにより、画像データ取り込みを高速化することが可能となる。

撮像デバイス２０は、記憶部２７と、Ｉ／Ｆ（インターフェイス）部２８とを備える。記憶部２７は、撮像したフォトマスクＭの画像データを含む各種データを記憶する。主デバイス１０及び撮像デバイス２０は、Ｉ／Ｆ部１４，２８を介して接続され、双方向通信される。通信方法としては、無線ＬＡＮ、Bluetooth（登録商標）、IrDA、Zigbee（登録商標）、特定小電力無線等の無線通信や、ＵＳＢケーブル等の通信ケーブルを介する有線通信が用いられる。これにより、記憶部２７に記憶されるフォトマスクＭの画像データは、主デバイス１０に送信され、記憶部１３に記憶される。

主デバイス１０は、検査画像データ作成部を備える。検査画像データ作成部は、フォトマスクの画像データから検査画像データを作成する。本実施形態においては、制御部１１が検査画像データ作成部の機能を担う。検査画像データに係る検査画像は、任意に変更可能な表示倍率で画像表示部１６に表示される。

図３（ａ）は、フォトマスクの第１例に係る描画データの一部拡大図である。図３（ｂ）は、同描画データに基づいて製造されたフォトマスクの画像データの一部拡大図である。図３（ｃ）は、同画像データから作成された検査画像データの一部拡大図である。図４（ａ）は、フォトマスクの第２例に係る描画データの一部拡大図である。図４（ｂ）は、同描画データに基づいて製造されたフォトマスクの画像データの一部拡大図である。図４（ｃ）は、同画像データから作成された検査画像データの一部拡大図である。

検査画像データは、パターンＰの１つのエッジライン（パターン（遮光部）Ｐの透過部Ｔとの境界線）に対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む。

図３の第１例においては、検査画像データは、一対の第１の図形Ｆ１，Ｆ１と、第２の図形Ｆ２とを含む。第１の図形Ｆ１は、パターンＰの１つの直線状のエッジラインと、このエッジラインの外側へのオフセットラインとをエッジラインとする図形である。第２の図形Ｆ２は、隙間Ｓを有して第１の図形Ｆ１，Ｆ１間に配置される。第２の図形Ｆ２は、パターンＰの各直線状のエッジラインの内側へのオフセットラインをエッジラインとする図形である。したがって、図３の第１例においては、パターンＰの１つのエッジラインに対し、当該エッジライン、当該エッジラインの外側へのオフセットライン及び内側へのオフセットラインの３本のラインが用いられる。

図４の第２例においては、検査画像データは、第１の図形Ｆ１を含み、一部は、第１の図形Ｆ１と、第２の図形Ｆ２とを含む。第１の図形Ｆ１は、パターンＰの矩形状のエッジラインと、このエッジラインの外側へのオフセットラインとをエッジラインとする図形である。第２の図形Ｆ２は、隙間Ｓを有して第１の図形Ｆ１内に配置される。第２の図形Ｆ２は、パターンＰの矩形状のエッジラインの内側へのオフセットラインをエッジラインとする図形である。したがって、図４の第２例においては、パターンＰのエッジラインに対し、当該エッジライン及び当該エッジラインの外側へのオフセットラインの２本のラインが用いられ、一部では、パターンＰのエッジラインに対し、当該エッジライン、当該エッジラインの外側へのオフセットライン及び内側へのオフセットラインの３本のラインが用いられる。

これにより、パターンＰのエッジ部に誤差Ｅ１，Ｅ２がある場合、検査画像において、誤差Ｅ１，Ｅ２は、強調され、見つけやすくなる。具体的には、図３の第１例においては、誤差Ｅ１，Ｅ２は、ラインが増えること、そして、図形Ｆ１と図形Ｆ２とが隙間Ｓを介在して並列することにより、パターンＰのエッジラインの非直線性が強調され、見つけやすくなる。図４の第２例においては、誤差Ｅ１は、ラインが増えること、そして、図形Ｆ２が現出すること、図形Ｆ１と図形Ｆ２とが隙間Ｓを介在して並列すること、他のパターンＰに係る図形Ｆ１との幅の違いが増幅されることにより、パターンＰの線幅の違いが強調され、見つけやすくなり、誤差Ｅ２は、ラインが増えること、そして、他のパターンＰに係る図形Ｆ１との幅の違いが増幅されることにより、パターンＰの線幅の違いが強調され、見つけやすくなる。このため、表示倍率を抑えての検査が可能となり、スループットを向上して検査時間を短くすることができる。また、誤差が見つけやすくなるため、検査精度を向上することができる。

