JP7430725B2 - スルーガラスビアを有する3dインターポーザ、銅とガラス表面との間の接着性を増大させる方法およびそれによる物品 - Google Patents
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Description
図1に例示的な物品100の横断面を示す。物品100は基板110を含む。基板110は、厚さTで隔てられた第1の表面112および第2の表面114を有する。複数のビアホール124が第1の表面112から第2の表面114まで伸び、すなわち、ビアホール124はスルービアホールである。内部表面126は、基板110内に形成されるビア124の内部表面である。
最も一般的な意味で、ビアホールを形成し得る任意の好適なガラスまたはガラスセラミック組成物を使用することができる。例示的な組成物としては、高純度溶融シリカ(HPFS)およびアルミノホウケイ酸ガラスが挙げられる。高シリカガラスは、本明細書に記載される実施形態ではない場合に金属との結合にとって特に問題となる。幾つかの実施形態では、ガラスまたはガラスセラミックは、酸化物ベースの重量により50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、80重量%以上、90重量%以上または95重量%以上のシリカ含有量を有する。
銅等の導電性金属を堆積させる前に、MnOxを含む接着層をガラス上に堆積させる。この接着層は、本明細書に記載される還元雰囲気でのアニーリング後に、接着層を堆積させるガラスと、続いて堆積させる銅等の導電性金属との両方に良好に接着する。
還元雰囲気下でのアニーリングの前に、ガラスに隣接した高酸化状態を、好適な堆積法および酸化雰囲気でのプレアニーリングの1つ以上によって達成することができる。このプレアニールは、技術的に、「アニール」という語が微細構造を変化させる熱処理を説明するために一般に用いられるという意味ではアニーリング工程である。しかし、本明細書では、「プレアニール」は、酸化雰囲気下での「プレアニーリング」と還元雰囲気下での「アニーリング」との混同を避けるために、還元雰囲気下でのアニーリングの前の熱処理を説明するために用いられる。MnOx接着層のプレアニーリングおよび続くアニーリングは、MnOx接着層にわたる酸化(および酸化状態)勾配の形成を可能にする。プレアニール(酸化)は、ガラスに隣接したMnOx層における高酸化状態を達成/維持し、MnOx層がガラスに良好に接着する。また、アニール(還元)は、銅に隣接したMnOx層における低酸化状態を達成し、MnOx層が銅に良好に接着する。幾つかの実施形態では、プレアニール(または堆積条件)とアニールとの組合せにより、ガラスから銅への酸化状態の勾配を有するMnOx層が得られる。幾つかの実施形態では、MnOx層は、おそらくはガラスおよび/または銅へのMnの拡散によってアニール中に消費され得る。しかし、理論に制限されるものではないが、幾らかの残留MnOxが、かかる拡散の後に銅-ガラス界面に、その界面での接着性を高めるのに適した酸化状態で残ると考えられる。
銅等の導電性金属をMnOx接着層上に堆積させることができる。任意の好適な堆積プロセスを用いることができる。ビアの充填については、銅を堆積させるために視線に依存しないプロセスを用いることが望ましい。例えば、無電解めっきおよび電気めっきを用いることができる。電気めっきは、堆積源への視線に依存しないことから、ビアの充填に望ましい手法である。しかし、電気めっきは、物理蒸着(PVD)等の視線に依存する先の堆積法に依存し、堆積層(例えば、MnOx接着層、後続の電気めっきのための銅シード層等)のいずれかについてビアホールの充填時の困難に直面する可能性がある。
幾つかの実施形態では、無電解堆積を用いて銅を堆積させる。無電解堆積では、触媒が存在する場合、はるかに急速に銅が堆積する。銅の無電解堆積に好適なプロセスフローの1つは、以下の通りである:
・アミノシランまたは窒素含有ポリカチオンで表面を処理する;
・パラジウム含有溶液での処理によってパラジウム錯体を吸着させる;
・無電解銅を堆積させる
