JP7413795B2 - 共重合体、ゴム組成物及びタイヤ - Google Patents
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Description
また、R1、R2は、同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
なお、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)(東ソー(株)製GPC-8000シリーズ、検出器:示差屈折計、カラム:東ソー(株)製のTSKGEL SUPERMULTIPORE HZ-M)による測定値を基に標準ポリスチレン換算により求めることができる。
ゴム成分100質量%中、上記共重合体の含有量は、好ましくは5質量%以上、より好ましくは20質量%以上、更に好ましくは40質量%以上、特に好ましくは45質量%以上であり、また、好ましくは85質量%以下、より好ましくは75質量%以下、更に好ましくは70質量%以下である。上記範囲内であると、効果がより良好に得られる傾向がある。
ジエン系ゴムとしては、天然ゴム(NR)や、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、クロロプレンゴム(CR)、ブチルゴム(IIR)などのジエン系合成ゴムなどが挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。なかでも、低燃費性及びウェットグリップ性能の総合性能の観点から、NR、SBR、BRが好ましく、NR、BRがより好ましい。
上記官能基としては、例えば、アミノ基、アミド基、シリル基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、イミノ基、イミダゾール基、ウレア基、エーテル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、メルカプト基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオカルボニル基、アンモニウム基、イミド基、ヒドラゾ基、アゾ基、ジアゾ基、カルボキシル基、ニトリル基、ピリジル基、アルコキシ基、水酸基、オキシ基、エポキシ基等が挙げられる。なお、これらの官能基は、置換基を有していてもよい。なかでも、アミノ基(好ましくはアミノ基が有する水素原子が炭素数1~6のアルキル基に置換されたアミノ基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~6のアルコキシ基)、アルコキシシリル基(好ましくは炭素数1~6のアルコキシシリル基)が好ましい。
シリカとしては、例えば、乾式法シリカ(無水ケイ酸)、湿式法シリカ(含水ケイ酸)等が挙げられるが、シラノール基が多いという理由から、湿式法シリカが好ましい。市販品としては、EVONIK社、東ソー・シリカ(株)、ソルベイジャパン(株)、(株)トクヤマ等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、シリカの窒素吸着比表面積は、ASTM D3037-81に準じてBET法で測定される値である。
シランカップリング剤としては、特に限定されず、例えば、3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィド、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2-トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(4-トリエトキシシリルブチル)テトラスルフィド、ビス(3-トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2-トリメトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(2-トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(4-トリメトキシシリルブチル)トリスルフィド、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2-トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4-トリエトキシシリルブチル)ジスルフィド、ビス(3-トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2-トリメトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4-トリメトキシシリルブチル)ジスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2-トリエトキシシリルエチル-N,N-ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3-トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィドなどのスルフィド系、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2-メルカプトエチルトリエトキシシラン、Momentive社製のNXT、NXT-Zなどのメルカプト系、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのビニル系、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ系、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、などのグリシドキシ系、3-ニトロプロピルトリメトキシシラン、3-ニトロプロピルトリエトキシシランなどのニトロ系、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシランなどのクロロ系などがあげられる。市販品としては、EVONIK社、Momentive社、信越シリコーン(株)、東京化成工業(株)、アヅマックス(株)、東レ・ダウコーニング(株)等の製品を使用できる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、補強性改善効果の観点から、スルフィド系が好ましく、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィドがより好ましく、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドが更に好ましい。
