JP7449215B2 - アライメント装置、アライメント方法、成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Description
図1は、電子デバイスの製造装置の一部の構成を模式的に示す平面図である。
図2は、本発明の一実施形態による成膜装置11の構成を示す模式図である。以下の説明においては、鉛直方向をZ方向とし、水平面をXY平面とするXYZ直交座標系を用いる。また、X軸まわりの回転角をθX、Y軸まわりの回転角をθY、Z軸まわりの回転角をθZで表す。
を含み、例えば、第2真空容器部212に接続された真空ポンプPによって真空容器21全体の内部空間が高真空状態に維持される。
基板WまたはマスクMを支持することができる。受け爪28は、駆動軸を持ち、基板WまたはマスクMの受取位置と基板WまたはマスクMと干渉しない退避位置の2位置を取ることができる。受け爪28は前記駆動軸と前記粗動Zステージ機構233により、一時的に受け取った基板Wを、成膜プロセスの際に基板Wが設置される基板吸着手段24に、同じく一時的に受け取ったマスクMを、成膜プロセスの際にマスクMが設置されるマスク台23に設置することができる。
以下、図2を参照して本発明の一実施形態による第1アライメント機構について説明する。
の際、一時的にマスクMを設置するマスク受けピン281を含む。
以下、図3a~3d、図4a、図4b、図5を参照して、本発明の一実施形態による磁気浮上ステージ機構22について説明する。
6つの自由度に(X方向、Y方向、Z方向、θX方向、θY方向、θZ方向に)移動させることができる。
(-Z)方向に力を受ける。逆に、コイル3141に流れる電流の方向を時計回りにすると、可動子315を上方(+Z)方向に移動させることができる。
することによって、Z軸を中心とした回転(θZ)方向の位置も測定することができる。また、Z方向レーザー干渉計323を複数設置することによって、X軸および/またはY軸を中心とした回転方向(θXまたはθY)の位置(つまり、微動ステージプレート部222の傾斜角度)も測定することができる。
32の下端がステージ基準プレート部221側に設けられた第1の磁石部331の下端よりも高くなるように(つまり、微動ステージプレート部222から、より遠くなるように)する。
を原点位置決め手段34として採用することで、微動ステージプレート部222の原点位置を一定に決めることができ、微動ステージプレート222の位置制御をより精密に行うことができる。
以下、本発明の第1アライメント機構を用いて、基板W及びマスクMを 第2アライメ
ント用カメラの視野内に入るよう調整を行う第1アライメント方法を基板WとマスクMそれぞれの場合について説明する。
成膜装置11の制御部は、粗動Zステージ機構233を駆動して、基板吸着手段24とマスク台23を相対的に接近させる。この際、制御部は、基板吸着手段24に吸着された基板Wとマスク台23によって支持されたマスクMとの間の距離が、予め設定された第2アライメント計測距離になるまで、基板吸着手段24とマスク台23を相対的に接近(例えば、マスク台23を上昇または基板Wを下降)させる。
ント用カメラにより、基板W及びマスクMのアライメントマークを撮像して、XYθ方向における基板WとマスクMの相対位置を測定し、これに基づき、これらの相対的位置ずれ量を算出する。
ント動作は、前述のように、通常、基板WとマスクMをできるだけ近接させた状態で行っている。例えば、基板WとマスクMとの間のギャップが約3~10μmに近接した状態でアライメント動作が行われる。このとき、例えばマスクMが上側に変形している場合や基板Wの厚みにばらつきがある場合などには、マスクMと基板Wを近接させた時に接触してしまうことがある。このような状況が発生した時に、行っていたアライメント動作を通常通りの制御ルーチンのままで継続すると、摩擦によってマスクやウエハ表面が損傷したり、アライメント動作が不安定になったりする不都合が生じる。
可能に構成されており、磁気浮上ユニット223の一構成要素としての、微動ステージプレート部222を駆動する駆動手段は、X方向磁気浮上リニアモーター(311:X-LM)、Y方向磁気浮上リニアモーター(312:Y-LM)、Z方向磁気浮上リニアモーター(313;Z-LM)を含む。これら各磁気浮上リニアモーター311~313は、それぞれのサーボドライバー(X-Dr、Y-Dr、Z-Dr)を介して制御部に連結され、制御部からの指令によるサーボドライバー(X-Dr、Y-Dr、Z-Dr)の制御によって、基板WとマスクM間の位置ずれ量で決められる目標移動位置に微動ステージプレート部222が移動するように該モーターの出力が制御される。また、制御部には、この目標移動位置への移動制御の際に、微動ステージプレート部222の位置確認のために、微動ステージプレート部222のXYZ方向の位置を測定する、レーザー干渉計と、これに対向設置された反射板でそれぞれ構成された、前述したX方向位置測定部(X-A)、Y方向位置測定部(Y-A)、Z方向位置測定部(Z-A)からの出力が入力される。
伴い下がり、よって、モーターの発振が防止され安定的なアライメントを行うことができる。
定の距離まで再び離間(例えば、基板Wを上昇)させた後、基板WとマスクMとの間の相対位置を調整し、同じ過程を繰り返す。
