JP7403281B2 - マイクロ流路を形成するための硬化性シリコーン組成物及びその硬化物、並びにマイクロ流路デバイス及びその製造方法 - Google Patents
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-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは1~10の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマーを含む、マイクロ流路を形成するための硬化性シリコーン組成物であって、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%である、
硬化性シリコーン組成物によって達成される。
(R1 3SiO1/2)(R1R2SiO2/2)(R1 3SiO1/2)
(式中、
R1はそれぞれ独立に、1~12個の炭素原子を有するアルキル基、2~12個の炭素原子を有するアルケニル基、又は6~12個の炭素原子を有するアリール基を表し、
R2は、-C3H6O(C2H4O)7CH3又は-C3H6O(C2H4O)7Hを表す)
で表されるオルガノトリシロキサンから選択されることが好ましい。
(A)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2つのケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン、
(C)以下の式:
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは1~10の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマー、及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒
を含み、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%である、硬化性シリコーン組成物に関する。
(A1)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン、及び
(A2)SiO4/2シロキサン単位、R3R4 2SiO1/2シロキサン単位、及びR4 3SiO1/2シロキサン単位を含むオルガノポリシロキサン
(式中、R3はアルケニル基であり、R4はアルキル基であり、SiO4/2シロキサン単位に対するR3R4 2SiO1/2シロキサン単位及びR4 3SiO1/2シロキサン単位のモル比は0.6~1.2の範囲である)
の混合物であることが好ましい。
前記硬化物を型から離型する工程、及び
離型した前記硬化物を基材と貼り合わせる工程
を含む、マイクロ流路デバイスの製造方法にも関する。
以下、まずは本発明の硬化性シリコーン組成物について詳細に説明する。本発明の硬化性シリコーン組成物は、以下の式:
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは1~10の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマーを含む、マイクロ流路を形成するための硬化性シリコーン組成物であって、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%である。
(R1 3SiO1/2)(R1R2SiO2/2)(R1 3SiO1/2)
(式中、
R1はそれぞれ独立に、1~12個の炭素原子を有するアルキル基、2~12個の炭素原子を有するアルケニル基、又は6~12個の炭素原子を有するアリール基を表し、
R2は、-C3H6O(C2H4O)7CH3又は-C3H6O(C2H4O)7Hを表す)
で表されるオルガノトリシロキサンから選択されることができる。
(A)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2つのケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン、
(C)以下の式:
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは1~10の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマー、及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒
を含み、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%である。
(A1)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン、及び
(A2)SiO4/2シロキサン単位、R3R4 2SiO1/2シロキサン単位、及びR4 3SiO1/2シロキサン単位を含むオルガノポリシロキサン
(式中、R3はアルケニル基であり、R4はアルキル基であり、SiO4/2シロキサン単位に対するR3R4 2SiO1/2シロキサン単位及びR4 3SiO1/2シロキサン単位のモル比は0.6~1.2の範囲である)
の混合物であることが好ましい。
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは1~10の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマーである。(C)成分としては、上記の少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマーを同様に用いることができる。
本発明は、本発明の硬化性シリコーン組成物の硬化物にも関する。本発明の硬化物は、JIS K 6253に規定されるタイプAデュロメータ硬さが15~99であることが好ましく、40~90であることがより好ましい。硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さが上記範囲となることにより、強度及び成形性に優れた硬化物を得ることができ、マイクロ流路の形成に適している。
一実施形態において、本発明は、本発明の硬化物によって形成されたマイクロ流路を備えたマイクロ流路デバイス及びその製造方法にも関する。
前記硬化物を型から離型する工程、及び
離型した前記硬化物を基材と貼り合わせる工程
を含む、マイクロ流路デバイスの製造方法にも関する。
硬化性シリコーン組成物を、125℃の熱風循環式オーブンで20分間加熱することにより、硬化物を作製した。この硬化物表面の25℃における水の接触角を、自動接触角計(協和界面科学株式会社製のDM700)により測定した。
硬化性シリコーン組成物 約13gを30mlの透明ガラス瓶に投入し、125℃の熱風循環式オーブンで20分間加熱することにより、硬化物を作製した。この硬化物の外観を目視により観察した。
硬化性シリコーン組成物を、125℃の加熱プレス機で20分間加熱することにより、厚さ1mmの硬化物を作製した。この硬化物の25℃におけるヘイズ値を、ASTM D1003-97Cに規定の方法に従い、分光測色計(コニカミノルタ株式会社製のCM-5)により測定した。
