JP7435187B2 - 定量液供給装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 109
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 44
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 143
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 94
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 35
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 13
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
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Description
図2は、電解液供給装置20の縦断面図である。電解液供給装置20は、それぞれが鉛直方向に延設された流入室(第3室)21、供給室(第1室)22および排出室(第2室)23を有している。
図5は、部分めっき装置30の斜視図である。図6は、部分めっき装置30の縦断面図である。
図12は、本実施の形態に係るめっきシステム10の一例を示す概略図である。めっきシステム10は、上述した電解液供給装置20、部分めっき装置30、および電解液吸引装置33以外に、ポンプ50,51および管理槽52を備えている。
20 電解液供給装置(定量液供給装置)
21 流入室(第3室)
211 液流入口
22 供給室(第1室)
221 液供給口
23 排出室(第2室)
231 液排出口
24 第1隔壁(補助隔壁)
25 第2隔壁(流量制御用隔壁)
251 隔壁板
252 可動壁
30 部分めっき装置
31 電解液循環構造体
311 電解液流入口
312 電解液流出口
313 電解液導入路
314 電解液拡散路
315 電解液収縮路
316 電解液排出路
317 窓部
318 角部
32 被めっき物搬送構造体
33 電解液吸引装置
40 搬送ベルト
50,51 ポンプ
52 管理槽
P 被めっき物
Claims (4)
- 液体を一定流量で連続的に供給する定量液供給装置であって、
液流入口を介して外部から流入する液体が流れ込むと共に、底部に液供給口を有する第1室と、
平面視で前記第1室と隣接するように配置され、底部に液排出口を有する第2室とを有し、
前記第1室と前記第2室との間には流量制御用隔壁が設けられ、かつ、前記第1室および前記第2室の上部が連通しており、
前記流量制御用隔壁は複数の隔壁板を高さ方向に積み重ねて構成されており、前記隔壁板の枚数を変更することで前記流量制御用隔壁の高さを調整可能である
ことを特徴とする定量液供給装置。 - 液体を一定流量で連続的に供給する定量液供給装置であって、
液流入口を介して外部から流入する液体が流れ込むと共に、底部に液供給口を有する第1室と、
平面視で前記第1室と隣接するように配置され、底部に液排出口を有する第2室とを有し、
前記第1室と前記第2室との間には流量制御用隔壁が設けられ、かつ、前記第1室および前記第2室の上部が連通しており、
前記流量制御用隔壁の一部が高さ方向にスライド可能な可動壁とされており、前記可動壁をスライド移動させることで前記流量制御用隔壁の高さを調整可能であることを特徴とする定量液供給装置。 - 請求項1または2に記載の定量液供給装置であって、
平面視で前記第1室と隣接するように配置され、前記液流入口を有する第3室を有し、
前記第1室と前記第3室との間には補助隔壁が設けられ、かつ、前記第1室および前記第3室の上部が連通していることを特徴とする定量液供給装置。 - 請求項1から3の何れか1項に記載の定量液供給装置であって、
前記液供給口における流路面積を調整可能であることを特徴とする定量液供給装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020069947A JP7435187B2 (ja) | 2020-04-08 | 2020-04-08 | 定量液供給装置 |
CN202110270235.2A CN113495585A (zh) | 2020-04-08 | 2021-03-12 | 定量液体供给装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020069947A JP7435187B2 (ja) | 2020-04-08 | 2020-04-08 | 定量液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021166008A JP2021166008A (ja) | 2021-10-14 |
JP7435187B2 true JP7435187B2 (ja) | 2024-02-21 |
Family
ID=77997390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020069947A Active JP7435187B2 (ja) | 2020-04-08 | 2020-04-08 | 定量液供給装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7435187B2 (ja) |
CN (1) | CN113495585A (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR856772A (fr) * | 1939-03-10 | 1940-08-07 | Soc Fr Regulateurs Arca | Dispositif de mesure de perte de charge et de débit d'un fluide dans une conduite |
FR1406918A (fr) * | 1964-09-07 | 1965-07-23 | Pista Sa | Procédé de commande du débit de liquide d'un canal muni d'un déversoir, et installation pour la mise en oeuvre de ce procédé |
JPH061411B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1994-01-05 | 動力炉・核燃料開発事業団 | 流量可変式給液装置 |
JP4286975B2 (ja) * | 1999-06-21 | 2009-07-01 | 株式会社山幸 | 流量調整槽及び定流出量調整方法 |
CN2816041Y (zh) * | 2005-08-09 | 2006-09-13 | 黄荣厦 | 溢流式流延装置 |
CN200982872Y (zh) * | 2005-12-22 | 2007-11-28 | 北京方正稀土科技研究所有限公司 | 一种流量稳定的分流流量计 |
CN101008854A (zh) * | 2006-01-25 | 2007-08-01 | 北京新联铁科贸有限公司 | 一种炒菜机的液体料计量装置 |
US7757891B2 (en) * | 2007-03-14 | 2010-07-20 | Chemflow Systems, Inc. | Method and apparatus for providing constant liquid rates and dispensing precisely repeatable liquid volumes |
CN201664437U (zh) * | 2010-01-12 | 2010-12-08 | 温华丽 | 医用引流液计量装置 |
CN202090088U (zh) * | 2011-03-29 | 2011-12-28 | 湖南师范大学 | 一种连续电镀液面高度自动控制装置 |
CN210166665U (zh) * | 2019-08-16 | 2020-03-20 | 中国核电工程有限公司 | 一种应用于液体贮槽类设备的液位控制结构 |
-
2020
- 2020-04-08 JP JP2020069947A patent/JP7435187B2/ja active Active
-
2021
- 2021-03-12 CN CN202110270235.2A patent/CN113495585A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021166008A (ja) | 2021-10-14 |
CN113495585A (zh) | 2021-10-12 |
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