JP7412138B2 - 銅および/または酸化銅を触媒とした無水酢酸の製造方法 - Google Patents
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- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 192
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 36
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 36
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 36
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 27
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 title claims description 27
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 27
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 21
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 249
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- -1 acetic anhydride Chemical class 0.000 description 1
- GFTWDQJSZPFMOZ-UHFFFAOYSA-N acetyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)=O.CC(=O)OC(C)=O GFTWDQJSZPFMOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Description
酢酸をガス化する工程における加熱管の材質としては、ガラス、ステンレス(SUS)、インコネル、ハステロイ、チタンなどを用いることができるが、200℃で耐酸性を有する材料であれば特に限定せずに用いることができる。
本発明において用いられるフローリアクターの形状は特に限定されないが、チューブ状または筒状のリアクターを好適に用いることができ、その断面は円形、四角形、三角形、六角形などの多角形などのリアクターを好適に用いることができるが、特にその形状については限定されない。
本発明の銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程は、500℃以上800℃以下の温度で行われることが好ましく、550℃以上800℃以下の温度で行われることがより好ましく、550℃以上750℃以下の温度で行われることがさらに好ましい。
本発明の無水酢酸の製造方法において、ガス化させた酢酸に不活性ガスを混合する工程をさらに含むことが可能である。不活性ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素などが挙げられるが、ヘリウム、アルゴン、窒素からなる群から選択される1種以上の不活性ガスであることが好ましい。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、直径0.5mm、長さ2mmの銅粒子が充填された、ヒーター2で加熱された流路幅8mmのフローリアクター(材質:銅、銅の含有量:99.9%)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、600℃の温度、0.1MPaの圧力下で反応(製造)を行った。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は3.3秒であった。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター2で加熱された流路幅8mmのフローリアクター(材質:銅、銅の含有量:99.9%)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、600℃の温度、0.1MPaの圧力下で反応(製造)を行った。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は5.8秒であった。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター2で加熱された流路幅3mmのフローリアクター(材質:銅、銅の含有量:99.9%)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、600℃の温度、0.1MPaの圧力下で反応(製造)を行った。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は0.8秒であった。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、直径0.5mm、長さ2mmの銅粒子が充填された、ヒーター2で加熱された流路幅3mmのフローリアクター(材質:銅、銅の含有量:99.9%)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、600℃の温度、0.1MPaの圧力下で反応(製造)を行った。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は0.3秒であった。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター2で加熱された流路幅8mmのフローリアクター(材質:SUS)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、750℃の温度、0.1MPaの圧力下で反応(製造)を行った。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は5.8秒であった。
酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター1で加熱された内径1.68mmの加熱管(材質:SUS)中に送り込み、200℃の温度、0.1MPaの圧力下で酢酸をガス化した。このガス化させた酢酸を0.1mL/分の速度で、ヒーター2で加熱された流路幅8mmのフローリアクター(材質:石英)中に送り込み、酢酸に対して36体積%となるように窒素を混合して、650℃の温度、0.1MPaの圧力下で無水酢酸を製造した。フローリアクターにおける酢酸の滞在時間は5.8秒であった。
Claims (11)
- 酢酸をガス化する工程、ガス化させた酢酸が接触する部分が銅および/または酸化銅を含有する材質から構成されるフローリアクターに導入する工程、および、銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程を有する、無水酢酸の製造方法。
- 前記フローリアクターに銅および/または酸化銅の粒子が充填されている、請求項1に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記フローリアクターが流路幅1μm以上5cm以下のフローリアクターである、請求項1または2に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記酢酸をガス化する工程が101℃以上250℃以下の温度で行われる、請求項1から3のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程が500℃以上800℃以下の温度で行われる、請求項1から4のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程が0.1秒以上60秒以下の時間で行われる、請求項1から5のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程が1.0MPa以下の圧力下で行われる、請求項1から6のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記ガス化させた酢酸に不活性ガスを混合する工程をさらに含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記不活性ガスがヘリウム、アルゴン、窒素からなる群から選択される1種以上の不活性ガスである、請求項8に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記銅および/または酸化銅を触媒として無水酢酸を製造する工程において生成した反応ガスを冷却し、凝縮した液体を回収する、請求項1から9のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
- 前記フローリアクターは、酢酸と接触する部分が、銅および/または酸化銅の含有量が50%以上100%以下である材質から構成されている、請求項1から10のいずれか一項に記載の無水酢酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019203728A JP7412138B2 (ja) | 2019-11-11 | 2019-11-11 | 銅および/または酸化銅を触媒とした無水酢酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019203728A JP7412138B2 (ja) | 2019-11-11 | 2019-11-11 | 銅および/または酸化銅を触媒とした無水酢酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021075490A JP2021075490A (ja) | 2021-05-20 |
JP7412138B2 true JP7412138B2 (ja) | 2024-01-12 |
Family
ID=75898921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019203728A Active JP7412138B2 (ja) | 2019-11-11 | 2019-11-11 | 銅および/または酸化銅を触媒とした無水酢酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7412138B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6881333B2 (ja) * | 2018-01-29 | 2021-06-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP6881332B2 (ja) * | 2018-01-29 | 2021-06-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000086572A (ja) | 1998-09-16 | 2000-03-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 無水酢酸の製造方法 |
-
2019
- 2019-11-11 JP JP2019203728A patent/JP7412138B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000086572A (ja) | 1998-09-16 | 2000-03-28 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 無水酢酸の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021075490A (ja) | 2021-05-20 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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