硬化性シリコーン組成物を125℃で20分間加熱することにより、厚さ6mmの硬化物を作製した。この硬化物の硬さを、JIS K6253-1997で規定のタイプAデュロメータにより測定した。
硬化性シリコーン組成物を、125℃の加熱プレス機で20分間加熱することにより、厚さ2mmの硬化物を作製した。この硬化物をJIS K6251で規定のダンベル状3号形の試験片を形成するように打ち抜いた。この試験片を用いて、JIS K6249-1997で規定の方法に準じて、引張速度500mm/分で引張強さ及び破断時伸びを測定した。
下記の表1に示す成分を用いて硬化性シリコーン組成物のためのベース組成物を調製した。各構造式において、Meはメチル基であり、Viはビニル基であり、Acはアセチル基である。
オルガノシロキサンオリゴマーとして、(Me3SiO1/2)(MeRaSiO2/2)(Me3SiO1/2)(式中、RaはC3H6O(C2H4O)7Meを表す)を使用し、下記の表2及び表3に示す割合でベース組成物と配合して硬化性シリコーン組成物を調製した。それぞれの場合の外観、ヘイズ及び接触角を下記の表2に示す。また、実施例5並びに比較例1及び3の硬さ、引張強さ及び伸びを下記の表3に示す。
オルガノシロキサンオリゴマーとして、(Me3SiO1/2)(MeRbSiO2/2)(Me3SiO1/2)(式中、RbはC3H6O(C2H4O)7Hを表す)を使用し、下記の表3に示す割合でベース組成物と配合して硬化性シリコーン組成物を調製した。それぞれの場合の外観、ヘイズ及び接触角を下記の表4に示す。
オルガノシロキサンオリゴマーとして、(Me3SiO1/2)(MeRcSiO2/2)(Me3SiO1/2)(式中、RcはC3H6O(C2H4O)12Hを表す)を使用し、下記の表5に示す割合でベース組成物と配合して硬化性シリコーン組成物を調製した。それぞれの場合の外観、ヘイズ及び接触角を下記の表5に示す。
オルガノシロキサンオリゴマーとして、(Me3SiO1/2)(MeRdSiO2/2)(Me3SiO1/2)(式中、RdはC3H6O(C2H4O)12Acを表す)を使用し、下記の表6に示す割合でベース組成物と配合して硬化性シリコーン組成物を調製した。それぞれの場合の外観及び接触角を下記の表6に示す。
2 硬化性シリコーン組成物
3 硬化物
4 基材
Claims (11)
- 以下の式:
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは5~8の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマーを含む、マイクロ流路を形成するための硬化性シリコーン組成物であって、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%であり、
前記オルガノシロキサンオリゴマーが、以下の式:
(R 1 3 SiO 1/2 )(R 1 R 2 SiO 2/2 )(R 1 3 SiO 1/2 )
(式中、
R 1 はそれぞれ独立に、1~6個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
R 2 は、-C 3 H 6 O(C 2 H 4 O) 7 CH 3 又は-C 3 H 6 O(C 2 H 4 O) 7 Hを表す)
で表されるオルガノトリシロキサンから選択される、
硬化性シリコーン組成物。 - 前記オルガノシロキサンオリゴマーが、分子内に2~10個のケイ素原子を有する、請求項1に記載の硬化性シリコーン組成物。
- ヒドロシリル化反応により硬化されるものである、請求項1又は2に記載の硬化性シリコーン組成物。
- (A)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2つのケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン、
(C)以下の式:
-R-O-(C2H4O)m(C3H6O)nX
(式中、
Rは2~6個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Xは水素原子又は1~3個の炭素原子を有するアルキル基であり、
mは5~8の整数であり、
nは0~2の整数であり、
ここで、m>nである)
で表される少なくとも1つのポリエーテル基を分子内に有するオルガノシロキサンオリゴマー、及び
(D)ヒドロシリル化反応用触媒
を含み、
Xが水素原子である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.0質量%であり、
Xが1~3個の炭素原子を有するアルキル基である場合、前記オルガノシロキサンオリゴマーの含有量は硬化性シリコーン組成物に対して0.3~1.5質量%であり、
前記オルガノシロキサンオリゴマーが、以下の式:
(R 1 3 SiO 1/2 )(R 1 R 2 SiO 2/2 )(R 1 3 SiO 1/2 )
(式中、
R 1 はそれぞれ独立に、1~6個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
R 2 は、-C 3 H 6 O(C 2 H 4 O) 7 CH 3 又は-C 3 H 6 O(C 2 H 4 O) 7 Hを表す)
で表されるオルガノトリシロキサンから選択される、
請求項3に記載の硬化性シリコーン組成物。 - 前記(B)成分が、前記(A)成分中の脂肪族不飽和炭化水素基に対するケイ素原子結合水素原子のモル比が、0.1~10の範囲となる含有量で含まれる、請求項4に記載の硬化性シリコーン組成物。
- 前記(A)成分が、
(A1)一分子中に少なくとも2つの脂肪族不飽和炭化水素基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサン、及び
(A2)SiO4/2シロキサン単位、R3R4 2SiO1/2シロキサン単位、及びR4 3SiO1/2シロキサン単位を含むオルガノポリシロキサン
(式中、R3はアルケニル基であり、R4はアルキル基であり、SiO4/2シロキサン単位に対するR3R4 2SiO1/2シロキサン単位及びR4 3SiO1/2シロキサン単位のモル比は0.6~1.2の範囲である)
の混合物である、請求項4又は5に記載の硬化性シリコーン組成物。 - (E)ヒドロシリル化反応阻害剤
をさらに含む、請求項4から6のいずれか一項に記載の硬化性シリコーン組成物。 - 前記(E)成分は、前記(A)~(D)成分の合計100質量部に対して、0.01~3質量部の量で含まれる、請求項7に記載の硬化性シリコーン組成物。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載の硬化性シリコーン組成物の硬化物。
- 請求項9に記載の硬化物によって形成されたマイクロ流路を備えたマイクロ流路デバイス。
- マイクロ流路形成用の微細構造を有する型を用いて請求項1から8のいずれか一項に記載の硬化性シリコーン組成物を硬化して、微細構造が形成された硬化物を形成する工程、
前記硬化物を型から離型する工程、及び
離型した前記硬化物を基材と貼り合わせる工程
を含む、マイクロ流路デバイスの製造方法。
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