JP7422759B2 - 熱可塑性材料からなる容器の照射滅菌処理方法 - Google Patents
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Description
-各容器の照射時間を増やすために連続する2個の容器間の初期ピッチを選択的に変化させることからなるピッチの初期修正工程と、
-容器の照射領域を形成するように前記行程の一区間に配置された滅菌装置の少なくとも1つのエミッタから電子ビームを放出してフローの各容器を外部から照射することからなる照射工程と、
を少なくとも含む。
-前記初期ピッチの初期修正工程が、少なくとも前記照射領域で初期ピッチ未満の近位ピッチを得るために、搬送される容器の速度を減速することによって前記フローの容器同士の間隔を狭くすることからなり、
-前記初期ピッチの初期修正工程が、前記近位ピッチを得るための容器の少なくとも1つの減速工程を含み、
-前記方法が、前記フローの容器間の前記初期ピッチを再び設定するために容器同士の間隔を再び変化させる少なくとも1つの加速工程を含む、ピッチの最終修正工程を含み、
-前記方法が、搬送される容器のフローを:
・電子ビームを放出可能な少なくとも1つの第1のエミッタを含む第1の照射領域に向けて搬送される第1の容器のフローと、
・電子ビームを放出可能な少なくとも1つの第2のエミッタを含む第2の照射領域に向けて搬送される第2の容器のフローと、
に少なくとも分割することからなるフローの分割工程をピッチの初期修正行程の前に含み、
-容器のフローが前記第1のフローと前記第2のフローとをそれぞれ形成するように2個につき1個の容器の割合で分割されて、第1のフローと第2のフローのいずれか一方の連続する2個の容器の間隔が初期ピッチよりも大きい遠位ピッチに等しくなるようにし、
-容器のフローの分割後、初期ピッチの前記初期修正工程は、結合される前記第1の照射領域および第2の照射領域では少なくとも、前記少なくとも第1のフローおよび第2のフローの一方を構成する各容器の速度を減速するための少なくとも1つの減速工程を含み、
-容器のフローの分割工程後、初期ピッチの前記修正工程は、前記第1および第2の照射領域のそれぞれ上流および/または下流で前記第1のフローおよび第2のフローの各容器の速度を選択的に加速するための少なくとも1つの加速工程を含み、
-前記方法は、前記少なくとも1つの照射工程後、連続する2個の容器間の前記初期ピッチを有する容器のフローを得るために前記第1のフローと第2のフローの容器を合流させる(fusionner ensemble)ことからなるピッチの最終修正工程を含み、
-前記照射工程は、主軸を有する前記少なくとも1つのエミッタから放出される電子ビームで各容器の少なくとも本体を外部から照射することからなる第1の照射工程を含み、
-前記少なくとも1つのエミッタは、容器のフローが辿る移動方向が容器の主軸に直交するとき、このエミッタの前記主軸が、照射される容器の主軸にほぼ同軸になるように前記行程に対して配置され、
-前記少なくとも1つのエミッタは、容器のフローが辿る移動方向が容器の主軸に直交するとき、エミッタの主軸と容器の軸との間に含まれる傾斜角度で傾斜され、この傾斜角度は、エミッタの高さに対する容器の高さの比率が1に近くなるように決定され、
-各容器が上昇または下降運動に従って斜め移動を行うように、容器のフローが辿る移動方向が少なくとも前記エミッタの軸に対して傾斜した少なくとも1つの区間を含むとき、前記少なくとも1つのエミッタが、その主軸と容器の軸との間に90°の傾斜角度を有するように水平に配置され、
-各容器は、少なくとも前記第1の照射工程時にそれ自体がその軸を中心として回転駆動され、
-前記照射工程は、主軸を有し前記行程に沿って容器の真上に(a l’aplomb)配置される前記少なくとも1つのエミッタから放出される電子ビームで、各容器の少なくとも首部を照射することからなる第2の照射工程を含む。
-各容器10の照射時間を増やすために連続する2個の容器10の間の前記初期ピッチPを変化させることからなるピッチの初期修正工程と、
-滅菌装置100の前記少なくとも1つのエミッタ110から放出される電子ビーム(F)でフロー(fx)の各容器10を外部から照射することからなる照射工程と、
を少なくとも含む。
-少なくとも第1のエミッタ110を含む第1の照射領域Z1に搬送される第1の容器のフロー(f1)と、
-少なくとも1つの第2のエミッタ120を含む第2の照射領域(Z2)に搬送される第2の容器のフロー(f2)と、
に少なくとも分割される。
-各容器10の照射時間を増やすために連続する2個の容器10間の初期ピッチPを選択的に変化させることからなるピッチの初期修正工程と、
-滅菌装置100の少なくとも1つのエミッタ110、120、130から放出される電子ビームFで各容器10を外部から照射することからなる照射工程と、
を少なくとも含む。
Claims (10)