なお、図３（ｂ）の誤差Ｅ１及び図４（ｂ）の誤差Ｅ１は、描画データよりもパターンＰの線幅が太くなる誤差である。図３（ｂ）の誤差Ｅ２及び図４（ｂ）の誤差Ｅ２は、描画データよりもパターンＰの線幅が細くなる誤差である。

検査画像データ作成部は、画像データ分割部と、単位検査画像データ作成部と、単位検査画像データ統合部とを備える。画像データ分割部は、フォトマスクの画像データをマトリクス状に分割する。単位検査画像データ作成部は、各分割画像データから、各分割画像に含まれるパターンの１つのエッジラインに対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む単位検査画像データを作成する。単位検査画像データ統合部は、各単位検査画像データを統合して検査画像データを作成する。

単位検査画像データ作成部は、第１画像処理部と、第２画像処理部と、第３画像処理部と、第４画像処理部と、第５画像処理部とを備える。第１画像処理部は、分割画像データをグレースケール画像データに変換した上で、黒のデータをグレースケールの画素数の半値に変換して中間グレーのデータに変換した第１中間データを作成する。第２画像処理部は、第１中間データをプラスサイジングして第２中間データを作成する。第３画像処理部は、第１中間データをマイナスサイジングして第３中間データを作成する。第４画像処理部は、第１中間データの画素と第２中間データの画素とを加算して第４中間データを作成する。第５画像処理部は、第４中間データの画素から第１中間データの画素を減算して単位検査画像データを作成する。

本実施形態に係るフォトマスクの検査装置１は、以上の構成からなる。次に、検査画像データ作成部による検査画像データ作成工程について説明する。

図５は、検査画像データ作成工程のフローチャートである。まず、フォトマスクの画像データは、マトリクス状に分割され、分割画像データが作成される（ステップ１、図６（ａ）及び（ｂ）、図９（ａ）及び（ｂ））。分割画像データは、たとえば１辺が１０μｍないし１００μｍの大きさの矩形状の画像データである。しかし、これに限定されることはなく、それ以下の大きさでも、それ以上の大きさでも可能である。要は、同一寸法で繰り返されるデザインであれば、画像を取り込むことは可能である。次に、複数の分割画像データの中から、１つの分割画像データが選択される（ステップ２、図６（ｃ１）ないし（ｃ３）、図９（ｃ１）ないし（ｃ３））。以下、この分割画像データに対し、第１画像処理部ないし第５画像処理部による画像処理が行われる。

第１画像処理部において、分割画像データは、グレースケール画像データに変換される（ステップ３）。そして、黒のデータがグレースケールの画素数の半値に変換されて中間グレーのデータに変換された第１中間データが作成される（ステップ４、図７（ａ１）ないし（ａ３）、図１０（ａ１）ないし（ａ３））。本実施形態においては、分割画像データは、２５６階調（８ｂｉｔ）のカラー画像であり、グレースケール画像データは、２５６階調（８ｂｉｔ）のグレースケール画像である。グレースケール画像データにおいて、パターン（遮光部）Ｐは、黒のデータ（画素値０）であり、透過部Ｔは、白のデータ（画素値２５５）である。したがって、第１中間データにおいて、パターンＰは、中間グレーのデータ（画素値１２７）となる。

次に、第２画像処理部において、第１中間データのプラスサイジング処理が行われ、第２中間データが作成される（ステップ５、図７（ｂ１）ないし（ｂ３）、図１０（ｂ１）ないし（ｂ３））。プラスサイジングとは、パターンＰのエッジラインを所定のオフセット量（第１オフセット量）でパターンＰの外側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データに変換することである。第１例（図７（ｂ１）ないし（ｂ３））では、オフセット量は、パターンＰの設計上の線幅（すなわち、フォトマスクの描画データにおけるパターンＰの線幅）の１／２よりも小さい量である。第２例（図１０（ｂ１）ないし（ｂ３））では、オフセット量は、パターンＰの設計上の線幅の１／２の量又はこれよりも僅かに大きい量である。

