JP7428853B2 - 捕集ユニット及び半導体予備洗浄チャンバ - Google Patents
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Description
前記捕集プレートが前記第1貫通孔の排気端側に位置し、前記第1貫通孔から通過した前記半導体予備洗浄チャンバ内の粒子状不純物の少なくとも一部を捕獲するためのものである。
前記捕集ユニットは更に複数の締付ねじを備え、各前記締付ねじが各前記ねじ穴に1対1で対応してねじ接続され、前記接続部と前記保護プレートとを固定して接続するためのものである。
110 第1貫通孔
120 中心貫通孔
210 捕集プレート
211 環状溝
212 環状突起
213 ねじ穴
214 締付ねじ
215 第2貫通孔
220 接続部
300 距離調整部材
510 キャビティ
521 第1金属リング
522 第2金属リング
530 コイル
540 コイル遮蔽箱
550 結合窓
560 ファラデー円筒
570 カバープレート
580 石英リング
590 ベース
610 上部電極高周波電源
620 上部電極アダプタ
630 下部電極高周波電源
640 下部電極アダプタ
700 真空ポンプ
800 ウエハ
Claims (13)
- 半導体予備洗浄チャンバ内の粒子状不純物を捕集するための捕集ユニットであって、
前記半導体予備洗浄チャンバ内に間隔を空けて設置される保護プレート及び捕集プレートを備え、前記保護プレートが環状を呈し、且つ前記保護プレートには前記半導体予備洗浄チャンバ内のプロセスガスが通過するための第1貫通孔が複数設置され、
前記捕集プレートが前記第1貫通孔の排気端側に位置し、前記第1貫通孔から通過した前記半導体予備洗浄チャンバ内の粒子状不純物の少なくとも一部を捕獲するためのものであることを特徴とする捕集ユニット。 - 前記捕集プレートが環状を呈して前記保護プレートに対向して設置され、且つ前記保護プレート上のすべての前記第1貫通孔の水平面での正投影がいずれも前記捕集プレートの前記水平面での正投影内にあることを特徴とする請求項1に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集プレートの前記保護プレートに対向する表面は平面であり、前記平面が前記保護プレートに互いに平行し、又は前記保護プレートに対して傾斜することを特徴とする請求項2に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集プレートの前記保護プレートに対向する表面に凹み構造を有することを特徴とする請求項2に記載の捕集ユニット。
- 前記凹み構造は前記捕集プレートの周方向に沿って周設される環状溝を含むことを特徴とする請求項4に記載の捕集ユニット。
- 前記環状溝の縦断面形状は矩形、円弧形又は三角形を含むことを特徴とする請求項5に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集プレートの外周縁には前記保護プレートに近接する方向に向かって延設される環状突起を有し、前記環状突起の前記保護プレートに近接する端と前記保護プレートとの間に隙間を有することを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集プレートの前記保護プレートに対向する表面が粗面化処理された表面であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集ユニットは前記捕集プレートと前記保護プレートとの距離を調整するための距離調整構造を更に備えることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の捕集ユニット。
- 前記距離調整構造は少なくとも1つの距離調整部材を備え、前記少なくとも1つの距離調整部材が前記捕集プレートと前記保護プレートとの間に設置され、且つ前記保護プレートの内周縁又は外周縁に位置し、前記距離調整部材の数及び/又は厚さを設定することにより前記捕集プレートと前記保護プレートとの距離を調整することを特徴とする請求項9に記載の捕集ユニット。
- 前記捕集プレートに接続部が更に設置され、前記接続部が前記捕集プレートの内周縁又は外周縁に設置され、且つ前記接続部及び前記保護プレートには前記保護プレートの周方向に沿って間隔を空けて配置される複数のねじ穴が対応して設置され、
前記捕集ユニットは更に複数の締付ねじを備え、各前記締付ねじが各前記ねじ穴に1対1で対応してねじ接続され、前記接続部と前記保護プレートとを固定して接続するためのものであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の捕集ユニット。 - 前記捕集プレートは少なくとも2つであって、前記保護プレートから離れる方向に沿って間隔を空けて設置され、且つ少なくとも2つの前記捕集プレートのうちの前記保護プレートから最も遠い前記捕集プレート以外に、残りの前記捕集プレートにいずれも複数の第2貫通孔が設置され、且つ隣接する2つの前記捕集プレート上の前記第2貫通孔の軸線が重ならず、前記保護プレートに最も近い前記捕集プレート上の前記第2貫通孔の軸線と前記保護プレート上の前記第1貫通孔の軸線とがいずれも重ならないことを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の捕集ユニット。
- 半導体予備洗浄チャンバであって、
キャビティと、前記キャビティ内に設置されるファラデー円筒と、ウエハを載置するためのベースと、請求項1~12のいずれか1項に記載の捕集ユニットと、を備え、前記捕集ユニットにおける前記保護プレートが前記ベースに套設され、且つ前記ベースがプロセス位置にあるとき、前記キャビティ内の空間を上部サブキャビティ及び下部サブキャビティに分割するように前記保護プレートが前記ファラデー円筒に嵌合することを特徴とする半導体予備洗浄チャンバ。
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