- 主軸(O)を有し、首部(14)を備えて底部(16)により閉鎖される本体(12)を含むタイプの熱可塑性材料からなる容器(10)の照射滅菌処理方法であって、フロー(fx)を形成する容器(10)が、連続する2個の容器(10)の軸(O)間の距離に対応する所定の間隔で、初期ピッチ(P)で所定の行程に沿ってコンベヤシステム(200)により搬送され、
-各容器(10)の照射時間を増やすために連続する2個の容器(10)間の前記初期ピッチ(P)を選択的に変化させることからなるピッチの初期修正工程と、
-容器(10)の照射領域(Z1、Z2、Z3)を形成するように前記行程の一区間に配置された滅菌装置(100)の少なくとも1つのエミッタ(110、120、130)から電子ビーム(F)を放出してフロー(fx)の各容器(10)を外部から照射することからなる照射工程と、
を少なくとも含み、
搬送される容器(10)のフロー(fx)を:
-電子ビーム(F)を放出可能な少なくとも1つの第1のエミッタ(110)を含む第1の照射領域(Z1)に搬送される容器の第1のフロー(f1)と、
-電子ビーム(F)を放出可能な少なくとも1つの第2のエミッタ(120)を含む第2の照射領域(Z2)に搬送される容器の第2のフロー(f2)と
に少なくとも分割することからなる、フロー(fx)の分割工程をピッチの初期修正工程の前に含む、
方法。 - 容器のフロー(fx)が、前記第1のフロー(f1)と前記第2のフロー(f2)をそれぞれ形成するように2個につき1個の容器(10)の割合で分割され、前記第1のフロー(f1)と第2のフロー(f2)のいずれか一方の連続する2個の容器(10)の間隔が初期ピッチ(P)よりも大きい遠位ピッチ(P’’)に等しくなるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の処理方法。
- 容器のフロー(fx)の分割後、初期ピッチ(P)の前記初期修正工程は、結合される前記第1の照射領域(Z1)と第2の照射領域(Z2)では少なくとも、前記少なくとも第1のフロー(f1)と第2のフロー(f2)との一方を構成する各容器(10)の速度を減速するための少なくとも1つの減速工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の処理方法。
- 容器のフロー(fx)の分割工程後、初期ピッチ(P)の前記初期修正工程は、前記第1の照射領域(Z1)と第2の照射領域(Z2)のそれぞれ上流および/または下流で前記第1のフロー(f1)と第2のフロー(f2)の各容器(10)の速度を選択的に加速するための少なくとも1つの加速工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の処理方法。
- -少なくとも1つの前記照射工程後、連続する2個の容器(10)間の前記初期ピッチ(P)を有する容器(10)のフロー(fx)を得るために前記第1のフロー(f1)と第2のフロー(f2)の容器(10)を合流させることからなるピッチの最終修正工程
を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の処理方法。 - 前記照射工程が、主軸(A)を有する前記少なくとも1つのエミッタ(110、120)から放出される電子ビーム(F)で各容器(10)の少なくとも本体を外部から照射することからなる第1の照射工程を含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の処理方法。
- 容器(10)のフロー(fx)が辿る移動方向が容器(10)の主軸(O)に直交するとき、前記少なくとも1つのエミッタ(110、120)は、エミッタの主軸(A)と容器の軸(O)との間に含まれる傾斜角度(α)で傾斜され、この傾斜角度は、エミッタの高さ(h)に対する容器の高さ(H)の比率が1であるように容器の高さ(H)に応じて決定されることを特徴とする請求項6に記載の処理方法。
- 各容器(10)が上昇または下降運動に従って斜め移動を行うように、容器(10)のフロー(fx)が辿る移動方向が前記少なくとも1つのエミッタ(110、120)の軸(A)に対して傾斜した少なくとも1つの区間を含むとき、前記少なくとも1つのエミッタ(110、120)は、その主軸(A)と容器の軸(O)との間に90°の傾斜角度(α)を有するように水平に配置されることを特徴とする請求項6に記載の処理方法。
- 各容器(10)が、少なくとも前記第1の照射工程の際にその軸(O)を中心としてそれ自体で回転駆動されることを特徴とする請求項6から8のいずれか一項に記載の処理方法。
- 前記照射工程が、主軸(A)を有し前記行程に沿って容器(10)の真上に配置される前記少なくとも1つのエミッタ(130)から放出される電子ビーム(F)で、各容器(10)の少なくとも首部(14)を照射することからなる第2の照射工程を含むことを特徴とする請求項6に記載の処理方法。
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