無電解堆積によって金属を堆積させる前に、基板を任意にアミノシランまたは窒素含有ポリカチオンで処理してもよい。続いて触媒を任意に堆積させてもよい。アミノシランまたは窒素含有ポリカチオンでの処理は、ガラス表面のカチオン電荷状態をもたらし、触媒の吸着を促進する。触媒吸着工程は、例えばK2PdCl4またはイオンパラジウムまたはSn/Pdコロイド溶液でのガラス表面の処理を必要とする。パラジウム錯体は、通常はアニオン形態で存在し、したがって、ガラス表面へのそれらの吸着は、プロトン化アミン等のカチオン性表面基によって促進される。K2PdCl4またはイオンパラジウム化学を用いる場合、次の工程は、好ましくは(限定されるものではないが)約2~10nmの寸法のコロイドの形態の金属パラジウムPd(0)へのパラジウム錯体の還元を含んでいた。Sn/Pdコロイド溶液を使用する場合、パラジウムは既に、酸エッチングによって除去されるSnシェルを周囲に有するPd(0)形態である。
幾つかの実施形態では、銅等の導電性金属の薄い第1の層をMnOx接着層上に堆積させる。無電解堆積は、電気めっきと比べて遅い。しかし、無電解堆積は非導電性表面上で行うことができ、電気めっきは導電性表面に限定される。ビアの内表面への堆積については、無電解堆積が有利には視線に依存しない。原子層堆積(ALD)は、銅の薄い第1の層を堆積させる、視線に依存しない別の好適な方法である。直接的な視線に依存しないこれらの手法が、物理蒸着(PVD)等の直接的な視線に依存する幾つかの手法と比較して低い接着性をもたらし得ることが認められている。理論に制限されるものではないが、視線堆積法は、堆積時により多くの運動エネルギーを必要とし、銅とMnOx接着層との間の結合の形成、場合によってはMnOxの酸化状態の変化を引き起こす可能性があると考えられる。
幾つかの実施形態では、より厚い銅層のより迅速な堆積が所望される場合、第1の銅の層の無電解堆積に続いて、任意に第2の、より厚い銅の層の電気めっきを行ってもよい。無電解堆積は、最初に非導電性の表面へと堆積させる能力等の或る特定の利点を有する。しかし、無電解めっきは、厚い層が所望される場合に遅い場合がある。最初の無電解銅の層を堆積させ、電気めっきに用いられる導電性表面を形成した後、電気めっきを用いて、より厚い銅の層をより迅速に堆積させることができる。銅の総厚さは、任意の所望の厚さであり得る。ビアホールへのビアの形成については、銅の総厚さは、ビアホール形状および所望のビア形状に応じる。例えば、ホールを完全に充填することが所望される場合、銅の総厚さをビアホールの半径とする必要がある。銅の導電性コンフォーマルコーティングが所望される場合、総厚さは、ホールの総厚さより小さいが、所望の伝導性を達成するのに十分に厚い必要がある。幾つかの実施形態では、第2の層は1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、10μm、15μm、20μm、30μm、50μm、100μm、またはこれらの値のいずれか2つを端点として有する任意の範囲、またはこれらの値の1つを下端点として有する任意の無制限の範囲の厚さを有する。幾つかの実施形態では、第2の層は1μm~100μm、1μm~20μm、3μm~15μmの範囲、または2μm以上の厚さを有する。
幾つかの実施形態では、MnOx層を還元雰囲気下でアニールする。本明細書に記載される実験では、このアニーリングに水素含有量4%のフォーミングガス(4体積%の水素を含む窒素)を使用した。しかし、異なるパーセンテージの水素を含むフォーミングガスおよび代替ガス組成のフォーミングガスを含む他の還元雰囲気を用いてもよい。本明細書で使用される場合、「還元雰囲気」は、200℃~600℃の温度範囲の少なくとも1つのアニーリング温度でMnOxから酸素を抽出する雰囲気である。幾つかの実施形態では、還元雰囲気は1体積%以上のH2または同様の還元剤を含み、還元雰囲気への曝露は、200℃以上の温度である。フォーミングガスと少なくとも同程度に強く、より好ましくは水素含有量4%のフォーミングガスと少なくとも同程度に強く酸素を抽出する還元雰囲気を使用することが好ましい。
図3に本明細書に記載される処理後の充填されたビアホール構造300を示す。ビアホール310を有する基板305上に、以下の層を順に堆積させる:MnOx接着層320、触媒層330、第1の銅の層340および第2の銅の層350。第1の銅の層340および第2の銅の層350がビアホール310を充填する。MnOx接着層320が銅と基板305との優れた接着性をもたらす。本明細書に記載されるアニーリング後に、MnOx接着層320および触媒層330の1つ以上が拡散により存在しなくてもよい。また、第1の銅の層340および第2の銅の層350は、明確な層として識別可能でなくてもよい。
