JP7434446B2 - ミスト処理装置 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、殺菌水をミストの状態で対象物に噴霧するミスト処理装置に関する。

近年、生活における様々な物、場所での衛生面や健康面の観点から、これらを殺菌することが求められている。今日まで、これらの殺菌には、次亜塩素酸ナトリウムに代表される殺菌水が使用されている。

しかしながら、食品、青果物、衣類、畜舎、居住空間など、１）濡らせない対象物（濡らすことでダメージを受けてしまうモノ、濡らすことで使用できなくなるモノなど）、２）もしくは形状的に液体が細部まで到達しない構造を持つもの、もしくは対象物に撥水性があり液体が細部まで届かないもの、に対してウェットプロセス以外の殺菌、脱臭対策が求められている。これを解決するため、例えば、電解水の次亜塩素酸成分をドライミスト状態で空間噴霧することにより、ドライプロセス処理にて対象物を濡らすことなく殺菌することが可能であり、様々な用途での使用が考えられる。

しかし、次亜塩素酸成分は腐蝕性があること、次亜塩素酸成分の空間噴霧に伴い、微量の塩素ガスが発生する場合があることから、環境や人体への影響を考慮すると、密閉空間で実施することが望ましい。また、次亜塩素酸成分の噴霧に伴い水分が放出される。そのため、密閉空間で噴霧を行う場合、放出された水分を回収しないと密閉空間の温度が増加する。気化方式の噴霧装置では、温度増加に伴いドライミスト放出量が減少する。更に、超音波方式の噴霧装置では、放出された水分が噴霧空間で結露する問題が発生する。

噴霧空間中の水分回収方法として、例えば、デシカント方式やコンプレッサ方式の除湿機構を用いることで噴霧空間内の湿度を低減できるが、装置全体の構成が複雑化する。また、除湿機構で発生する熱により噴霧空間の温度が上昇してしまう問題がある。

特開平８－７１１３６号公報

本実施形態の課題は、殺菌成分を含むミストを対象物に安定して供給することが可能なミスト処理装置を提供することにある。

実施形態によれば、ミスト処理装置は、対象物を載置可能な噴霧空間を規定するハウジングと、殺菌成分を含むミストを前記噴霧空間に噴霧し前記対象物に供給する噴霧装置と、前記ミストを含む空気を前記噴霧空間から前記ハウジングの外部に排気する排気機構と、前記噴霧空間に前記対象物が設置された状態で前記噴霧装置および前記排気機構を駆動して前記ミストの噴霧を開始するコントローラと、を備えている。
また、前記課題を解決するために本発明は以下のような手段を取ることもできる。
（１）対象物を載置可能な噴霧空間を規定するハウジングと、
殺菌成分を含むミストを前記噴霧空間に噴霧し前記対象物に供給する噴霧装置と、
前記ミストおよび水分を含む空気を前記噴霧空間から前記ハウジングの外部に排気する
排気機構と、
を備えるミスト処理装置。
（２）前記排気機構は、前記ハウジングに設けられた排気口と、前記排気口に設けられた排気フィルタと、前記排気口および前記排気フィルタを通して、前記噴霧空間から前記ミストおよび水分を含む空気を外部に排気する排気ファンと、を備えている（１）に記載のミスト処理装置。
（３）前記排気フィルタは、前記殺菌成分を吸着あるいは失活する吸着材あるいは失活材を含んでいる（２）に記載のミスト処理装置。
（４）前記排気ファンは、前記ハウジングの外に設けられ、前記排気口に対向している（２）又は（３）に記載のミスト処理装置。
（５）前記排気機構は、前記排気口に装着され、前記噴霧空間に開口する一端と、前記ハウジングの外部に開口する他端とを有する排気筒を備え、前記排気フィルタは前記排気筒内に配置されている（２）又は（３）に記載のミスト処理装置。
（６）前記ハウジングは、前記噴霧空間に対象物を出し入れするための挿入口、および前記挿入口を開閉する扉を備えている(１)に記載のミスト処理装置。
（７）前記噴霧装置は、前記噴霧空間に開口した噴霧口と、前記ハウジングの外部に開口し外気を吸気するための吸気口と、を備えている（１）に記載のミスト処理装置。
（８）前記噴霧装置は、殺菌水を貯溜する貯溜部と、前記噴霧口に対向して設けられた噴霧フィルタと、前記噴霧フィルタに前記殺菌水を供給するポンプと、前記吸気口から外気を吸気し前記噴霧フィルタを通して送風する送風ファンと、を備えている（７）に記載のミスト処理装置。
（９）前記噴霧装置は、殺菌水を貯溜する容器と、前記容器内を加圧するポンプと、前記容器内に設けられた給水管と、前記容器に設けられ給水管に接続された噴霧ノズルと、を備え、前記噴霧ノズルは、前記噴霧空間に開口する噴霧口を有している（１）に記載のミスト処理装置。
（１０）前記噴霧装置は、前記噴霧空間に開口する噴霧口を有する筐体と、前記筐体内に設けられた超音波発振子と、殺菌水を貯溜し前記超音波発振子に殺菌水を供給する給水タンクと、を備えている（１）に記載のミスト処理装置。
（１１）前記噴霧装置は、次亜塩素酸水のミストを噴霧する（１）から（１０）のいずれか１に記載のミスト処理装置。

