JP7418552B2 - Dax格子のための安定した上部ブリッジ製作 - Google Patents
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Description
a)平坦なサンプル上に複数の周期的に配置された格子ウェブと格子開口とを有するレジスト陰性格子を製造するステップと、
b)平坦なサンプル上の格子開口を、電気めっきによって充填するステップであって、、格子ウェブの高さまで電気めっきを継続することによって格子ラメラを形成する、充填するステップと、
c)レジスト陰性格子の上部に、格子ウェブに実質的に垂直な上部ブリッジの導入を可能とするフォームを加工するステップと、
d)レジスト陰性格子を所望の半径まで屈曲させるステップと、
e)レジスト陰性格子を屈曲させた後に、上部ブリッジを形成するために電気めっきによってフォームを充填するステップと
を有する。
a1)平坦なサンプル上に複数の周期的に配置された格子ウェブと格子開口とを有するレジスト陰性格子を製造するステップ、すなわちステップa)、
b1)レジスト陰性格子の上部に、格子ウェブに実質的に垂直な上部ブリッジの導入を可能とするフォームを加工するステップ、すなわちステップc)、
c1)平坦なサンプル上の格子開口を、電気めっきによって、格子ラメラを形成するために格子ウェブの高さまで電気めっきを継続することによって充填するステップ、すなわちステップb)、
d1)レジスト陰性格子を所望の半径に屈曲させるステップ、すなわちステップd)、及び
e1)レジスト陰性格子を屈曲させた後に、上部ブリッジを形成するために電気めっきによってフォームを充填するステップ、すなわちステップe)。
a2)平坦なサンプル上に複数の周期的に配置された格子ウェブと格子開口とを有するレジスト陰性格子を製造するステップ、すなわちステップa)、
b2)レジスト陰性格子の上部に、格子ウェブに実質的に垂直な上部ブリッジの導入を可能とするフォームを加工するステップ、すなわちステップc)、
c2)レジスト陰性格子を所望の半径に屈曲させるステップ、すなわちステップd)、及び
d2)平坦なサンプル上の格子開口を、電気めっきによって、格子ラメラを形成するために充填し、上部ブリッジを形成するために電気めっきを継続することによってフォームを充填するステップ、すなわちステップb)とステップe)とを1つのステップにおいて実施するステップ。
X線源と、
ソース格子と、
X線源から射出されたX線を回折させるための回折格子と、
回折格子によって回折されたX線の一部を吸収するための吸収格子と、
吸収格子を通過したX線を検知するための検知器と
を備え、
ソース格子、回折格子、及び吸収格子のうちの少なくとも1つは、上記及び下記に説明された例示的な実施形態及び実施例のうちの任意のものによる微細構造を備える。
上述された例示的な実施形態及び実施例のうちの任意のものによる撮像装置のソース格子と回折格子との間、又は回折格子と吸収格子との間に対象者を位置付けるステップと、
対象者に対してX線ビームを射出するステップと、
画像データを取得するために、対象者並びに撮像装置のソース格子、回折格子及び吸収格子を通過したX線ビームを検知するステップと
を有する。
Claims (12)
- X線暗視野撮像用及び/又はX線位相コントラスト撮像用撮像装置のX線格子を製造するための方法であって、前記方法は、
a)平坦なサンプル上に複数の周期的に配置された格子ウェブと格子開口とを有するレジスト陰性格子を製造するステップと、
b)前記平坦なサンプル上の前記格子開口を、電気めっきによって充填するステップであって、前記格子ウェブの高さまで前記電気めっきを継続することによって格子ラメラを形成する、充填するステップと、
c)前記レジスト陰性格子の上部に、前記格子ウェブに実質的に垂直な上部ブリッジの導入を可能とするフォームを加工するステップと、
d)前記レジスト陰性格子を所望の半径まで屈曲させるステップと、
e)前記レジスト陰性格子を屈曲させた後に、前記上部ブリッジを形成するために電気めっきによって前記フォームを充填するステップと
を有する、方法。 - 前記電気めっきを実施した後に、前記格子ラメラの間の前記レジスト陰性格子を除去するステップを更に有する、請求項1に記載の方法。
- ステップd)において、前記所望の半径までの前記レジスト陰性格子の正確な屈曲を可能とするフレームが提供される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記フレームの屈曲半径は、X線チューブに近接した前記撮像装置における取り付け位置に適合している、請求項3に記載の方法。
- 前記フレームは非導電性材料であるか、又は前記フレームは非導電性材料によって完全に覆われている、請求項3又は4に記載の方法。
- ステップe)は、前記電気めっきのための温度を選択するステップを更に有し、選択される前記温度は、前記X線格子の幾何学的形状変化及び/又は機械的応力が、前記撮像装置における前記X線格子の動作条件において最小であるか又は最小に近くなるように選ばれる、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記上部ブリッジは、前記上部ブリッジに起因する機械的応力が、前記撮像装置における前記X線格子の動作条件において最小であるか又は最小に近くなるような形状に形成される、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記上部ブリッジ及び前記格子ラメラは、同一の材料から作成される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記格子ラメラは、高X線吸収材料において電気めっきされ、
前記上部ブリッジは、低X線吸収材料において電気鋳造される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。 - 前記レジスト陰性格子は、前記格子ウェブを安定化させるための複数の安定化構造を備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記安定化構造は、ブリッジ構造及び/又は太陽光線構造を備える、請求項10に記載の方法。
- ステップd)における前記屈曲は、正屈曲又は負屈曲である、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
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