JP7437424B2 - 湿度が制御された高水親和性型生成物の調製のための方法 - Google Patents
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Description
本発明は、適切な噴霧乾燥装置における噴霧乾燥によって湿度を制御した高水親和性型生成物の調製のための方法であって、以下の噴霧乾燥パラメータ：
を適用し、それによって、噴霧乾燥された高水親和性型生成物の含水量を１ｗ／ｗ％～２０ｗ／ｗ％の範囲に制御する、方法を含む。
オリゴヌクレオチド等の高水親和性型生成物は、しばしば凍結乾燥された固体形態の生成物を得るためのものである。その高い吸湿性のために、高水親和性型生成物の凍結乾燥粉末は、静電的に帯電し、自由流動しない傾向があり、したがって管理が非常に困難である。一定の湿度および管理可能な形態の粉末を達成するために、凍結乾燥粉末は、原則として、一定の温度および湿度の気候チャンバ内で水蒸気に暴露される追加のコンディショニング手順を受ける（国際公開第２０１８／２１５３９１号、第６９頁、５行目（特許文献１）参照）。
この余分な工程は、時間およびリソースを消費し、そのような生成物の大規模製造にとって不利である。
したがって、本発明の目的は、この余分なコンディショニング工程を回避し、湿度が制御された高水親和性型生成物を製造することを可能にする方法を見出すことであった。
本発明の目的は、湿度が制御された高水親和性型生成物の調製のための方法であって、高水親和性型生成物の水溶液が以下の噴霧乾燥パラメータ：
を適用して適切な噴霧乾燥装置において噴霧乾燥され、それによって、噴霧乾燥された高水親和性型生成物の含水量を１ｗ／ｗ％～２０ｗ／ｗ％の範囲に制御することを特徴とする、方法によって達成できることが見出された。
以下の定義は、本明細書において本発明を説明するために使用される種々の用語の意味および範囲を例示し、定義するために記載されている。
高水親和性型生成物という用語は、その分子構造に起因して高い極性、ならびに、したがって水に対して高い親和性を示す（およびそれによって、非常に高い吸湿性を示す）生成物を意味する。そのような生成物の例は、ペプチドまたはオリゴヌクレオチドである。
好ましい実施形態において、高水親和性型生成物という用語はオリゴヌクレオチドを表す。
[本発明1001]
湿度が制御された高水親和性型生成物の調製のための方法であって、前記高水親和性型生成物の水溶液が、以下の噴霧乾燥パラメータ：
を適用して適切な噴霧乾燥装置において噴霧乾燥され、それによって、噴霧乾燥された前記高水親和性型生成物の含水量を1ｗ／ｗ％～20ｗ／ｗ％の範囲に制御することを特徴とする、方法。
[本発明1002]
前記噴霧乾燥パラメータが、以下：
である、本発明1001の方法。
[本発明1003]
前記噴霧乾燥パラメータが、以下：
である、本発明1001または1002の方法。
[本発明1004]
ガス速度乾燥対供給速度の比が1～200、好ましくは10～150である、本発明1001～1003のいずれかの方法。
[本発明1005]
ガス速度ノズル対供給速度の比が0．5～10、好ましくは1～8である、本発明1001～1004のいずれかの方法。
[本発明1006]
前記適切な噴霧乾燥装置が、噴霧チャンバと、圧力滴もしくは2流体ノズルから、または回転噴霧器から選択される噴霧器とを含む、本発明1001～1005のいずれかの方法。
[本発明1007]
前記適切な噴霧乾燥装置が、噴霧チャンバと、2流体ノズルから選択される噴霧器とを含む、本発明1001～1006のいずれかの方法。
[本発明1008]
以下のさらなる噴霧乾燥パラメータ：
が適用される、本発明1001～1007のいずれかの方法。
[本発明1009]
前記噴霧乾燥パラメータ：
が適用される、本発明1008の方法。
[本発明1010]
噴霧乾燥された前記高水親和性型生成物の残留含水量が、5ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲、より好ましくは10ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲にある、本発明1001～1009のいずれかの方法。
[本発明1011]
噴霧乾燥されたオリゴヌクレオチドのバルク密度が、0．1ｇ／ｍｌ～0．5ｇ／ｍｌの範囲、好ましくは0．3ｇ／ｍｌ～0．5ｇ／ｍｌの範囲にある、本発明1001～1010のいずれかの方法。
[本発明1012]