次に、第３画像処理部において、第１中間データのマイナスサイジング処理が行われ、第３中間データが作成される（ステップ６、図７（ｃ１）ないし（ｃ３）、図１０（ｃ１）ないし（ｃ３））。マイナスサイジングとは、パターンＰのエッジラインを所定のオフセット量（第２オフセット量）でパターンＰの内側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データに変換することである。第１例（図７（ｃ１）ないし（ｃ３））では、オフセット量は、プラスサイジングのときと同じ量であり、パターンＰの設計上の線幅の１／２よりも小さい量である。第２例（図１０（ｃ１）ないし（ｃ３））では、オフセット量は、プラスサイジングのときと同じ量であり、パターンＰの設計上の線幅の１／２の量又はこれよりも僅かに大きい量である。このため、第２例では、プラスの誤差がない限り、図形は消失する。

次に、第４画像処理部において、第２中間データと第３中間データの合成処理が行われ、第４中間データが作成される（ステップ７、図８（ａ１）ないし（ａ３）、図１１（ａ１）ないし（ａ３））。すなわち、第２中間データ及び第３中間データの対応する各画素が加算され（画素値でいえば、減算）、第４中間データが作成される。第２中間データの図形データの画素値と第３中間データの図形データの画素値は同じである。このため、第２中間データと第３中間データとが重ねられた第４中間データにおいて、第３中間データの図形データに相当する部分は、全体的に第２中間データの図形データに相当する部分とラップし、黒のデータ（画素値０）となる。

次に、第５画像処理部において、第１中間データと第４中間データの合成処理が行われ、単位検査画像データが作成される（ステップ８、図８（ｂ１）ないし（ｂ３）、図１１（ｂ１）ないし（ｂ３））。すなわち、第４中間データの画素から第１中間データの対応する画素が減算され（画素値でいえば、加算）、単位検査画像データが作成される。単位検査画像データにおいて、第３中間データの図形データに相当する部分は、黒のデータ（画素値０）から中間グレーのデータ（画素値１２７）に変換される。また、単位検査画像データにおいて、第１中間データの図形データに相当する部分のうち、第３中間データの図形データに相当する部分を除く部分は、中間グレーのデータ（画素値１２７）から白のデータ（画素値２５５）に変換される。

そして、ステップ３からステップ８までの一連の処理がすべての分割画像データに対して行われ、各分割画像データに対応する各単位検査画像データが作成されると（ステップ９がＹＥＳ）、各単位検査画像データが統合され、検査画像データが作成される（ステップ１０、図３（ｃ）、図４（ｃ））。これで、検査画像データ作成工程が終了する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

上記実施形態においては、第２中間データ、第３中間データ、第４中間データの順に作成する。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。たとえば、第３中間データを第２中間データよりも先に作成するようにしてもよい。また、第４中間データを作成せず、第１中間データから第３中間データの３つの中間データを同時的に合成処理して単位検査画像データを作成するようにしてもよい。また、第１中間データと第２中間データを合成処理した後、これと第３中間データを合成処理して単位検査画像データを作成したり、あるいは、第１中間データと第３中間データを合成処理した後、これと第２中間データを合成処理して単位検査画像データを作成するようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、第１オフセット量と第２オフセット量は同じである。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。第１オフセット量は、第２オフセット量よりも大きい量であってもよく、あるいは、第２オフセット量よりも小さい量であってもよい。

また、上記実施形態においては、画像表示部１６に検査画像データに係る検査画像が表示される。これ以外の表示態様としては、検査画像及びこれに対応するフォトマスクの画像データに係る画像の両方を並べて表示することも可能である。