以下、本実施形態によるアライメント方法を採用した成膜方法について説明する。
Claims (12)
- 基板とマスクの位置ずれ量を検知する位置ずれ量検知手段と、
前記基板または前記マスクを相対移動させるための駆動手段と、
前記位置ずれ量検知手段によって検知された位置ずれ量に基づいて、前記駆動手段を制御し、前記基板と前記マスクの位置合わせを行う制御手段と、
前記駆動手段の駆動電流値の変動に基づいて、前記基板と前記マスクの接触を検知する接触検知手段と、を含み、
前記制御手段は、前記基板と前記マスクの位置合わせ動作中に前記接触検知手段によって検知される前記駆動手段の駆動電流値の変位量があらかじめ決められた基準値以下である場合、前記駆動手段の出力を低下させて前記位置合わせ動作を継続するように制御を行うことを特徴とするアライメント装置。 - 前記制御手段は、前記基板と前記マスクの位置合わせ動作中に前記接触検知手段によって検知される前記駆動手段の駆動電流値の変位量があらかじめ決められた基準値より大きい場合、前記位置合わせ動作を停止させ、前記基板と前記マスクを離隔させる方向へ相対移動させるように制御を行うことを特徴とする請求項1に記載のアライメント装置。
- 前記基板を吸着する基板吸着手段をさらに含み、
前記駆動手段は、基板を吸着した前記基板吸着手段を前記マスクに対し相対移動させるリニアモーターであることを特徴とする請求項1に記載のアライメント装置。 - 固定プレート部と、前記固定プレート部に対し磁気浮上した状態で相対移動可能な可動プレート部を有する磁気浮上ステージ機構をさらに含み、
前記基板吸着手段は、前記可動プレート部に設置され、
前記駆動手段は、前記可動プレート部を磁気浮上した状態で移動させるリニアモーターであることを特徴とする請求項3に記載のアライメント装置。 - 前記制御手段は、前記接触検知手段により接触が検知されることによって前記リニアモーターの出力を低下させる場合、前記リニアモーターが発振しない範囲内に前記駆動手段の駆動電流値が下がるように、前記リニアモーターの出力を低下させるように制御するこ
とを特徴とする請求項3に記載のアライメント装置。 - 基板にマスクを介して成膜材料を成膜するための成膜装置であって、真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、前記基板及び前記マスクを位置調整するための請求項1~5の何れか一項に記載のアライメント装置と、
前記真空容器内に設けられ、成膜材料を収納し、前記成膜材料を粒子化して放出するための成膜源と、を含むことを特徴とする成膜装置。 - 基板とマスクの位置ずれ量を検知する位置ずれ量検知手段と、前記基板または前記マスクを相対移動させるための駆動手段と、前記駆動手段を制御する制御手段を含む成膜装置を用いて、前記基板および前記マスクを位置調整するためのアライメント方法であって、
前記位置ずれ量検知手段により、前記基板と前記マスクの位置ずれ量を検知する位置ずれ量検知工程と、
検知された前記位置ずれ量に基づいて、前記制御手段により前記駆動手段を制御することで、前記基板と前記マスクの位置合わせを行う位置合わせ工程と、を含み、
前記制御手段は、前記位置合わせ工程中に、前記駆動手段に印加される駆動電流値の変動に基づいて、前記基板と前記マスクの接触を検知し、前記駆動手段の駆動電流値の変位量があらかじめ決められた基準値以下である場合、前記駆動手段の出力を低下させて前記位置合わせ工程を継続するように制御することを特徴とするアライメント方法。 - 前記制御手段は、前記基板と前記マスクの位置合わせ工程中に、前記駆動手段の駆動電流値の変位量があらかじめ決められた基準値より大きい場合、前記位置合わせ工程を停止させ、前記基板と前記マスクを離隔させる方向へ相対移動させるように制御を行うことを特徴とする請求項7に記載のアライメント方法。
- 前記成膜装置は、前記基板を吸着する基板吸着手段をさらに含み、前記駆動手段は、基板を吸着した前記基板吸着手段を前記マスクに対し相対移動させるリニアモーターであることを特徴とする請求項7に記載のアライメント方法。
- 前記成膜装置は、固定プレート部と、前記固定プレート部に対し磁気浮上した状態で相対移動可能な可動プレート部を有する磁気浮上ステージ機構とをさらに含み、前記基板吸着手段は、前記可動プレート部に設置され、前記駆動手段は、前記可動プレート部を磁気浮上した状態で移動させるリニアモーターであることを特徴とする請求項9に記載のアライメント方法。
- 前記制御手段は、前記基板と前記マスクの接触が検知されることによって前記リニアモーターの出力を低下させる場合、前記リニアモーターが発振しない範囲内に前記駆動手段の駆動電流値が下がるように、前記リニアモーターの出力を低下させるように制御することを特徴とする請求項9に記載のアライメント方法。
- 基板上にマスクを介して成膜材料を成膜するための成膜方法であって、
請求項7~11の何れか一項に記載のアライメント方法により、前記基板及び前記マスクを位置調整する工程と、
成膜源によって粒子化された成膜材料を、前記マスクを介して前記基板に成膜する工程と、
を含むことを特徴とする成膜方法。
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