工程410:基板にホールを形成する
工程420:MnOx接着層を堆積させる
工程430:(任意に)プレアニールしてMnOxを酸化する
工程440:触媒を堆積させる
工程450:無電解銅を堆積させる
工程460:電気めっき銅を堆積させる
MnOx接着層を堆積させた後、かつ任意のプレアニール(行う場合)の後の任意の時点で、MnOx接着層を還元雰囲気下でアニールする。理論に制限されるものではないが、このアニールによって、銅-MnOx界面でMnOxの少なくとも一部がより低い酸化状態へと還元され、この還元されたMnOxが接着性を高めると考えられる。
接着性
本明細書に記載されるように堆積させた銅層に対して接着性試験を行った。接着性を、ASTM規格D3359クロスハッチテープ試験に準拠した5N/cmテープ試験を用いて試験した。接着性について試験したサンプルは平面であり、銅をビアの内部表面に堆積させなかったが、この試験によりビアの内部表面への銅の接着性が示される。
サンプルを以下のように作製した:
・厚さ10nmのMnOxの層を、清浄な平面EXG(Eagle XG(登録商標)、Corning, Inc.から入手可能)ガラス基板上に電子ビーム蒸着によって堆積させた。
サンプルを以下のように作製した:
・厚さ10nmのMnOxの層を、清浄な平面EXG(Eagle XG(登録商標)、Corning, Inc.から入手可能)ガラス基板上にPVDによって堆積させた。
サンプルを以下のように作製した:
・厚さ10nmのMnOxの層を、清浄な平面EXG(Eagle XG(登録商標)、Corning, Inc.から入手可能)ガラス基板上にPVDによって堆積させた。
1:Mn3O4
2:Mn2O3(微量*)+Mn3O4(微量)+SiO2
3:SiO2
4:Mn2O3(微量)+Mn3O4(微量*)+SiO2
5:Mn3O4
EELSデータは、定量的には分析しなかった。しかし、EELSデータから、シグナルプロファイルの形状およびそのプロファイルでの様々な特徴の相対的な大きさに基づいて、種々の成分の相対量について何らかの情報を得ることが依然として可能である。「微量」のない組成は、その組成のシグナルがEELSプロファイルにおいて強く明らかに現れたことを意味する。「微量」または「微量*」の表記を有する組成は、その組成に対応するシグナルがEELSプロファイルにおいて弱く現れたことを意味する。かかる弱いシグナルでは、異なる組成が同様のEELSプロファイルを有する場合があり、存在する組成を断定的に述べることが困難であり得る。しかし、主要成分等の他の要因に基づいて、存在する成分についての合理的な推定を行うことができる。部位が「微量*」および「微量」の両方を示す場合、微量*成分がEELSプロファイルにおける弱いシグナルに微量成分よりも寄与する可能性がある。例えば、部位2でのMn2O3(微量*)+Mn3O4(微量)+SiO2は、EELSシグナルへの強い寄与がSiO2から観察され、シグナル形状に基づくと、おそらくはより強いMn2O3およびより弱いMn3O4の寄与による異なる酸化状態の混合であり得る幾らかの微量MnOxの寄与が観察されることを意味する。画像620において、番号は以下に対応する:
1:MnO
2:Mn2O3(微量)+Mn3O4(微量)+SiO2
3:SiO2
4:MnO+Mn3O4(微量*)+Mn2O3(微量)
5:MnO+Mn3O4(微量*)+Mn2O3(微量)
図6と同様、図7に実施例2のTEM画像710および実施例3のTEM画像720を示す。図7の画像は、図6とは異なる位置で撮影した。図7の番号を付けた十字は、組成の決定のためにEELS分析を行った位置を意味する。画像710において、番号は以下に対応する:
1:Mn3O4
2:Mn3O4
3:Mn3O4
4:MnOx(微量)
Mn3O4シグナルの強度は、位置1から位置4へと減少する。画像および他の部位での測定に基づくと、銅が部位4に存在する。しかし、銅のデータは、部位4では特に収集されない。
1:MnO
2:MnO+Mn3O4(微量)
3:MnO+Mn3O4(微量)
4:MnO+Mn3O4(微量)
5:MnOx(微量)
6:MnOx(微量)