また、検査画像データは、上記実施形態に記載されたものに限定されるものではなく、各種の形態を採用することができる。たとえば、図１２（ａ）に示す検査画像データは、上記実施形態に係る検査画像データの中間グレーのデータ（画素値１２７）を黒のデータ（画素値０）に変換したものである。図１２（ｂ）に示す検査画像データは、第４中間データ、すなわち、第２中間データ及び第３中間データの２つの中間データを合成処理して形成した画像データを単位検査画像データとするものである。図１２（ｃ）に示す検査画像データは、第１中間データ及び第２中間データの２つの中間データを合成処理して形成した画像データ（中間グレーのデータのままにしておくか、黒のデータに変換するかは任意）を単位検査画像データとするものである。図１２（ｄ）に示す検査画像データは、第１中間データ及び第３中間データの２つの中間データを合成処理して形成した画像データ（中間グレーのデータのままにしておくか、黒のデータに変換するかは任意）を単位検査画像データとするものである。

なお、図１２（ａ）、図１２（ｃ）及び図１２（ｄ）に示す検査画像データであって、黒のデータとする検査画像データについては、図５のフローチャートのステップ４の半値化処理は必須ではない。また、上記実施形態に係る検査画像データは、図１２（ａ）に示す検査画像データを作成した後、これを半値化処理して形成するようにしてもよい。

また、グレーの画素値が画素数の半値であることも必須ではない。要は、グレーを用いる場合、白、黒、そして、グレーの３値があればよく、この限りにおいて、グレーの画素値は特に限定されるものではない。

また、本発明は、ＦＰＤ用のフォトマスクに限らず、半導体用のフォトマスク等、各種のフォトマスクに適用できることはいうまでもない。

１…検査装置、１０…主デバイス、１１…制御部、１２…演算部、１３…記憶部、１４，１５…Ｉ／Ｆ部、１６…画像表示部、１７…入力部、２０…撮像デバイス、２１…制御部、２２…ステージ、２３…コラム、２４…キャリッジ、２５…撮像部、２６…ＸＹ駆動部、２７…記憶部、２８…Ｉ／Ｆ部、Ｅ１，Ｅ２…誤差、Ｆ１，Ｆ２…図形、Ｍ…フォトマスク、Ｐ…パターン（遮光部）、Ｓ…隙間、Ｔ…透過部

Claims (6)

1. フォトマスクの画像データを記憶する記憶部と、
   フォトマスクの画像データから検査画像データを作成する検査画像データ作成部と、
   検査画像データに係る検査画像を表示可能とする画像表示部とを備え、
   検査画像データ作成部は、
   フォトマスクの画像データをマトリクス状に分割する画像データ分割部と、
   各分割画像データから、各分割画像に含まれるパターンの１つのエッジラインに対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む単位検査画像データを作成する単位検査画像データ作成部と、
   各単位検査画像データを統合して検査画像データを作成する単位検査画像データ統合部とを備える
   フォトマスクの検査装置。
2. 単位検査画像データ作成部は、分割画像データから作成される第１中間データ、第１中間データにおけるパターンのエッジラインを第１オフセット量でパターンの外側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データを含む第２中間データ、及び、第１中間データにおけるパターンのエッジラインを第２オフセット量でパターンの内側にオフセットしたオフセットラインをエッジラインとする図形データを含む第３中間データ、の少なくとも２つの中間データを合成処理して単位検査画像データを作成する
   請求項１に記載のフォトマスクの検査装置。
3. 単位検査画像データ作成部は、第１中間データ、第２中間データ及び第３中間データの３つの中間データを合成処理して単位検査画像データを作成する
   請求項２に記載のフォトマスクの検査装置。
4. 第２オフセット量は、対象となるパターンの設計上の線幅の１／２より小さい量である
   請求項２又は請求項３に記載のフォトマスクの検査装置。
5. 第２オフセット量は、対象となるパターンの設計上の線幅の１／２以上の量である
   請求項２又は請求項３に記載のフォトマスクの検査装置。
6. フォトマスクの画像データをマトリクス状に分割し、各分割画像データから、各分割画像に含まれるパターンの１つのエッジラインに対して当該エッジライン又はこのオフセットラインであって少なくとも２本以上のラインが用いられる図形データを含む単位検査画像データを作成し、各単位検査画像データを統合して作成される検査画像データを用意し、
   検査画像データに係る検査画像を表示し、パターンのエッジ部における誤差の有無を検査する
   フォトマスクの検査方法。

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