図１は、第１の実施形態にミスト処理装置を概略的に示す斜視図。 図２は、前記ミスト処理装置の断面図。 図３は、前記ミスト処理装置の噴霧装置の断面図。 図４は、前記噴霧装置のフィルタ部分を拡大して示す斜視図。 図５は、前記ミスト処理装置の排気機構を示す断面図。 図６は、前記ミスト処理装置全体の構成を概略的に示すブロック図。 図７は、対象物の設置位置におけるドライミストの到達量の測定結果を示す図。 図８は、噴霧空間におけるドライミスト到達量および排気空気中の次亜塩素酸成分量の測定結果を示す図。 図９は、噴霧空間における塩素ガス量、および排気空気中の塩素ガス量の測定結果を示す図。 図１０は、第２の実施形態に係るミスト処理装置を示す斜視図。 図１１は、第１変形例に係る噴霧装置を概略的に示す断面図。 図１２は、第２変形例に係る噴霧装置を概略的に示す断面図。

以下に、図面を参照しながら、種々の実施形態について説明する。なお、実施形態を通して共通の構成には同一の符号を付すものとし、重複する説明は省略する。また、各図は実施形態とその理解を促すための模式図であり、その形状や寸法、比などは実際の装置と異なる個所があるが、これらは以下の説明と公知の技術を参酌して適宜、設計変更することができる。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係るミスト処理装置（殺菌装置）の構成を概略的に示す斜視図、図２は、ミスト処理装置の断面図である。
図１および図２に示すように、ミスト処理装置は、噴霧空間Ｓを規定するハウジング（外囲器）１０と、噴霧空間Ｓに殺菌水、例えば、次亜塩素酸水のミストを噴霧する噴霧装置２０と、噴霧空間Ｓから使用済のミスト、すなわち、次亜塩素酸成分の低減したミストおよび水分を含む空気、を外部に排気する排気機構６０と、を備えている。

ハウジング１０は、例えば、直方体形状を有している。ハウジング１０は、例えば、合成樹脂シート、ステンレス板等の腐食し難い材料で形成されている。ハウジング１０は、複数の壁面により規定された噴霧空間Ｓを内部に有している。噴霧空間Ｓは、密閉空間であることが望ましい。噴霧空間Ｓ内において、ハウジング１０の底壁上に、殺菌対象となる対象物ＯＢを設置することができる。また、ハウジング１０は、対象物ＯＢを噴霧空間Ｓ内に出し入れするための挿入口１２と、この挿入口１２を開閉する扉１４と、を有している。
なお、ハウジング１０は、直方体形状に限定されることなく、種々の形状を選択可能である。また、ハウジング１０として、冷凍庫、搬送コンテナ、冷蔵庫等を用いることも可能である。

図３は、噴霧装置の断面図、図４は、噴霧装置のフィルタ部分を示す斜視図である。
これらの図に示すように、噴霧装置２０は、例えば、気液接触方式のミスト噴霧装置として構成されている。すなわち、フィルタに次亜塩素酸水を含浸させ、このフィルタを通して空気を流通することにより、次亜塩素酸水と空気とを接触させて、次亜塩素酸水を気体（ドライミスト）に変換して放出するミスト噴霧装置である。
詳細に述べると、噴霧装置２０は、箱状の筐体２２を備えている。筐体２２の側壁２２ａは吸気口２４を有し、側壁２２ａと対向する側壁２２ｂは噴霧口２６を有している。筐体２２内には、吸気ファン（送風ファン）２８、フィルタ（噴霧フィルタ）３０、殺菌水として次亜塩素酸水を貯溜する液体受け３２、液体受け３２内の次亜塩素酸水をフィルタ３０に供給する給水機構３４が設けられている。筐体２２の天井壁２２ｃには、補充用の次亜塩素酸水を収容した貯水タンク（あるいは貯水カートリッジ）３６が脱着自在に載置されている。
筐体２２は、ハウジング１０の外側に設置されている。筐体２２の噴霧口２６側の端部は、ハウジング１０の側壁に埋め込まれている。これにより、噴霧口２６は、ハウジング１０の噴霧空間Ｓに開口している。同時に、筐体２２の吸気口２４は、ハウジング１０の外方空間に開口している。