前記高水親和性型生成物がオリゴヌクレオチドである、本発明1001～1011のいずれかの方法。
[本発明1013]
前記オリゴヌクレオチドが、任意に改変されたＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはその組合せからなり、10～40、好ましくは10～25ヌクレオチドの長さである、本発明1012の方法。
[本発明1014]
本発明1001～1013の噴霧乾燥方法によって得られる、高水親和性型生成物。
[本発明1015]
前記高水親和性型生成物がオリゴヌクレオチドであり、残留含水量が、1ｗ／ｗ％～20ｗ／ｗ％の範囲、好ましくは5ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲、より好ましくは10ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲にある、本発明1014の高水親和性型生成物。
[本発明1001]
湿度が制御された高水親和性型生成物の調製のための方法であって、前記高水親和性型生成物の水溶液が、以下の噴霧乾燥パラメータ：
[本発明1002]
前記噴霧乾燥パラメータが、以下：
[本発明1003]
前記噴霧乾燥パラメータが、以下：
[本発明1004]
ガス速度乾燥対供給速度の比が1～200、好ましくは10～150である、本発明1001～1003のいずれかの方法。
[本発明1005]
ガス速度ノズル対供給速度の比が0．5～10、好ましくは1～8である、本発明1001～1004のいずれかの方法。
[本発明1006]
前記適切な噴霧乾燥装置が、噴霧チャンバと、圧力滴もしくは2流体ノズルから、または回転噴霧器から選択される噴霧器とを含む、本発明1001～1005のいずれかの方法。
[本発明1007]
前記適切な噴霧乾燥装置が、噴霧チャンバと、2流体ノズルから選択される噴霧器とを含む、本発明1001～1006のいずれかの方法。
[本発明1008]
以下のさらなる噴霧乾燥パラメータ：
[本発明1009]
前記噴霧乾燥パラメータ：
[本発明1010]
噴霧乾燥された前記高水親和性型生成物の残留含水量が、5ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲、より好ましくは10ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲にある、本発明1001～1009のいずれかの方法。
[本発明1011]
噴霧乾燥されたオリゴヌクレオチドのバルク密度が、0．1ｇ／ｍｌ～0．5ｇ／ｍｌの範囲、好ましくは0．3ｇ／ｍｌ～0．5ｇ／ｍｌの範囲にある、本発明1001～1010のいずれかの方法。
[本発明1012]
前記高水親和性型生成物がオリゴヌクレオチドである、本発明1001～1011のいずれかの方法。
[本発明1013]
前記オリゴヌクレオチドが、任意に改変されたＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはその組合せからなり、10～40、好ましくは10～25ヌクレオチドの長さである、本発明1012の方法。
[本発明1014]
本発明1001～1013の噴霧乾燥方法によって得られる、高水親和性型生成物。
[本発明1015]
前記高水親和性型生成物がオリゴヌクレオチドであり、残留含水量が、1ｗ／ｗ％～20ｗ／ｗ％の範囲、好ましくは5ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲、より好ましくは10ｗ／ｗ％～15ｗ／ｗ％の範囲にある、本発明1014の高水親和性型生成物。
本明細書で用いられる「オリゴヌクレオチド」という用語は、２つ以上の共有結合したヌクレオチドを含む分子として当業者によって一般的に理解されるように定義される。治療的に価値のあるオリゴヌクレオチドとして使用するために、オリゴヌクレオチドは、典型的には、１０～４０ヌクレオチド、好ましくは１０～２５ヌクレオチドの長さとして合成される。
オリゴヌクレオチドは、任意に改変されていてもよいＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはそれらの組合せからなり得る。
ＬＮＡヌクレオシドモノマーは、ヌクレオチドのリボース糖環のＣ２’とＣ４’との間のリンカー基（ビラジクルまたは架橋と称される）を含む、改変ヌクレオシドである。これらのヌクレオシドは、文献において、架橋核酸または二環式核酸（ＢＮＡ）とも称される。