カーボンブラックとしては、特に限定されず、N134、N110、N220、N234、N219、N339、N330、N326、N351、N550、N762等が挙げられる。市販品としては、旭カーボン(株)、キャボットジャパン(株)、東海カーボン(株)、三菱ケミカル(株)、ライオン(株)、新日化カーボン(株)、コロンビアカーボン社等の製品を使用できる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、カーボンブラックのN2SAは、JIS K6217-2:2001に準拠して測定される値である。
レジンとしては、例えば、クマロンインデン系樹脂、スチレン系樹脂、テルペン系樹脂、C5/C9系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。市販品としては、例えば、丸善石油化学(株)、住友ベークライト(株)、ヤスハラケミカル(株)、東ソー(株)、Rutgers Chemicals社、BASF社、アリゾナケミカル社、日塗化学(株)、(株)日本触媒、JXTGエネルギー(株)、荒川化学工業(株)、田岡化学工業(株)、ExxonMobil社等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
老化防止剤としては、例えば、フェニル-α-ナフチルアミン等のナフチルアミン系老化防止剤;オクチル化ジフェニルアミン、4,4′-ビス(α,α′-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン等のジフェニルアミン系老化防止剤;N-イソプロピル-N′-フェニル-p-フェニレンジアミン、N-(1,3-ジメチルブチル)-N′-フェニル-p-フェニレンジアミン、N,N′-ジ-2-ナフチル-p-フェニレンジアミン等のp-フェニレンジアミン系老化防止剤;2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリンの重合物等のキノリン系老化防止剤;2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、スチレン化フェノール等のモノフェノール系老化防止剤;テトラキス-[メチレン-3-(3′,5′-ジ-t-ブチル-4′-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン等のビス、トリス、ポリフェノール系老化防止剤等が挙げられる。市販品としては、精工化学(株)、住友化学(株)、大内新興化学工業(株)、フレクシス社等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
オイルとしては、例えば、プロセスオイル、植物油脂、又はその混合物が挙げられる。プロセスオイルとしては、例えば、パラフィン系プロセスオイル、アロマ系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル等を用いることができる。植物油脂としては、ひまし油、綿実油、あまに油、なたね油、大豆油、パーム油、やし油、落花生油、ロジン、パインオイル、パインタール、トール油、コーン油、こめ油、べに花油、ごま油、オリーブ油、ひまわり油、パーム核油、椿油、ホホバ油、マカデミアナッツ油、桐油等が挙げられる。市販品としては、出光興産(株)、三共油化工業(株)、JXTGエネルギー(株)、オリソイ社、H&R社、豊国製油(株)、昭和シェル石油(株)、富士興産(株)等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ワックスとしては、特に限定されず、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス等の石油系ワックス;植物系ワックス、動物系ワックス等の天然系ワックス;エチレン、プロピレン等の重合物等の合成ワックス等が挙げられる。市販品としては、大内新興化学工業(株)、日本精蝋(株)、精工化学(株)等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ステアリン酸としては、従来公知のものを使用でき、市販品としては、日油(株)、花王(株)、富士フイルム和光純薬(株)、千葉脂肪酸(株)等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
酸化亜鉛としては、従来公知のものを使用でき、市販品としては、三井金属鉱業(株)、東邦亜鉛(株)、ハクスイテック(株)、正同化学工業(株)、堺化学工業(株)等の製品を使用できる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
硫黄としては、ゴム工業において一般的に用いられる粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、不溶性硫黄、高分散性硫黄、可溶性硫黄等が挙げられる。市販品としては、鶴見化学工業(株)、軽井沢硫黄(株)、四国化成工業(株)、フレクシス社、日本乾溜工業(株)、細井化学工業(株)等の製品を使用できる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
加硫促進剤としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、ジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィド等のチアゾール系加硫促進剤;テトラメチルチウラムジスルフィド(TMTD)、テトラベンジルチウラムジスルフィド(TBzTD)、テトラキス(2-エチルヘキシル)チウラムジスルフィド(TOT-N)等のチウラム系加硫促進剤;N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアジルスルフェンアミド(CBS)、N-tert-ブチル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド(TBBS)、N-オキシエチレン-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N,N′-ジイソプロピル-2-ベンゾチアゾールスルフェンアミド等のスルフェンアミド系加硫促進剤;ジフェニルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルビグアニジン等のグアニジン系加硫促進剤を挙げることができる。市販品としては、住友化学(株)、大内新興化学工業(株)等の製品を使用できる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