吸気ファン２８は、吸気口２４およびフィルタ３０に対向して設けられている。吸気ファン２８は、吸気口２４を通して外気、すなわち、ハウジング１０の外の空気、を吸気し、フィルタ３０に向けて送風する。フィルタ３０は、噴霧口２６に対向して、かつ、液体受け３２上に設けられている。フィルタ３０は、例えば、矩形状に形成され、ほぼ鉛直方向に沿って立設されている。吸気ファン２８から送られた外気は、フィルタ３０を通り噴霧口２６から噴霧空間Ｓに排出される。フィルタ３０は、不織布を含んでいてもよい。フィルタ３０の詳細については後述する。

液受け３２は、筐体２２の底壁２２ｄ上に配置されている。液受け３２は、所定量の次亜塩素酸水を貯溜しているとともに、フィルタ３０から垂れ落ちる次亜塩素酸水を受けて貯溜する。
給水機構３４は、フィルタ３０の上方に設けられた滴下パイプ４０と、液体受け３２の底部から滴下パイプ４０まで延びる給水配管４２と、給水配管４２の中途部に接続された送液ポンプ４４と、送液ポンプ４４および前述の吸気ファン２８を駆動するコントローラ４５と、を備えている。

図３および図４に示すように、滴下パイプ４０は、ほぼ水平に延び、フィルタ３０の上に所定の間隔を置いて配置されている。本実施形態では、滴下パイプ４０の両端に給水配管４２が接続され、両端から滴下パイプ４０に給水される。滴下パイプ４０には、複数の滴下孔４０ａが形成され、滴下パイプ４０の軸方向に所定のピッチで並んでいる。滴下パイプ４０に給水された次亜塩素酸水は、複数の滴下孔４０ａからフィルタ３０に滴下される。次亜塩素酸水の給水量、あるいは、滴下量は、コントローラ４５により適宜調整可能である。

筐体２２の天井壁２２ｃに給水口４６が設けられ、貯水タンク３６の注入口部分が給水口４６に脱着自在に装着されている。給水口４６から液体受け３２の近傍まで給水パイプ４８が延出している。給水パイプ４８の中途部に開閉弁５０が設けられている。また、液体受け３２内の液体の液面高さを検知する、すなわち、次亜塩素酸水の残量を検知するフロートセンサ５２が設けられている。フロートセンサ５２により次亜塩素酸水の減少が検知されると、コントローラ４５は、開閉弁５０を開放する。すると、貯水タンク３６から給水パイプ４８を通して液体受け３２に次亜塩素酸水が補充される。液体受け３２内の次亜塩素酸水が所定量に達すると、フロートセンサ５２の検出に応じて、コントローラ４５は開閉弁５０を閉じ、給水を停止する。
なお、次亜塩素酸水の補充は、上述した貯水タンク３６に限らず、オペレータが給水口４６から手動で補充するようにしてもよい。

噴霧装置２０により次亜塩素酸水のミストあるいはドライミストをハウジング１０の噴霧空間Ｓに噴霧する場合、まず、送液ポンプ４４を駆動し、次亜塩素酸水を液体受け３２から給水配管４２を通して滴下パイプ４０へ送る。そして、滴下パイプ４０の滴下孔４０ａからフィルタ３０に次亜塩素酸水を滴下（給水）し、フィルタ３０に含浸させる。同時に、吸気ファン２８を駆動し、吸気口２４から吸い込んだ外気（ハウジング１０の外方空間内の空気）をフィルタ３０に向けて送風する。フィルタ３０に含浸された次亜塩素酸水は、フィルタ３０を透過する空気によりミストに変換され、噴霧口２６から噴霧空間Ｓに噴霧される。次亜塩素酸水は、フィルタ３０を離れた時点で気化し、次亜塩素酸成分がドライミストの状態で、噴霧口２６から噴霧空間Ｓ内に噴霧される。なお、噴霧物質に、粒径１μ以下の液状のミストを含んでいてもよい。噴霧された次亜塩素酸成分のドライミストは、噴霧空間Ｓ内に設置された対象物ＯＢに到達し、これらの対象物ＯＢを濡らすことなく殺菌あるいは脱臭する。なお、対象物ＯＢは、噴霧空間Ｓを形成している壁部の内面、および噴霧空間Ｓ内に配置されている設備等を含んでいてもよい。次亜塩素酸成分のドライミストは、壁部内面および設備等に到達し、これらを殺菌および脱臭する。

