JP7403120B2 - ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 - Google Patents
ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7403120B2 JP7403120B2 JP2019206970A JP2019206970A JP7403120B2 JP 7403120 B2 JP7403120 B2 JP 7403120B2 JP 2019206970 A JP2019206970 A JP 2019206970A JP 2019206970 A JP2019206970 A JP 2019206970A JP 7403120 B2 JP7403120 B2 JP 7403120B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- sulfane
- polyarylene
- added
- ketone resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 161
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 161
- -1 sulfane ketone Chemical class 0.000 title claims description 47
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 title claims description 44
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 title claims description 35
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 22
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 18
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 9
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 71
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 24
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 22
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 21
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 20
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 14
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 11
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 10
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 10
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910000057 polysulfane Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006260 polyaryletherketone Polymers 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- UVGPELGZPWDPFP-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenoxybenzene Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1OC1=CC=CC=C1 UVGPELGZPWDPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229920001652 poly(etherketoneketone) Polymers 0.000 description 4
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGBYOWIYAKVOLO-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(phenylsulfanyl)benzene Chemical compound C=1C=C(SC=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 WGBYOWIYAKVOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSQARZALBDFYQZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-difluorobenzophenone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LSQARZALBDFYQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGSIZCFGIPNRJK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carbonochloridoylphenyl)sulfanylbenzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1SC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 QGSIZCFGIPNRJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FJXIPWRKSXGKSY-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1SC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FJXIPWRKSXGKSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical class CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 3
- 238000007336 electrophilic substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012765 fibrous filler Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSUWBBMPVXVSOA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carbonochloridoylphenoxy)benzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1OC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 OSUWBBMPVXVSOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQNOYHFCRNPFGZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-cyanophenyl)sulfanylbenzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1SC1=CC=C(C#N)C=C1 AQNOYHFCRNPFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPAJVBVULSLGG-UHFFFAOYSA-N 4-[(3r)-3-(trifluoromethyl)diazirin-1-ium-3-yl]benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1(C(F)(F)F)N=N1 CZPAJVBVULSLGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMTVYYZZGALHX-UHFFFAOYSA-N 4-[5,6-dichloro-2-[(e,3e)-3-[5,6-dichloro-1-ethyl-3-(4-sulfobutyl)benzimidazol-2-ylidene]prop-1-enyl]-3-ethylbenzimidazol-1-ium-1-yl]butane-1-sulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)CCCCN1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2N(CC)\C1=C/C=C/C1=[N+](CCCCS([O-])(=O)=O)C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2N1CC CXMTVYYZZGALHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOVAHFMIZVQLQX-UHFFFAOYSA-N (4-benzoyl-4-fluorocyclohexa-1,5-dien-1-yl)-(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CCC(F)(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 YOVAHFMIZVQLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNNMDMGPZUOOOE-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 BNNMDMGPZUOOOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOOZVQGGMFGGEE-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoyl chloride Chemical compound C1=CC(C(=O)Cl)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 AOOZVQGGMFGGEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 241000018242 Obba <basidiomycete fungus> Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004695 VICTREX™ PEEK Polymers 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052977 alkali metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N potassium-40 Chemical compound [40K] ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- LEMQFBIYMVUIIG-UHFFFAOYSA-N trifluoroborane;hydrofluoride Chemical compound F.FB(F)F LEMQFBIYMVUIIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polyethers (AREA)
Description
また、ハイドロキノンの代わりに、4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノンを使用することで製造される、1つの繰り返し単位中にエーテル基、ケトン基を1つずつ持つポリエーテルケトン樹脂(以下「PEK樹脂」と略すことがある。)や、1つの繰り返し単位中に1つのエーテル基、2つのケトン基を有するポリエーテルケトンケトン樹脂(以下「PEKK樹脂」と略すことがある。)もある。
芳香族求電子置換型溶液重縮合反応を用いた例として、4-フェノキシ安息香酸クロリドをフッ化水素-三フッ化ホウ素の存在下で反応させる方法によるPEK樹脂(例えば、特許文献2参照)、テレフタル酸クロリドとジフェニルエーテルをルイス酸の存在下で反応させる方法によるPEKK樹脂(例えば、特許文献3参照)、4-フェノキシ安息香酸をメタンスルホン酸と五酸化二リンの混合物存在下で反応させる方法によるPEK樹脂(例えば、特許文献4参照)等がある。
また、芳香族チオエーテルと芳香族ジカルボン酸ジハライドとをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性有機溶媒を用いて芳香族求電子置換反応により製造される、ポリスルファンスルファンケトンケトン樹脂(以下「PSSKK樹脂」と略すことがある。)が知られている(例えば、特許文献6参照)。
従来知られているPAEK樹脂やPASK樹脂において、低コスト、かつ簡便な条件及び方法により製造できる樹脂であって、耐熱性に優れた高いTgを有するとともに、成形加工性に優れた低いTmを満足する、Tg値とTm値のバランスの良い樹脂は、知られていない。
[1]下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位を有するポリアリーレンスルファンケトン樹脂。
[2]下記一般式(2-1)で表されるモノマー(2-1)と、下記一般式(2-2)で表されるモノマー(2-2)とを反応させて得られるポリアリーレンスルファンケトン樹脂。
[3]前記[1]又は[2]のいずれかに記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂を含む樹脂組成物。
[4]前記[1]又は[2]のいずれかに記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂を含む成形体。
[5]下記一般式(2-1)で表されるモノマー(2-1)と、下記一般式(2-2)で表されるモノマー(2-2)とを反応させる工程を有することを特徴とする、ポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法。
[6]前記モノマー(2-1)と前記モノマー(2-2)との反応工程を有機スルホン酸中で行う、前記[5]に記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法。
[7]前記有機スルホン酸がトリフルオロメタンスルホン酸である、前記[6]に記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法。
本発明のPASK樹脂は、下記一般式(2-1)で表されるモノマー(2-1)と、下記一般式(2-2)で表されるモノマー(2-2)とを反応させて得られるポリアリーレンスルファンケトン樹脂である。
上記一般式(1-1)で表される繰り返し単位を有する本発明のPASK樹脂のうち、特に、より好ましい実施態様として、例えば、下記繰り返し単位(1-1-A)で表されるポリスルファンスルファンケトンエーテルケトン樹脂(PSSKEK樹脂)、下記繰り返し単位(1-1-B)で表されるポリエーテルエーテルケトンスルファンケトン樹脂(PEEKSK樹脂)、又は下記繰り返し単位(1-1-C)で表されるポリスルファンスルファンケトンスルファンケトン樹脂(PSSKSK樹脂)等が挙げられる。