本明細書で使用される場合、任意に改変されていてもよいとは、糖部分または核酸塩基部分の１つ以上の改変の導入によって、等価なＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドと比較して改変されているヌクレオシドを指す。好ましい実施形態において、改変ヌクレオシドは改変糖部分を含み、例えば、１つ以上の２’置換ヌクレオシドおよび／または１つ以上のＬＮＡヌクレオシドを含む。改変ヌクレオシドという用語はまた、「ヌクレオシド類似体」または改変「ユニット」または改変「モノマー」という用語と互換的に使用されてもよい。
ＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドは、原則として、２つのヌクレオシドを互いに共有結合するホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）またはホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）ヌクレオシド間結合によって連結される。
したがって、いくつかのオリゴヌクレオチドにおいて、全てのヌクレオシド間結合がホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）からなっていてもよく、他のオリゴヌクレオチドにおいては、全てのヌクレオシド間結合がホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）からなっていてもよく、または他のオリゴヌクレオチドにおいては、ヌクレオシド間結合の配列が異なっており、ホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）とホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）の両方のヌクレオシド間結合を含む。
核酸塩基部分は、対応する各核酸塩基についての文字コード、例えば、Ａ、Ｔ、Ｇ、ＣまたはＵにより示されてもよく、ここで、各文字は、任意に等価機能の改変された核酸塩基を含んでもよい。例えば、例示されるオリゴヌクレオチドにおいて、核酸塩基部分は、ＬＮＡヌクレオシドについては大文字のＡ、Ｔ、ＧおよびＭｅＣ（５－メチルシトシン）を用いて、ＤＮＡヌクレオシドについては小文字のａ、ｔ、ｇ、ｃおよびＭｅＣを用いて記載される。改変核酸塩基としては、保護基を有する核酸塩基、例えば、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシアセチル、フェノキシアセチル、ベンゾイル、アセチル、イソブチリルまたはジメチルホルムアミジノ（ＷｉｋｉｐｅｄｉａのＰｈｏｓｐｈｏｒａｍｉｄｉｔ－Ｓｙｎｔｈｅｓｅ、ｈｔｔｐｓ：／／ｄｅ．ｗｉｋｉｐｅｄｉａ．ｏｒｇ／ｗｉｋｉ／Ｐｈｏｓｐｈｏｒａｍｉｄｉｔ－Ｓｙｎｔｈｅｓｅ、２０１６年３月２４日を参照のこと）が挙げられるが、これらに限定されない。
好ましくは、オリゴヌクレオチドは、任意に改変されていてもよいＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはそれらの組合せからなり、１０～４０、好ましくは１０～２５ヌクレオチドの長さである。
オリゴヌクレオチドは、アミノリンカーがオリゴヌクレオチドの５’末端基に結合していることを示すように５’アミノ改変されていてもよい。リンカーは、好ましくは、２～１２個の炭素原子の脂肪族アルキル基、または１～１０個のエチレングリコールユニットを含むエチレングリコールリンカーである。
好ましい５’アミノ改変剤は、アミノ基で保護されていてもよいアミノＣ２－１２－アルキルリンカーまたは１～１０個のエチレングリコールユニットを含有するアミノエチレングリコールリンカーから選択される。
５’アミノ改変オリゴヌクレオチドに適切なアミノ保護基は、トリフルオロアセチル（ＴＦＡ）またはモノメトキシトリチル（ＭＭＴ）である。
原則として、アミノリンカーは、市販のアミノリンカーホスホラミダイトを介して、例えば、Ｓｉｇｍａ ＡｌｄｒｉｃｈのＴＦＡ－またはＭＭＴ－Ｃ６－リンカーホスホラミダイトを介して、またはＧｌｅｎ Ｒｅｓｅａｒｃｈの５’アミノ改変剤ＴＥＧ（トリエチレングリコール）ＣＥホスホラミダイトを介して導入される。