なお、図２に示すように、噴霧装置２０の噴霧口２６と対象物ＯＢとの間の距離Ｄを５ｃｍ以上に設定することにより、噴霧口２６から噴霧された粒子径１μｍ以下のミストは、常温では、対象物ＯＢに到達するまでの間に気化し、気体として対象物ＯＢに到達することができる。これにより、対象物ＯＢを濡らすことなく、殺菌および脱臭することができる。
ただし、粒径を有するミストは空間上でできるだけ早く気化され、対象物ＯＢに到達するときにはほぼ気化された状態になっていることが望ましい。そのため、噴霧物質に含まれる次亜塩素酸成分は基本的には気化されたものが主成分となり、粒径を有する液状のミストは噴霧されないことが望ましい。もし、噴霧口から気化されずに噴霧される場合も、粒径を有する液状のミストの量はできるだけ少なくし、さらに粒径も０．３μｍ以下のミストであることが望ましい。液状ミストの粒径が０．３μｍ以下であれば、噴霧された直後にミストが気化されることとなり、対象物ＯＢと噴霧口２６との距離がさらに近くであっても対象物ＯＢが濡れることを防ぐことができ、噴霧装置２０と対象物ＯＢの配置に自由度を増すことができる。

図４に示すように、噴霧装置２０のフィルタ３０は、次亜塩素酸水を吸収又は吸着するフィルタであり、かつ、次亜塩素酸水と反応性の低い材料で形成されている。一例では、フィルタ３０は、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、テフロン（登録商標）、ＰＶＤＦ、塩化ビニル、セルロース、アクリル、セラミックス、無機酸化物、無機窒化物から選ばれた１種又は複数種組み合わせたものを主成分とし、アミノ基、シアネート基、メルカプト基、いずれかを含む接着剤、防腐剤、表面改質剤、着色剤、親水剤の含有率が０．１％以下である材料で形成されている。

一般的な加湿機のフィルタに使われている接着剤、防腐剤、表面改質剤、着色剤、親水剤の含有率が０．１％以上になると、次亜塩素酸成分のＨＣｌＯがこれらと反応して失活してしまい、フィルタで気化されたミストに次亜塩素酸成分が含まれなくなる。本実施形態のように、接着剤、防腐剤、表面改質剤、着色剤、親水剤の含有率が０．１％以下であれば、次亜塩素酸成分を失活せずに次亜塩素酸水を気化させ噴霧拡散させることができる。フィルタ３０として不織布を用いる場合も、上記と同様の材料で不織布を形成することができる。

図５は、排気機構の断面図である。図１、図２、図５に示すように、ミスト処理装置の排気機構６０は、ハウジング１０内で殺菌あるいは脱臭に用いられ次亜塩素成分が減少したミストおよび水分を含むミストあるいは空気、並びに、噴霧空間Ｓ内に生じた塩素ガスを、吸着あるいは失活させた状態でハウジング１０の外部に排気する。一例では、排気機構６０は、ハウジング１０のいずれかの壁部に設けられた排気口６２と、この排気口６２に嵌合された排気筒６４と、排気筒６４内に設けられた吸着あるいは失活用の排気フィルタ６６と、排気ファン６８と、を有している。

排気口６２の設置位置は、噴霧装置２０から噴霧されたミストが噴霧空間Ｓ内を循環した後、すなわち、ミストが対象物ＯＢに到達、接触した後、排気口６２に至るような位置に選択されている。本実施形態では、排気口６２は、噴霧口２６の近傍で、噴霧口２６の後方、あるいは、側方のハウジング壁部に設けられている。
図５に示すように、排気筒６４は、排気口６２に挿通した状態で、ハウジング１０に固定されている。排気筒６４の一端は、噴霧空間Ｓに開口した吸気口６４ａを形成し、排気筒６４の他端は、ハウジング１０の外部に開口する排気口６４ｂを形成している。排気フィルタ６６は、排気筒６４内に配置され、この排気筒６４の流路ほぼ全体を覆っている。排気フィルタ６６は、例えば、活性炭、ゼオライト等の吸着材の集合体を含んでいる。あるいは、排気フィルタ６６は、失活材としての水を含浸した不織布等を用いることができる。