本発明のPASK樹脂が示すガラス転移温度(Tg)としては、125℃以上が好ましく、145℃以上がより好ましく、150℃以上がさらに好ましい。
また、本発明のPASK樹脂が示す結晶融点(Tm)としては、340℃以下が好ましく、335℃以下がより好ましく、330℃以下がさらに好ましい。
本発明のPASK樹脂のうち、特にガラス転移温度(Tg)が125℃以上であり、結晶融点(Tm)が330℃以下であるPASK樹脂が、Tg値とTm値のバランスのとれたより好ましいPASK樹脂となり、さらにガラス転移温度(Tg)が150℃以上であり、結晶融点(Tm)が330℃以下であるPASK樹脂が、特に好ましいPASK樹脂となる。
本発明のPASK樹脂の製造方法は、下記一般式(2-1)で表されるモノマー(2-1)と、下記一般式(2-2)で表されるモノマー(2-2)とを反応させる工程を有する。
上記一般式(2-2)で表されるモノマーとしては、例えば、4,4’-チオジベンゾイルクロライド(以下、TDBCとも記載する)、4,4’-チオジ安息香酸(以下、TDBAとも記載する)、4,4’-オキシビスベンゾイルクロライド(以下、OBBCとも記載する)、4,4’-オキシビス安息香酸(以下、OBBAとも記載する)等が挙げられる。
本発明のPASK樹脂を製造する際には、上記一般式(2-1)及び一般式(2-2)中、X1、X2、及びYのうちいずれか1つ以上が硫黄原子となるように、上記一般式(2-1)で表されるモノマーと上記一般式(2-2)で表されるモノマーとを適宜選択する。
本発明のPASK樹脂中に占める硫黄原子の量を変更することで、結晶融点の調節をすることができる。
例えば、脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン酸等が挙げられ、より具体的には、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸(トシル酸)等が挙げられる。
但し、得られるPASK樹脂の反応収率や、PASK樹脂のフィルム強度等を考慮すると、本発明のPASK樹脂を製造する際に使用する有機スルホン酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸が特に好ましい。
トリフルオロメタンスルホン酸を用いて本発明のPASK樹脂を製造すると、得られるPASK樹脂の反応収率は70%以上、好ましくは74%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上とすることができる。ここで、反応収率とは、モノマー(2-1)とモノマー(2-2)とを反応させることにより得られるPASK樹脂の理論上の質量に対する、実際に得られたPASK樹脂の質量の割合をしめす。
有機スルホン酸を用いて上記モノマー(2-1)と上記モノマー(2-2)とを反応させる際の好ましい実施態様としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸の存在下で反応させる場合、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンとの存在下で反応させる場合、メタンスルホン酸と五酸化二リンとの存在下で反応させる場合等が挙げられる。
PSSKEK樹脂を製造する方法としては、例えば、下記反応工程式(A)又は(B)に従うことができる。
中でも、上記反応工程式(A)の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸の存在下で反応させる、或いは五酸化二リンを併用し、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPSSKEK樹脂を製造するのが、より好ましい。
また、上記反応工程式(B)の場合は、メタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPSSKEK樹脂を製造するのが、より好ましい。
PEEKSK樹脂を製造する方法としては、例えば、下記反応工程式(C)又は(D)に従うことができる。
中でも、上記反応工程式(C)の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPEEKSK樹脂を製造するのが、より好ましい。
また、上記反応工程式(D)の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸の存在下で反応させる、或いは五酸化二リンを併用し、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPEEKSK樹脂を製造するのが、より好ましい。
PSSKSK樹脂を製造する方法としては、例えば、下記反応工程式(E)又は(F)に従うことができる。
中でも、上記反応工程式(E)の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸の存在下で反応させる、或いは五酸化二リンを併用し、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPSSKSK樹脂を製造するのが、より好ましい。
また、上記反応工程式(F)の場合は、トリフルオロメタンスルホン酸と五酸化二リンの存在下で反応させてPSSKSK樹脂を製造するのが、より好ましい。
本発明に係るPASK樹脂は、他の配合物と合わせて樹脂組成物を作製することができる。
他の配合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できるが、例えば、無機フィラー、有機フィラー等が挙げられる。
フィラーの形状としては、特に限定はなく、例えば、粒子状、板状、繊維状等のフィラーが挙げられる。
PASK樹脂を含有する樹脂組成物は、フィラーとしては繊維状フィラーを含有することがより好ましい。繊維状フィラーの中でも、カーボン繊維とガラス繊維は、産業上利用範囲が広いため、好ましい。
本発明に係るPASK樹脂は、耐熱性に優れ高いガラス転移温度(Tg)を有するとともに、低融点化が可能で、良好な成形加工性及び優れた耐衝撃性を有する。そのため、ニートレジンとしての使用や、ガラス繊維、炭素繊維、フッ素樹脂等のコンパウンドとしての使用が可能である。そして、本発明に係るPASK樹脂を成形することで、ロッド、ボード、フィルム、フィラメント等の一次加工品や、各種射出加工品、各種切削加工品、ギア、軸受、コンポジット、インプラント、3D成形品等の二次加工品を製造することができ、これらの本発明に係るPASK樹脂を成形してなる成形品は、自動車、航空機、電気電子、医療用部材等の利用が可能である。
パーキンエルマー製DSC装置(Pyris Diamond)を用いて、50mL/minの窒素流下、20℃/minの昇温条件で40~400℃まで測定を行い、ガラス転移点(Tg)および結晶融点(Tm)を求めた。
380℃のホットプレート上で樹脂粉末をカプトンフィルムで挟み、上から1kgの加重をかけることで樹脂を溶解したのち、直ちに冷却することで非晶フィルムを作製し、得られたフィルムを手で折り曲げることで、下記基準によりフィルム強度を評価した。
[評価基準]
〇 フィルムを180度に折り曲げても割れない
△ フィルムを180度に折り曲げると割れる
× フィルムを作製することができない
下記反応工程式(1)に従い、1,4-ビス(フェニルスルファニル)ベンゼン(BPSB)を得た。
100mLの三ツ口フラスコに、パラジヨードベンゼン0.904g、酸化銅(I)0.412gを加え、アルゴン雰囲気下とした。キノリン6.4mL、ピリジン1.6mL、ベンゼンチオール0.603gを加え、170℃で24時間撹拌した。室温まで冷やした後、トルエン30mLと3N塩酸25mLを加え、固体成分を吸引濾過にて濾別した。濾液をクロロホルムにて抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を除去し、真空乾燥を行うことで粗生成物を茶色固体として得た。これをヘキサン:クロロホルム=1:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで、1,4-ビス(フェニルスルファニル)ベンゼン0.62g(化合物-1)を白色固体として得た。