すなわち、上記ゴム組成物を、未加硫の段階でトレッド等の形状にあわせて押出し加工し、他のタイヤ部材とともに、タイヤ成型機上にて通常の方法で成形することにより、未加硫タイヤを形成する。この未加硫タイヤを加硫機中で加熱加圧することにより、タイヤを得る。
n-ヘキサン:関東化学(株)製
スチレン:関東化学(株)製
1,3-ブタジエン:東京化成工業(株)製
p-(t-ブトキシ)スチレン:富士フイルム和光純薬(株)製
3,4-ジメトキシスチレン:Sigma-Aldrich社製
4-エテニル-1,2-ビス[(トリメチルシリル)オキシ]ベンゼン:合成品
3,4-ジヒドロキシスチレン:富士フイルム和光純薬(株)製
4-エテニル-1-(トリメチルシリル)オキシ-2-メトキシ-ベンゼン:合成品
テトラメチルエチレンジアミン:関東化学(株)製
n-ブチルリチウム:関東化学(株)製の1.6M n-ブチルリチウムヘキサン溶液
アルコール:関東化学(株)製のメタノール
2,6-tert-ブチル-p-クレゾール:大内新興化学工業(株)製のノクラック
200
(重量平均分子量の測定)
重量平均分子量(Mw)は、東ソー(株)製GPC-8000シリーズの装置を用い、検知器として示差屈折計を用い、分子量は標準ポリスチレンにより校正した。
共重合体の構造同定は、日本電子(株)製JNM-ECAシリーズの装置を用いて測定した。
(共重合体(1))
十分に窒素置換した耐熱容器にn-ヘキサン1500ml、スチレン100mmol、1,3-ブタジエン800mmol、p-(t-ブトキシ)スチレン1mmol、テトラメチルエチレンジアミン0.2mmol、n-ブチルリチウム0.12mmolを加えて、0℃で48時間攪拌した。その後、アルコールを加えて反応を止め、反応溶液に2,6-tert-ブチル-p-クレゾール1gを添加後、再沈殿精製により共重合体(1)を得た。得られた共重合体は、Mw:480,000、p-(t-ブトキシ)スチレン成分の含有量:0.1mol%(0.33質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの使用量を5mmolとする点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(2)を得た。得られた共重合体は、Mw:490,000、p-(t-ブトキシ)スチレン成分の含有量:0.6mol%(1.61質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:79質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを1mmol加える点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(3)を得た。得られた共重合体は、Mw:470,000、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.30質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを5mmol加える点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(4)を得た。得られた共重合体はMw:480,000、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.6mol%(1.50質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:79質量%であった。
十分に窒素置換したガラス容器にヘキサン200mLとトリメチルクロロシラン1molを仕込み、氷冷しながら、3,4-ジヒドロキシスチレン1molとトリエチルアミン2molの混液を温度40℃以下で2時間以上かけて滴下した。TLC(薄層クロマトグラフィー)で3,4-ジヒドロキシスチレンのスポットの消失を確認した後、反応液をセライトろ過した後、ロータリーエバポレーターでヘキサンを濃縮し、ヘキサンで充填したシリカゲルカラムに通したのち、最も大きいスポットのみを含むフラクションを濃縮した。
濃縮液のLC-MS分析によって絶対分子量280を確認し、精製物が4-エテニル-1,2-ビス[(トリメチルシリル)オキシ]ベンゼンであることを確認した。
(共重合体(5))
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、4-エテニル-1,2-ビス[(トリメチルシリル)オキシ]ベンゼンを1mmol加える点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(5)を得た。得られた共重合体は、Mw:460,000、4-エテニル-1,2-ビス[(トリメチルシリル)オキシ]ベンゼン成分の含有量:0.1mol%(0.51質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジヒドロキシスチレンを1mmol加える点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(6)を得た。得られた共重合体は、Mw:620,000、3,4-ジヒドロキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.25質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
十分に窒素置換したガラス容器にヘキサン200mLとトリメチルクロロシラン0.5molを仕込み、氷冷しながら、3,4-ジヒドロキシスチレン1molとトリエチルアミン1molの混液を40℃以下で2時間以上かけて滴下した。TLC(薄層クロマトグラフィー)で3,4-ジヒドロキシスチレンのスポットの消失を確認した後、反応液をセライトろ過した後、ロータリーエバポレーターでヘキサンを濃縮し、ヘキサンで充填したシリカゲルカラムに通した後、最も大きいスポットのみを含むフラクションを濃縮した。
次いで、十分に窒素置換したガラス容器に200mLのヘキサンとジメチル硫酸0.5molを仕込み、前述の濃縮液とトリエチルアミン1molの混液を40℃以下で2時間以上かけて滴下した。TLC(薄層クロマトグラフィー)で濃縮液由来のスポットの消失を確認した後、反応液をセライトろ過した後、ロータリーエバポレーターでヘキサンを濃縮し、ヘキサンで充填したシリカゲルカラムに通したのち、最も大きいスポットのみを含むフラクションを濃縮した。
濃縮液のLC-MS分析によって絶対分子量222を確認し、精製物が4-エテニル-1-(トリメチルシリル)オキシ-2-メトキシ-ベンゼンであることを確認した。
(共重合体(7))