オリゴヌクレオチド合成の原理は、当技術分野で周知である（例えば、無料百科事典であるＷｉｋｉｐｅｄｉａのＯｌｉｇｏｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、ｈｔｔｐｓ：／／ｅｎ．ｗｉｋｉｐｅｄｉａ．ｏｒｇ／ｗｉｋｉ／Ｏｌｉｇｏｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、２０１６年３月１５日を参照のこと）。
現在、大規模なオリゴヌクレオチド合成は、コンピュータ制御合成装置を使用して自動的に行われている。
原則として、オリゴヌクレオチド合成は固相合成であり、ここで、組み立てられるオリゴヌクレオチドは、その３’末端ヒドロキシ基を介して固体支持体材料に共有結合し、鎖組み立ての全過程にわたってそこに結合したままである。適切な支持体は、ＧＥ ＨｅａｌｔｈｃａｒｅのＰｒｉｍｅｒ ｓｕｐｐｏｒｔ ５ＧまたはＫｉｎｏｖａｔｅのＮｉｔｔｏＰｈａｓｅ（登録商標）ＨＬ ｓｕｐｐｏｒｔのような市販のマクロ多孔質ポリスチレン支持体である。
オリゴヌクレオチド合成は、原則として、所望の配列が組み立てられるまで、伸長中の鎖の５’末端にヌクレオチド残基を段階的に付加することである。
一般的に、各添加は合成サイクルと呼ばれ、原則として以下の化学反応、
ａ１）固体支持体上の保護されたヒドロキシル基を脱ブロックすること、
ａ２）第１のヌクレオシドを活性化ホスホラミダイトとして前記固体支持体上の遊離ヒドロキシル基とカップリングさせること、
ａ３）それぞれのＰ結合ヌクレオシドを酸化または硫化して、それぞれのホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）またはそれぞれのホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）を形成すること、
ａ４）任意に、固体支持体上の任意の未反応ヒドロキシル基をキャッピングすること、
ａ５）固体支持体に結合した第１のヌクレオシドの５’ヒドロキシル基を脱ブロックすること、
ａ６）第２のヌクレオシドを活性化ホスホラミダイトとしてカップリングして、それぞれのＰ結合二量体を形成すること、
ａ７）それぞれのＰ結合ジヌクレオシドを酸化または硫化して、それぞれのホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）またはそれぞれのホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）を形成すること、
ａ８）任意に、任意の未反応の５’ヒドロキシル基をキャッピングすること、
ａ９）所望の配列が組み立てられるまで、前述の工程ａ５～ａ８を繰り返すこと
からなる。
ａ１）固体支持体上の保護されたヒドロキシル基を脱ブロックすること、
ａ２）第１のヌクレオシドを活性化ホスホラミダイトとして前記固体支持体上の遊離ヒドロキシル基とカップリングさせること、
ａ３）それぞれのＰ結合ヌクレオシドを酸化または硫化して、それぞれのホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）またはそれぞれのホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）を形成すること、
ａ４）任意に、固体支持体上の任意の未反応ヒドロキシル基をキャッピングすること、
ａ５）固体支持体に結合した第１のヌクレオシドの５’ヒドロキシル基を脱ブロックすること、
ａ６）第２のヌクレオシドを活性化ホスホラミダイトとしてカップリングして、それぞれのＰ結合二量体を形成すること、
ａ７）それぞれのＰ結合ジヌクレオシドを酸化または硫化して、それぞれのホスホジエステル（Ｐ＝Ｏ）またはそれぞれのホスホロチオエート（Ｐ＝Ｓ）を形成すること、
ａ８）任意に、任意の未反応の５’ヒドロキシル基をキャッピングすること、
ａ９）所望の配列が組み立てられるまで、前述の工程ａ５～ａ８を繰り返すこと
からなる。
その後の樹脂からの切断は、濃アンモニア水を用いて行うことができる。リン酸塩基およびヌクレオチド塩基上の保護基もこの切断手順内で除去される。
さらなる実施形態において、オリゴヌクレオチドは、オリゴヌクレオチドを所与の受容体、例えばアシアロ糖タンパク質（ａｓｙａｌｇｌｙｃｏｐｒｏｔｅｉｎ）に標的化するための細胞標的化部分を含み得る（Ｘ．Ｈｕａｎｇ ｅｔ ａｌ，Ｂｉｏｃｏｎｊｕｇａｔｅ．Ｃｈｅｍ．２０１７，２８，２８３－２９５参照）。