排気ファン６８は、ハウジング１０の外側に設けられ、排気筒６４の排気口６４ｂに対向している。排気ファン６８は、コントローラ４５により駆動制御される。排気ファン６８を駆動すると、噴霧空間Ｓ内の空気が吸気口６４ａから排気筒６４内に吸気され、排気フィルタ６６を通って流れた後、排気口６４ｂから外部に排気される。排気フィルタ６６を通ることにより、空気中の次亜塩素酸成分および塩素ガスが排気フィルタ６６に吸着され、あるいは、失活される。これにより、空気は無害化された後、水分と共に外部に排気される。また、水分を排出することにより、噴霧空間Ｓの湿度は、例えば、９０％以下に制御されている。湿度を制御することにより、対象物ＯＢに結露が発生しないようにすることができる。

図６に示すように、ミスト処理装置は、コントローラ４５に接続されたタイマ７０、および警告ブザー、ランプ等の警報器７２を備えていてもよい。上述したミスト処理において、コントローラ４５は、ハウジング１０の噴霧空間Ｓがハウジング外部に対して陽圧となるように、吸気ファン２８および排気ファン６８の駆動を制御している。また、ミスト処理において、タイマ７０により処理時間を設定し、処理が終了した後、警報器７２で操作者に処理終了を報知するようにしてもよい。この場合、コントローラ４５は、噴霧空間Ｓに対象物ＯＢが設置された状態で、噴霧装置２０の吸気ファン２８および排気機構６０の排気ファン６８を駆動し、ミストの噴霧を開始する。タイマ７０によりセットされた処理時間が経過すると、コントローラ４５は、吸気ファン２８を停止し、その後、排気ファン６８を停止する。更に、コントローラ４５は、警報器７２を作動させ、操作者に処理終了を報知する。これにより、コントローラ４５は、操作者に、対象物ＯＢの取り出しを促す。このような構成によれば、対象物ＯＢの過度の殺菌、脱臭を抑制し、同時に、殺菌水の無駄な消費を抑えることが可能となる。

上記のように構成されたミスト処理装置における、ミストの到達量および排気空気の無害化状態を検証した。図７は、対象物ＯＢの設置位置におけるドライミストの到達量の測定結果を示し、図８は、ドライミストの到達量に対する排気空気中のドライミスト量の測定結果を示し、図９は、噴霧空間における塩素ガス量に対する排気空気中の塩素ガス量の測定結果を示している。
図７において、ＦＡＣは、噴霧装置２０内の次亜塩素酸水の有効塩素濃度を示し、（温
／湿）は、噴霧空間Ｓの温度および湿度を示している。図に示すように、噴霧開始から３０分ごとのドライミスト到達量を測定した結果、いずれの経過時間においても、１４０μｇ以上のドライミスト到達量が得られることが分かる。また、時間の経過に応じて、次塩素酸水の有効塩素濃度が低下し、これに伴い、ドライミスト到達量も低下していく。新しい次塩素酸水を補充した後（１８０min以降）は、再び、ドライミスト到達量が３００μｇ程度まで上昇している。ミスト噴霧に伴う、噴霧空間Ｓの温度上昇は見られない。すなわち、全経過時間に亘り、噴霧空間Ｓの温度は１７℃前後に保たれている。
更に、噴霧空間Ｓの湿度は、９０％以下に保たれている。このことから、噴霧空間Ｓに生じた水分は、排気機構６０によりハウジング１０外に排気され、噴霧空間Ｓの湿度がほぼ一定に保たれていることが分かる。このように、ミスト処理装置では、ドライミストが安定供給されることが検証された。

図８に示すように、ドライミスト到達量が３００μｇの状態において、ハウジング１０から排気された空気中にドライミストは検出されていない。すなわち、次亜塩素酸成分は排気フィルタ６６により、失活あるいは吸着され、外部に排気されていないことが分かる。
図９に示すように、噴霧空間Ｓに生じる塩素ガス量が０．５ｐｐｍである場合、ハウジング１０から排気された空気中に塩素ガスは検出されていない。すなわち、塩素ガスは排気フィルタ６６により、失活あるいは吸着され、外部に排気されていないことが分かる。このように、排気空気は、次亜塩素酸成分および塩素ガスを含んでおらず、無害化されていることが検証された。