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、4-エテニル-1-(トリメチルシリル)オキシ-2-メトキシ-ベンゼンを1mmol加える点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(7)を得た。得られた共重合体は、Mw:470,000、4-エテニル-1-(トリメチルシリル)オキシ-2-メトキシ-ベンゼン成分の含有量:0.1mol%(0.39質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを1mmol加える点、Mw調整のため、テトラメチルエチレンジアミン、n-ブチルリチウムの使用量を変更する点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(8)を得た。得られた共重合体は、Mw:1,000、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.3質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを1mmol加える点、Mw調整のため、テトラメチルエチレンジアミン、n-ブチルリチウムの使用量を変更する点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(9)を得た。得られた共重合体は、Mw:2,500,000、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.3質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを1mmol加える点、Mw調整のため、テトラメチルエチレンジアミン、n-ブチルリチウムの使用量を変更する点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(10)を得た。得られた共重合体は、Mw:800、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.3質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
p-(t-ブトキシ)スチレンの代わりに、3,4-ジメトキシスチレンを1mmol加える点、Mw調整のため、テトラメチルエチレンジアミン、n-ブチルリチウムの使用量を変更する点以外は共重合体(1)と同様の処方により共重合体(11)を得た。得られた共重合体は、Mw:2,700,000、3,4-ジメトキシスチレン成分の含有量:0.1mol%(0.3質量%)、スチレン成分の含有量:19質量%、1,3-ブタジエン成分の含有量:80質量%であった。
BR:宇部興産(株)製のウベポールBR150B
SBR:JSR(株)製のSL574
共重合体(1)~(11):上記方法で合成
シリカ:EVONIK社製のULTRASIL VN3(N2SA:180m2/g)
シランカップリング剤:EVONIK社製のSi69(ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド)
老化防止剤:大内新興化学工業(株)製のノクラック6C(N-1,3-ジメチルブチル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン)
ステアリン酸:日油(株)製のステアリン酸
酸化亜鉛:三井金属鉱業(株)製の亜鉛華1号
硫黄:鶴見化学(株)製の粉末硫黄
加硫促進剤(1):大内新興化学工業(株)製のノクセラーCZ(N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミド)
加硫促進剤(2):大内新興化学工業(株)製のノクセラーD(1,3-ジフェニルグアニジン)
表1に示す配合内容に従い、(株)神戸製鋼所製の1.7Lバンバリーミキサーを用いて、硫黄及び加硫促進剤以外の材料を150℃の条件下で5分間混練りし、混練物を得た。次に、得られた混練物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、オープンロールを用いて、80℃の条件下で5分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を170℃で15分間プレス加硫し、加硫ゴム組成物を得た。
(株)上島製作所製スペクトロメーターを用いて、動的歪振幅1%、周波数10Hz、温度50℃で、上記加硫ゴム組成物のtanδを測定した。そして、tanδの逆数の値について、比較例1を100として指数表示した。数値が大きいほど転がり抵抗が小さく、低燃費性に優れることを示す。
(株)上島製作所製フラットベルト式摩擦試験機(FR5010型)を用いてウェットグリップ性能を評価した。上記加硫ゴム組成物からなる円筒形(幅20mm、直径100mm)のゴム試験片を用いて、速度20km/時間、荷重4kgf、路面温度20℃の条件で、路面に対するサンプルのスリップを0~70%まで変化させ、その際に検出される摩擦係数の最大値を読みとり、比較例1を100として指数表示した。数値が大きいほど摩擦係数の最大値が高く、ウェットグリップ性能に優れることを示す。
Claims (12)
- 前記式(1)で表される化合物成分の含有量が0.05~35質量%である請求項1記載のゴム組成物。
- 芳香族ビニル化合物成分の含有量が5~55質量%である請求項1又は2記載のゴム組成物。
- 共役ジエン化合物成分の含有量が40~90質量%である請求項1~3のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量%中、前記共重合体の含有量が5質量%以上である請求項1~4のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量部に対して、シリカの含有量が5~150質量部である請求項1~5のいずれかに記載のゴム組成物。
- 前記式(1)中のR 1 及びR 2 が、アルキル基である請求項1~6のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量%中、天然ゴムの含有量が5~50質量%である請求項1~7のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量%中、ブタジエンゴムの含有量が5~40質量%である請求項1~8のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量%中、前記共重合体の含有量が45~70質量%である請求項1~9のいずれかに記載のゴム組成物。
- ゴム成分100質量%中、スチレンブタジエンゴムの含有量が50質量%以下である請求項1~10のいずれかに記載のゴム組成物。
- 請求項1~11のいずれかに記載のゴム組成物で構成されたタイヤ部材を有するタイヤ。
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