好ましい実施形態において、細胞標的化部分は、１～３個のＮ－アセチルガラクトサミン（ＧａｌＮＡｃ）リガンドを含む。
細胞標的化部分を含む典型的なＧａｌＮＡｃは、以下：
または式
（式中、Ｒ２は水素またはヒドロキシ保護基であり、ｎは０～１０の整数、好ましくは０～５の整数、より好ましくは１～３の整数であるが、最も好ましいのは２である）の部分、その鏡像異性体および／または立体異性体から選択され得る。
適切なヒドロキシ保護基は、アシル、特にＣ１－１２－アルキルカルボニル基、より具体的にはＣ１－６－アルキルまたはフェニルで置換されていてもよいＣ１－６－アルキルカルボニル基である。アセチル、ピバロイルまたはベンゾイルがより好ましく、アセチルが最も好ましいヒドロキシ保護基である。
より好ましい実施形態において、細胞標的化部分を含むＧａｌＮＡｃは、式Ｖの部分から選択され得る。
さらに好ましい実施形態において、オリゴヌクレオチドは、上記の５’アミノ改変オリゴヌクレオチドを含むＧａｌＮＡｃオリゴヌクレオチドコンジュゲートである。
高水親和性型生成物の精製は、原則として生成物の種類について当業者に公知の方法に従う。
典型的には、精製はクロマトグラフィー、濃縮および単離の工程を含むが、クロマトグラフィーおよび濃縮工程は繰り返し適用することができる。
好ましい高水親和性型生成物としてのオリゴヌクレオチドについての、適切な精製手順は、一連の工程
ａ）クロマトグラフィー
ｂ）濃縮
ｃ）単離
または好ましくは、
ｄ）陰イオン交換クロマトグラフィーまたは逆相クロマトグラフィー
ｅ）接線流濾過
ｆ）凍結乾燥
を含む。
ａ）クロマトグラフィー
ｂ）濃縮
ｃ）単離
または好ましくは、
ｄ）陰イオン交換クロマトグラフィーまたは逆相クロマトグラフィー
ｅ）接線流濾過
ｆ）凍結乾燥
を含む。
クロマトグラフィーという用語は、陰イオン交換クロマトグラフィーまたは逆相クロマトグラフィーおよびそれらの組合せの方法を含む。
陰イオン交換クロマトグラフィーは、試料溶液の荷電イオンと使用される緩衝媒体との競合的相互作用に基づく。これは、従来の市販の陰イオン交換樹脂、好ましくはトリメチルアンモニウム官能化を有する陰イオン交換樹脂を用いて行うことができる。これらの相材料は、例えばＧＥ Ｈｅａｌｔｈｃａｒｅ、Ｔｏｓｏｈ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅ、Ｂｉｏ－ＲａｄまたはＭｅｒｃｋから得ることができる。Ｔｏｓｏｈ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅから入手可能な陰イオン交換樹脂ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ Ｑ－５ ＰＷ（ＱＡＥ）で特に良好な結果が達成された。
逆相クロマトグラフィーは、固定相としての改変シリカゲル吸着剤等の従来の市販の相材料、ならびにアセトニトリル等の適切な有機溶媒、および適用可能であれば緩衝液を用いて行うことができる。適切な改変シリカゲル型相材料は、Ｋｒｏｍａｓｉｌ（商標）Ｃ１８、Ｋｒｏｍａｓｉｌ（商標）Ｃ８、ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８およびＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ８から選択することができる。ＹＭＣ製のＴｒｉａｒｔ Ｐｒｅｐ Ｃ８－Ｓを用いて、特定の良好な結果が達成された。
濃縮という用語は、接線流濾過または蒸発およびそれらの組合せの方法を含む。
接線流濾過またはクロスフロー濾過では、供給液は透過側に対して正圧で（接線方向に）フィルタ膜を通過する。膜孔径より小さい材料の部分は、透過液または濾液として膜を通過し、その他はすべて、保持液として膜の供給液側に保持される。接線流濾過の原理は、ナノ濾過、限外濾過、ダイアフィルトレーションおよび精密濾過方法においても使用される。適切な膜は、例えばＭｅｒｃｋ ＭｉｌｌｉｐｏｒｅからＰｅｌｌｉｃｏｎ（商標）の商品名で市販されている。適切な膜は、３ｋＤＡ以下の分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）を有する。ＭＷＣＯがそれぞれ１ｋＤＡまたは３ｋＤＡのＭｅｒｃｋ Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｐｅｌｌｉｃｏｎ ２および３膜が好ましい。