以上のように、本実施形態によれば、対象物に対して殺菌水のミスト（ドライミスト）を安定して供給することができ、かつ、無害化した空気を排気することが可能なミスト処理装置を得ることができる。また、ミスト処理装置では、ハウジングの外の乾燥した空気を取り入れ、次亜塩素酸成分が低くなった水分を含む空気を噴霧空間Ｓの外部に排気することで、次亜塩素酸成分のミストを安定的に空間噴霧することができるとともに、噴霧空間Ｓの湿度を９０％以下に保つことができる。湿度の上昇によるドライミスト噴霧量の低減および結露の発生を防止することができる。更に、このような水分の回収について、デシカント方式やコンプレッサ方式の除湿機構を設ける必要がなく、装置全体の構成を簡略化することが可能である。

噴霧装置２０および排気ファン６８はハウジング１０の外部に設けられていることから次亜塩素酸成分あるいは塩素ガスによる、これら装置およびファンの腐食を抑制することができる。これに限らず、腐食対策を施した状態で、噴霧装置および排気ファンの少なくとも一方をハウジング内に設置してもよい。但し、噴霧装置は、その吸気口がハウジングの外部に開口するように、設置される。
第１の実施形態において、ハウジング１０として、冷蔵庫あるいは搬送コンテナを用いる場合、図２に２点鎖線で示すように、噴霧空間Ｓを冷却するための冷却器７４をハウジング１０に設置してもよい。

本実施形態において、ミスト処理装置の噴霧空間および対象物は、種々選択することができる。例えば、噴霧空間は、厩舎、倉庫、居住空間、野菜室、施設、クローゼット等、対象物を設置可能な種々の空間を選択することができる。
対象物は、表面撥水性を有する生物を含んでいる。このような生物としては、イチゴ、種籾、オクラ、キュウリ、カボチャ、なすを含む青果物、豚、牛、鳥を含む家畜、又は、花卉を選択することができる。接触角が９０度以上の表面撥水性のある生物は、液体だと弾いてしまい次亜塩素酸成分が全体に到達しないが、気体だと表面全体を処理できる。そのため、これらの生物については、次亜塩素酸成分を空間に放出してドライプロセス処理を行うことにより、効果的に殺菌又は脱臭することができる。例えば、ぶどう、イチゴなどは、水分の接触角が１００～３０度程度であり、稲、米は、接触角が１３０度以上である。

対象物は、表面が粒子径１μｍ以下の繊維状で覆われている物、および、毛や粉をまとった、又は気孔や気根を有し、空気を取り込む構造を持った生物を含んでいてもよい。放出される次亜塩素酸成分もしくはミストは、気体あるいは粒子径が１μｍ以下と小さいため、これらの対象物の繊維間、あるいは、気孔に侵入し易く、これらの対象物を効果的に殺菌あるいは脱臭することが可能である。

更に、対象物は、嫌水性(収穫後は水で洗えない)を有するもの、例えば、イチゴ、また、液体では内部に成分が浸透しない構造物、例えば、生物、種籾、を含んでいてもよい。

その他、対象物として、衣類、ゴミ等、生活における様々な物、場所での衛生面や健康面から殺菌や脱臭が求められるあらゆる物を選択することが可能である。

次に、他の実施形態および変形例に係るミスト処理装置について説明する。以下に説明する他の実施形態および変形例において、前述した第１の実施形態と同一の部分には、同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略あるいは簡略化し、第１の実施形態と異なる部分を中心に詳しく説明する。

（第２の実施形態）
図１０は、第２の実施形態に係るミスト処理装置を示す斜視図である。
図１０に示すように、ミスト処理装置は、噴霧空間Ｓを規定するハウジングとして機能する収容容器８０と、収容容器８０の上部開口に設置された噴霧装置２０とを備えている。収容容器８０の内部空間は、殺菌水が噴霧される噴霧空間Ｓを形成している。収容容器８０は、対象物ＯＢを出し入れするための挿入口８２と、この挿入口８２を開閉する扉８３とを有している。また、収容容器８０内に、対象物ＯＢを載置するための複数段の網棚８４が設けられている。本実施形態によれば、収容容器８０は、噴霧空間Ｓの体積が１０ｍ³以下となる大きさに形成されている。

ミスト処理装置は、偏平な矩形状の筐体９２を有し、この筐体９２は、収容容器８０に対向する底壁９２ｄと、底壁に対向する天井壁９２ｃと、底壁９２ｄの側縁に沿って立設された複数の側壁９２ａ、９２ｂと、を有している。対向する２つの側壁９２ａ、９２ｂに、外部に開口する吸気口９４がそれぞれ形成され、また、底壁９２ｄに噴霧空間Ｓに開口する複数の噴霧口９６が設けられている。筐体９２の天井壁９２ｃには、次亜塩素酸水を給水するための給水口８６が設けられている。