上記の部位のEELSシグナルの説明におけるMnOxの表示は、MnOxシグナルが全体的に弱いため、異なる酸化状態のMnに起因するシグナル形状の差を読み取ることが不可能であることを意味する。画像710と同様、画像720では、銅が部位3、4、5および6に存在する。しかし、銅のデータは、これらの部位では特に収集されない。
実施例4~9を表1に示すように作製した。
当業者には、本明細書に記載される様々な実施形態に対して多くの変更を行った上で有益な結果を得ることができることが認識および理解される。本実施形態の所望の利益の一部を、特徴の一部を選択し、他の特徴を用いなくとも得ることができることも明らかである。したがって、多くの修正および適合が可能であり、或る特定の状況では望ましいことさえあり、本開示の一部であることが当業者には認識される。したがって、他に規定のない限り、本開示が開示される特定の組成物、物品、デバイスおよび方法に限定されないことを理解されたい。本明細書で使用される専門用語が特定の実施形態を説明することのみを目的とし、限定を意図するものではないことも理解されたい。図面に示される特徴は、本明細書の選択実施形態の例示であり、必ずしも適当な縮尺で描かれているわけではない。これらの図面の特徴は例示であり、限定を意図するものではない。
酸化マンガン(MnOx)を含む接着層をガラスまたはガラスセラミック基板の表面上に堆積させるステップと、
前記接着層上に無電解銅堆積のための触媒を堆積させるステップと、
前記触媒を堆積させた後に前記MnOx層上に無電解めっきによって第1の銅の層を堆積させるステップと、
前記接着層を還元雰囲気でアニールするステップと
を含む方法。
前記接着層を化学蒸着または原子層堆積によって堆積させる、実施形態1記載の方法。
前記接着層が本質的にMnOxからなる、実施形態1または2記載の方法。
前記接着層がMnOxからなる、実施形態1または2記載の方法。
前記接着層が、酸素を除いて50at%以上のMnを含む、実施形態1または2記載の方法。
前記触媒を堆積させる前に前記接着層を還元雰囲気でアニールする、実施形態1から5までのいずれか1つ記載の方法。
前記触媒を堆積させた後に前記接着層を還元雰囲気でアニールする、実施形態1から5までのいずれか1つ記載の方法。
前記第1の銅の層を堆積させた後に前記接着層を還元雰囲気でアニールする、実施形態1から5までのいずれか1つ記載の方法。
前記還元雰囲気でのアニーリングを200℃以上の温度にて、1体積%以上の還元剤を含有する雰囲気で行う、実施形態1から8までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層を還元雰囲気でアニールする前に前記接着層を酸化雰囲気でプレアニールするステップをさらに含む、実施形態1から9までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層が、アニーリング後に厚さ3nm以上のMnOxの層を含む、実施形態1から10までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層が、アニーリング後に厚さ6nm以上のMnOxの層を含む、実施形態11記載の方法。
前記接着層が、アニーリング後に厚さ6nm~9nmのMnOxの層を含む、実施形態12記載の方法。
前記表面が、前記ガラスまたはガラスセラミック基板に形成されたビアホールの内部表面である、実施形態1から13までのいずれか1つ記載の方法。
前記ビアがスルービアである、実施形態14記載の方法。
前記ビアがブラインドビアである、実施形態14記載の方法。
前記表面がトレンチの内部表面である、実施形態1から14までのいずれか1つ記載の方法。
前記表面が前記基板の平面部分のパターン化部分である、実施形態1から14までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層をコンフォーマルに堆積させる、実施形態1から18までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層をコンフォーマルに堆積させない、実施形態1から18までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層をALDによって堆積させる、実施形態1から20までのいずれか1つ記載の方法。