上記で概説したように、湿度が制御された高水親和性型生成物の調製のための方法は、高水親和性型生成物の水溶液が、以下の噴霧乾燥パラメータ：
を適用して適切な噴霧乾燥装置において噴霧乾燥され、それによって、噴霧乾燥された高水親和性型生成物の含水量を１ｗ／ｗ％～２０ｗ／ｗ％の範囲に制御することを特徴とする。
好ましい実施形態において、噴霧乾燥パラメータは以下の通りである：
より好ましい実施形態において、噴霧乾燥パラメータは以下の通りである：
方法パラメータは、原則として、適用される噴霧乾燥装置に依存する。
しかしながら、ガス速度乾燥／供給速度の比およびガス速度ノズル／供給速度の比は、乾燥チャンバのサイズおよび噴霧器の種類から独立した無次元パラメータである。
したがって、典型的には、ガス速度乾燥対供給速度の比は、１～２００、好ましくは１０～１５０で選択され、ガス速度ノズル対供給速度の比は、０．５～１０、好ましくは１～８である。
本発明の方法に適用される噴霧乾燥装置は、噴霧器を備えた噴霧チャンバと、噴霧乾燥粉末を収集するための例えばサイクロン等の可能な後続装置と、残存粒子からガスを洗浄するためのフィルタユニットとを備える、一般的な最新技術の装置である。
噴霧器は、供給溶液を小さな液滴の形態で噴霧チャンバ内に微細に分散させ、高温ガスに曝露する目的を果たす。
ガスは、原則として不活性ガス、典型的には窒素である。
噴霧器は、通常、圧力滴もしくは２流体ノズルまたは回転噴霧器から選択される。
一般的な噴霧乾燥装置は、例えば、Ｇｅａ（Ｎｉｒｏ ＳＤ Ｍｉｃｒｏ）、Ａｎｈｙｄｒｏ（ＳＰＸ）またはＢｕｅｃｈｉ（Ｂｕｅｃｈｉ Ｍｉｎｉ）から市販されている。
パラメータの組合せは、分散液滴の乾燥を決定し、最終的に噴霧乾燥された生成物の湿度を制御する。
好ましい実施形態において、２流体ノズルが使用される。
典型的なさらなる乾燥パラメータは以下の通りである：
噴霧乾燥された高水親和性型生成物の残留含水量は、好ましくは５ｗ／ｗ％～１５ｗ／ｗ％の範囲、より好ましくは１０ｗ／ｗ％～１５ｗ／ｗ％の範囲に制御することができる。
噴霧乾燥された高水親和性型生成物のバルク密度は、０．１ｇ／ｍｌ～０．５ｇ／ｍｌの範囲、好ましくは０．３ｇ／ｍｌ～０．５ｇ／ｍｌの範囲に調整することができる。
上記に概説したように、好ましい高水親和性型生成物は、オリゴヌクレオチド、好ましくは、任意に改変されたＤＮＡ、ＲＮＡもしくはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはそれらの組合せからなり、１０～４０、好ましくは１０～２５ヌクレオチドの長さであり、任意に５’アミノ改変され、上記で定義した細胞標的化部分を含むＧａｌＮＡｃを含むオリゴヌクレオチドである。
例示として、以下のオリゴヌクレオチドを選択し：
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５｀－ｃａＧ＊ＭｅＣ＊Ｇ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ａ＊ｇ＊ａ＊Ｇ＊Ｇ－３｀
５’－Ｔ＊Ｇ＊Ｇ＊ｃ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊ｃ＊Ｔ＊Ｇ＊Ｔ＊ａ－３’
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５｀－ｃａＣ＊Ｃ＊ｔ＊ａ＊ｔ＊ｔ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊Ａ＊Ｇ＊Ａ＊Ｃ－３｀
式中、ＡＭ－Ｃ６はＣ６アミノリンカーを意味し、＊はホスホロチオエート架橋を表し、Ａ、Ｇ、ＴおよびＭｅＣ（５－メチルシトシン）はＬＮＡヌクレオシドモノマーであり、ａ、ｔ、ｃ、ｇはＤＮＡヌクレオシドモノマーであり、ＧＮ２は上記の式ＶのＧａｌＮＡｃクラスター部分である（ｎ＝２；Ｒ２＝アセチル）。
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５｀－ｃａＧ＊ＭｅＣ＊Ｇ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ａ＊ｇ＊ａ＊Ｇ＊Ｇ－３｀
５’－Ｔ＊Ｇ＊Ｇ＊ｃ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊ｃ＊Ｔ＊Ｇ＊Ｔ＊ａ－３’
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５｀－ｃａＣ＊Ｃ＊ｔ＊ａ＊ｔ＊ｔ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊Ａ＊Ｇ＊Ａ＊Ｃ－３｀