前述した第１の実施形態と同様に、筐体９２内には、次亜塩素酸水を貯溜する液体受け、フィルタ、液体受けの次亜塩素酸水をフィルタに給水する給水機構、吸気口９４から外気を吸気し、フィルタに向けて送風するファン等が設けられている。
収容容器８０の側面下部に、排気機構６０が設けられている。排気機構６０は、第１の実施形態と同様に、排気口、排気口に嵌合された排気筒、この排気筒内に設けられた排気フィルタ、および排気筒に対向して収容容器８０の外部に設けられた排気ファン６８を有している。

上記ミスト処理装置においては、殺菌の対象物ＯＢとして、例えば、野菜、果物等の食品、その他、任意の対象物を収容容器８０内に入れ、網棚５４に載置する。そして、扉５３を閉じた状態で、ミスト処理装置を駆動することにより、噴霧口９６から次亜塩素酸水をドライミストに変換して収容容器５０の噴霧空間Ｓに噴霧し、対象物ＯＢに到達させる。これにより、内部空間Ｓ内、および対象物ＯＢの殺菌および脱臭を行う。また、排気機構６０により、次亜塩素酸成分の低下したミスト、水分、および塩素ガスを収容容器８０の下部から外部に排気する。この際、排気フィルタにより、排気空気中の次亜塩素酸成分および塩素ガスを吸着あるいは失活することにより、空気を無害化した状態で排気する。

なお、噴霧物質には、粒径１μ以下、さらに望ましくは粒径０．３μ以下の液状のミストを含んでいてもよい。

上記のように構成された第２の実施形態によれば、殺菌水のミストを安定して対象物に供給し、対象物を濡らすことなく殺菌あるいは脱臭することが可能なミスト処理装置が得られる。また、上記ミスト処理装置によれば、使用済のミストおよび塩素ガスを無害化して容器の外部に排気することにより、噴霧空間の湿度上昇および温度上昇を抑制することができ、一層、安定してミストを供給することができる。
本実施形態によれば、噴霧空間Ｓの体積を１０ｍ³以下とすることにより、次亜塩素酸水のミストあるいはドライミストを噴霧空間Ｓの全域に濃度ムラなく噴霧することが可能となる。同時に、対象物ＯＢを濡らすことなく、次亜塩素酸成分をムラなく到達させることができ、ミスト粒子径が小さいこと（１μｍ以下）の作用効果を最大限に生かすことができる。

（第１変形例）
図１１は、第１変形例に係るミスト処理装置の噴霧装置を概略的に示す図である。第１変形例によれば、噴霧装置２０は、スプレー式としている。すなわち、噴霧装置２０は、次亜塩素酸水を貯溜している容器１００と、容器１００内を加圧するポンプ１０２と、容器１００内に設けられ容器１００の上端から底壁の近傍まで延びる給水管１０４と、容器１００の上端に設けられ給水管１０４に接続された噴霧ノズル１０６と、を備えている。容器１００は、その一部が、ミスト処理装置のハウジング１０の側壁に埋め込まれている。噴霧ノズル１０６の噴霧口１０６ａは、ハウジング１０内の噴霧空間Ｓに開口している。ポンプ１０２は、ハウジング１０の外に設けられている。ポンプ１０２は、外部に開口する吸気口から外気を吸気し、加圧した後、容器１００内に供給する。

上記ミスト処理装置によれば、ポンプ１０２により容器１００内を加圧した状態で、噴霧ノズル１０６を押すことにより、噴霧ノズル１０６の噴霧口１０６ａから次亜塩素酸水をドライミスト（気体）あるいは粒径１μｍ以下の次亜塩素酸成分を含むミストに変換して噴霧する。このような噴霧装置２０を用いた場合でも、前述した第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。

（第２変形例）
図１２は、第２変形例に係るミスト処理装置の噴霧装置を概略的に示す図である。第２変形例によれば、噴霧装置２０は、超音波式の噴霧装置としている。すなわち、噴霧装置２０は、箱状の筐体１１０を有し、この筐体１１０内に、給水タンク１１２および超音波発振子１１４が設けられている。筐体１１０の天井壁に噴霧口１１８および給水口（吸気口）１２０が設けられている。給水タンク１１２には、例えば、塩分濃度５００ｍｇ／ｋｇ以下、有効塩素濃度５～２００ｍｇ／ｋｇ、ｐＨ５～８の次亜塩素酸水が貯溜されている。噴霧装置２０は、ハウジング１０の外側に配置され、筐体１１０の一部が、ハウジング１０の側壁に埋め込まれている。噴霧口１１８は、ハウジング１０内の噴霧空間Ｓに開口している。吸気口を兼ねる給水口１２０は、ハウジング１０の外側に位置している。