前記接着層をCVDによって堆積させる、実施形態1から20までのいずれか1つ記載の方法。
前記第1の銅の層上に電解めっきによって第2の銅の層を堆積させるステップをさらに含む、実施形態1から22までのいずれか1つ記載の方法。
前記第2の銅の層が2μm以上の厚さを有する、実施形態23記載の方法。
前記第2の銅の層が、5N/cmテープ試験に合格することが可能である、実施形態23または24記載の方法。
前記ガラスまたはガラスセラミック基板が、酸化物ベースのモル%で50%~100%のSiO2のバルク組成を有する材料を含む、実施形態1から25までのいずれか1つ記載の方法。
触媒を堆積させるステップが、
アミノシランまたは窒素含有ポリカチオンで処理することによって前記接着層を帯電させるステップと、
帯電させた後に、パラジウム含有溶液での処理によってパラジウム錯体を前記接着層に吸着させるステップと
を含む、実施形態1から26までのいずれか1つ記載の方法。
酸化マンガン(MnOx)を含む接着層をガラスまたはガラスセラミック基板の表面上に堆積させるステップと、
前記接着層上に導電性金属の第1の層を堆積させるステップと、
前記接着層を還元雰囲気でアニールするステップと
を含む方法。
前記導電性金属の第1の層を堆積させた後に前記接着層をアニールする、実施形態28記載の方法。
前記接着層を化学蒸着または原子層堆積によって堆積させる、実施形態28または29記載の方法。
前記接着層を還元雰囲気でアニールする前に前記接着層を酸化雰囲気でプレアニールするステップをさらに含む、実施形態28から30までのいずれか1つ記載の方法。
前記表面が、前記ガラスまたはガラスセラミック基板に形成されたビアホールの内部表面である、実施形態28から31までのいずれか1つ記載の方法。
内部表面をそれぞれ有する複数のビアが形成されたガラスまたはガラスセラミック基板と、
少なくとも3nmの厚さを有する、前記内部表面に結合したMnOxの層と、
前記MnOxの層に結合した銅の層と
を備える物品。
前記ビアを充填する前記銅が、5N/cmテープ試験に合格することが可能である、実施形態33記載の物品。
Claims (10)
- 酸化マンガン(MnOx)を含む接着層をガラスまたはガラスセラミック基板の表面上に堆積させるステップと、
前記接着層上に無電解銅堆積のための触媒を堆積させるステップと、
前記触媒を堆積させた後に前記MnOx層上に無電解めっきによって第1の銅の層を堆積させるステップと、
を含み、
前記接着層は、還元雰囲気でアニーリングされる、
方法。 - 前記接着層を化学蒸着または原子層堆積によって堆積させる、請求項1記載の方法。
- 前記接着層がMnO x からなる、請求項1または2記載の方法。
- 前記接着層が、酸素を除いて50at%以上のMnを含み、
at%は、原子%であり、酸素以外の層の全成分をベースとして決定される、請求項1または2記載の方法。 - 前記接着層のアニーリングが、前記触媒を堆積させる前に行われる、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記接着層のアニーリングが、前記触媒を堆積させた後に行われる、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記還元雰囲気でのアニーリングを200℃以上の温度にて、ガス組成中1体積%以上のH 2 を含む還元剤を含有する雰囲気で行う、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 前記接着層を還元雰囲気でアニールする前に前記接着層を酸化雰囲気でプレアニールするステップをさらに含む、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 前記接着層が、アニーリング後に厚さ3nm以上のMnOxの層を含む、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 前記表面が、前記ガラスまたはガラスセラミック基板に形成されたビアホールの内部表面である、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
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