式中、ＡＭ－Ｃ６はＣ６アミノリンカーを意味し、＊はホスホロチオエート架橋を表し、Ａ、Ｇ、ＴおよびＭｅＣ（５－メチルシトシン）はＬＮＡヌクレオシドモノマーであり、ａ、ｔ、ｃ、ｇはＤＮＡヌクレオシドモノマーであり、ＧＮ２は上記の式ＶのＧａｌＮＡｃクラスター部分である（ｎ＝２；Ｒ２＝アセチル）。
本明細書に開示される化合物は、以下の核酸塩基配列
配列番号１：ｃａｇｃｇｔａａａｇａｇａｇｇ’
配列番号２：ｔｇｇｃａａｇｃａｔｃｃｔｇｔａ
配列番号３：ｃａｃｃｔａｔｔｔａａｃａｔｃａｇａｃ
を有する。
配列番号１：ｃａｇｃｇｔａａａｇａｇａｇｇ’
配列番号２：ｔｇｇｃａａｇｃａｔｃｃｔｇｔａ
配列番号３：ｃａｃｃｔａｔｔｔａａｃａｔｃａｇａｃ
を有する。
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５’－ｃａＧ＊ＭｅＣ＊Ｇ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ａ＊ｇ＊ａ＊Ｇ＊Ｇ－３’の調製
表題生成物を国際公開第２０１８／２１５３９１号の実施例３Ｂにしたがって調製し、実施例４Ｂ１にしたがって精製した。
表題生成物を国際公開第２０１８／２１５３９１号の実施例３Ｂにしたがって調製し、実施例４Ｂ１にしたがって精製した。
実施例１
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５’－ｃａＧ＊ＭｅＣ＊Ｇ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ａ＊ｇ＊ａ＊Ｇ＊Ｇ－３’の噴霧乾燥
１３ｇの表題オリゴヌクレオチドを室温で１１７ｇの水に溶解した。この溶液を、並流２流体ノズル（φ０．５ｍｍ、温度５０℃、窒素霧化流速０．８ｋｇ／時間）を介してＮｉｒｏ ＳＤＭＩＣＲＯ（商標）（ＧＥＡ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ａ／Ｓ，Ｓｏｅｂｏｒｇ Ｄｅｎｍａｒｋ）に供給した。供給液を、１０ｇ／分の液体供給速度および１５ｋｇ／時間の窒素流速で、高温窒素流（入口温度２２０℃）に微粒化した。約７０℃の出口温度が得られた。生成した固体を、乾燥チャンバに接続されたサイクロンによってガス流からガラス瓶に分離した：１１．４ｇの固体を、１２．３ｗ／ｗ％の残留含水量（含水量９０％について補正した単離収率）および０．４５ｇ／ｍＬのバルク密度で回収した。
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５’－ｃａＧ＊ＭｅＣ＊Ｇ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ａ＊ｇ＊ａ＊Ｇ＊Ｇ－３’の噴霧乾燥
１３ｇの表題オリゴヌクレオチドを室温で１１７ｇの水に溶解した。この溶液を、並流２流体ノズル（φ０．５ｍｍ、温度５０℃、窒素霧化流速０．８ｋｇ／時間）を介してＮｉｒｏ ＳＤＭＩＣＲＯ（商標）（ＧＥＡ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ａ／Ｓ，Ｓｏｅｂｏｒｇ Ｄｅｎｍａｒｋ）に供給した。供給液を、１０ｇ／分の液体供給速度および１５ｋｇ／時間の窒素流速で、高温窒素流（入口温度２２０℃）に微粒化した。約７０℃の出口温度が得られた。生成した固体を、乾燥チャンバに接続されたサイクロンによってガス流からガラス瓶に分離した：１１．４ｇの固体を、１２．３ｗ／ｗ％の残留含水量（含水量９０％について補正した単離収率）および０．４５ｇ／ｍＬのバルク密度で回収した。
実施例２～３１
以下の実施例は、実施例１にしたがって行われているが、重要なパラメータは変更されている。
＊ガス速度乾燥／供給速度比およびガス速度ノズル／供給速度比は、乾燥チャンバおよび噴霧器のサイズから独立した無次元パラメータである。
以下の実施例は、実施例１にしたがって行われているが、重要なパラメータは変更されている。
選択されたバルク密度：
比較例
表題生成物を国際公開第２０１８／２１５３９１号の実施例３Ｂにしたがって調製し、実施例４Ｂ１にしたがって精製し、実施例４Ｂ２にしたがって凍結乾燥した。
表題生成物を国際公開第２０１８／２１５３９１号の実施例３Ｂにしたがって調製し、実施例４Ｂ１にしたがって精製し、実施例４Ｂ２にしたがって凍結乾燥した。