上記噴霧装置２０によれば、給水タンク１１２から送られた次亜塩素酸水に、超音波発振子１１４により超音波振動を与えることにより、次亜塩素酸水を気体（ドライミスト）あるいは粒径１μｍ以下の次亜塩素酸成分を含むミストに変換して噴霧口１１８から噴霧空間Ｓに噴霧する。
このような噴霧装置２０を用いたミスト処理装置においても、前述した第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
なお、第２変形例において、超音波発振子１１４に代えてヒータを設けてもよい。この場合、ヒータにより次亜塩素酸水を加熱し、蒸発させることにより、次亜塩素酸水を気体あるいは粒径１μｍ以下の次亜塩素酸成分を含むミストに変換してすることができる。

本発明は上述した実施形態あるいは変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態あるいは変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

１０…ハウジング、２０…噴霧装置、２４…吸気口、２６…噴霧口、２８…吸気ファン、
３０…フィルタ、４５…コントローラ、６０…排気機構、６２…排気口、
６４…排気筒、６６…排気フィルタ、６８…排気ファン、Ｓ…噴霧空間、ＯＢ…対象物

Claims (11)

1. 対象物を載置可能な噴霧空間を規定するハウジングと、
   殺菌成分を含むミストを前記噴霧空間に噴霧し前記対象物に供給する噴霧装置と、
   前記ミストおよび水分を含む空気を前記噴霧空間から前記ハウジングの外部に排気する排気機構と、
   前記噴霧空間に前記対象物が設置された状態で前記噴霧装置および前記排気機構を駆動して前記ミストの噴霧を開始するコントローラと、を備え、
   前記コントローラが、前記ハウジングの噴霧空間がハウジング外部に対して陽圧となるように制御する、ミスト処理装置。
2. 前記排気機構は、前記ハウジングに設けられた排気口と、前記排気口に設けられた排気フィルタと、前記排気口および前記排気フィルタを通して、前記噴霧空間から前記ミストおよび水分を含む空気を外部に排気する排気ファンと、を備えている請求項１に記載のミスト処理装置。
3. 前記排気フィルタは、前記殺菌成分を吸着あるいは失活する吸着材あるいは失活材を含んでいる請求項２に記載のミスト処理装置。
4. 前記排気ファンは、前記ハウジングの外に設けられ、前記排気口に対向している請求項２又は３に記載のミスト処理装置。
5. 前記排気機構は、前記排気口に装着され、前記噴霧空間に開口する一端と、前記ハウジングの外部に開口する他端とを有する排気筒を備え、前記排気フィルタは前記排気筒内に配置されている請求項２又は３に記載のミスト処理装置。
6. 前記ハウジングは、前記噴霧空間に対象物を出し入れするための挿入口、および前記挿入口を開閉する扉を備えている請求項１に記載のミスト処理装置。
7. 前記噴霧装置は、前記噴霧空間に開口した噴霧口と、前記ハウジングの外部に開口し外気を吸気するための吸気口と、を備えている請求項１に記載のミスト処理装置。
8. 前記噴霧装置は、殺菌水を貯溜する貯溜部と、前記噴霧口に対向して設けられた噴霧フィルタと、前記噴霧フィルタに前記殺菌水を供給するポンプと、前記吸気口から外気を吸気し前記噴霧フィルタを通して送風する送風ファンと、を備えている請求項７に記載のミスト処理装置。
9. 前記噴霧装置は、殺菌水を貯溜する容器と、前記容器内を加圧するポンプと、前記容器内に設けられた給水管と、前記容器に設けられ給水管に接続された噴霧ノズルと、を備え、前記噴霧ノズルは、前記噴霧空間に開口する噴霧口を有している請求項１に記載のミスト処理装置。
10. 前記噴霧装置は、前記噴霧空間に開口する噴霧口を有する筐体と、前記筐体内に設けられた超音波発振子と、殺菌水を貯溜し前記超音波発振子に殺菌水を供給する給水タンクと、を備えている請求項１に記載のミスト処理装置。
11. 前記噴霧装置は、次亜塩素酸水のミストを噴霧する請求項１から１０のいずれか１項に記載のミスト処理装置。

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