得られた材料は、非常に吸湿性があり、静電的に帯電し、自由流動性がなく、したがって管理が困難である。
したがって、この材料を２１℃、５０％相対湿度の気候チャンバで重量が一定になるまでコンディショニングし、これは４８時間後に達成された。
実施例３２～３４
実施例３２～３４は、以下のＬＮＡ
５’－Ｔ＊Ｇ＊Ｇ＊ｃ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊ｃ＊Ｔ＊Ｇ＊Ｔ＊ａ－３’（実施例３２および３３）
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５’－ｃａＣ＊Ｃ＊ｔ＊ａ＊ｔ＊ｔ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊Ａ＊Ｇ＊Ａ＊Ｃ－３’（実施例３４）
を用いて、実施例１にしたがって行った。
実施例３２～３４は、以下のＬＮＡ
５’－Ｔ＊Ｇ＊Ｇ＊ｃ＊ａ＊ａ＊ｇ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊ｃ＊Ｔ＊Ｇ＊Ｔ＊ａ－３’（実施例３２および３３）
ＧＮ２－ＡＭ－Ｃ６－５’－ｃａＣ＊Ｃ＊ｔ＊ａ＊ｔ＊ｔ＊ｔ＊ａ＊ａ＊ｃ＊ａ＊ｔ＊ｃ＊Ａ＊Ｇ＊Ａ＊Ｃ－３’（実施例３４）
を用いて、実施例１にしたがって行った。
Claims (10)
- 湿度が制御されたオリゴヌクレオチドの調製のための方法であって、前記オリゴヌクレオチドの水溶液が、以下の噴霧乾燥パラメータ：
を適用することにより、乾燥チャンバと；圧力滴ノズルもしくは２流体ノズルから、または回転噴霧器から選択される噴霧器を備えた噴霧チャンバと；噴霧乾燥粉末を収集するためのサイクロンと；残存粒子からガスを洗浄するためのフィルタユニットとを備える噴霧乾燥装置において噴霧乾燥され、それによって、噴霧乾燥された前記オリゴヌクレオチドの含水量を５ｗ／ｗ％～１５ｗ／ｗ％の範囲に制御することを特徴とする、方法。
- 噴霧乾燥装置に送られるオリゴヌクレオチドの水溶液の供給速度に対する乾燥チャンバに送られる高温窒素流（ガス）の流速の比が１０～１５０である、請求項１に記載の方法。
- 噴霧乾燥装置に送られるオリゴヌクレオチドの水溶液の供給速度に対する噴霧器のノズルに送られる高温窒素流（ガス）の流速の比が１～８である、請求項１または２に記載の方法。
- 前記噴霧乾燥装置が、噴霧チャンバと、２流体ノズルを備えた噴霧器とを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
- 前記噴霧乾燥装置が、Ｎｉｒｏ ＳＤＭＩＣＲＯ（商標）（ＧＥＡ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ａ／Ｓ，Ｓｏｅｂｏｒｇ Ｄｅｎｍａｒｋ）、ＳＰＸ（Ａｎｈｙｄｒｏ）、またはＢｕｅｃｈｉ Ｍｉｎｉ（Ｂｕｅｃｈｉ）から選択される、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
- 噴霧乾燥されたオリゴヌクレオチドの残留含水量が、１０ｗ／ｗ％～１５ｗ／ｗ％の範囲にある、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
- 噴霧乾燥されたオリゴヌクレオチドのバルク密度が、０．１ｇ／ｍｌ～０．５ｇ／ｍｌの範囲にある、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
- 噴霧乾燥されたオリゴヌクレオチドのバルク密度が、０．３ｇ／ｍｌ～０．５ｇ／ｍｌの範囲にある、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
- 前記オリゴヌクレオチドが、任意に改変されたＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはその組合せからなり、１０～４０ヌクレオチドの長さである、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。
- 前記オリゴヌクレオチドが、任意に改変されたＤＮＡ、ＲＮＡまたはＬＮＡヌクレオシドモノマーまたはその組合せからなり、１０～２５ヌクレオチドの長さである、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。
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