下記反応工程式(2)に従い、4,4’-チオジ安息香酸(TDBA)を得た。
50mLフラスコに4-ニトリルヨードベンゼン3.00g、1,10-フェナントロリン0.118g、炭酸カリウム1.81g、ヨウ化銅(I)0.124gを加え、アルゴン雰囲気下とした。N-メチルピロリドン(NMP)13mL、ビストリメチルシリルスルフィド1.17gを加え、120℃で14時間撹拌した。撹拌終了後、反応溶液に水を注いで反応を停止し、酢酸エチルで抽出、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を除去し、真空乾燥を行うことで粗生成物を茶色固体として得た。これをヘキサン:クロロホルム=1:1を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで4,4’-チオジベンゾニトリル0.81gを白色固体として得た。得られた4,4’-チオジベンゾニトリル0.60g、水酸化カリウム5.70g、水25mL、エタノール25mLを加え、一晩還流を行った。室温まで冷やした後、水へ注ぎ、3N塩酸を加えて酸性化した。析出した固体を吸引濾過にて濾別することで4,4’-チオジ安息香酸0.547g(化合物-2)を白色固体として得た。
下記反応工程式(3)に従い、4,4’-チオジベンゾイルクロライド(TDBC)を得た。
50mL枝付きフラスコに(化合物-2)1.5gを加え、アルゴン雰囲気下とした。脱水N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)0.1mLと塩化チオニル15mLを加え、室温下で3時間撹拌した後、昇温して一晩還流した。反応終了後、蒸留により塩化チオニルを除去し、残渣をエーテルで抽出して得られた有機層を水により洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を除去し、真空乾燥を行うことで4,4’-チオジベンゾイルクロライド1.34g(化合物-3)を白色固体として得た。
下記反応工程式(4)に従い、上記繰り返し単位(1-1-A)で表されるポリスルファンスルファンケトンエーテルケトン樹脂(PSSKEK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに、4,4’-オキシジベンゾイルクロライド0.928gと(化合物-1)1.00gを加え、アルゴン雰囲気下とした。氷浴で冷やしながらトリフルオロメタンスルホン酸20.9gを加え、60℃で22時間反応を行った。その後、反応溶液を氷水に注ぎ、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。得られた固体を200mLナスフラスコに移し、NMPを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、蒸留水によるかけ洗いを行った。固体を200mLナスフラスコに移し、沸騰水を加えて、15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、水によるかけ洗いを行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-1)1.36gを白色固体として得た。
下記反応工程式(5)に従い、上記繰り返し単位(1-1-B)で表されるポリエーテルエーテルケトンスルファンケトン樹脂(PEEKSK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに1,4-ジフェノキシベンゼン0.826g、(化合物-2)0.80g、五酸化二リン(十酸化四リンと同義である)1.68gを入れ、アルゴン雰囲気下とした。トリフルオロメタンスルホン酸22.9gを加え、60℃で22時間撹拌した。撹拌終了後、重合溶液に4-クロロフェノール46gを加え、溶液温度が65℃以下に収まるように水46gを30分かけてゆっくりと添加した。その後、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水46gを加え、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水46gを加え、炭酸カリウム4.20gを徐々に添加し、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液46gを加え、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。再度、有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液46g加え、80℃で30分撹拌した後、40℃まで冷却してからメタノール46gを添加し、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。ロート上の固体を押し固め、メタノール20gによるかけ洗いを行った後、温水20gによるかけ洗いを2回行った。固体を200mLナスフラスコに移し、N-メチルピロリドン(NMP)62gを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、NMP20gと温水20gによるかけ洗いを2回繰り返した。固体を100mLビーカーに移し、温水20gを加えて、スラリー状にした。これに塩酸を少し加えてpH4.0に調整し、10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水20gによるかけ洗いを2回行った。固体を100mLビーカーに移し、温水25gを加えて、スラリー状にした。10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水20gによるかけ洗いを2回行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-2)1.08gを灰色固体として得た。
下記反応工程式(6)に従い、上記繰り返し単位(1-1-B)で表されるポリエーテルエーテルケトンスルファンケトン樹脂(PEEKSK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに1,4-ジフェノキシベンゼン0.73gと(化合物-3)0.80gを加え、アルゴン雰囲気下とした。氷浴で冷やしながらトリフルオロメタンスルホン酸17.1gを加え、室温まで昇温して3時間撹拌を行った。その後、反応溶液を氷水に注ぎ、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。得られた固体を200mLナスフラスコに移し、NMPを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、沸騰水によるかけ洗いを行った。固体を200mLナスフラスコに移し、沸騰水を加えて、15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、水によるかけ洗いを行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-3)1.16gを白色固体として得た。
下記反応工程式(7)に従い、上記繰り返し単位(1-1-C)で表されるポリスルファンスルファンケトンスルファンケトン樹脂(PSSKSK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに(化合物-1)0.82gと(化合物-3)0.80gを加え、アルゴン雰囲気化とした。氷冷で冷やしながらトリフルオロメタンスルホン酸17.1gを加え、室温まで昇温し、3時間攪拌を行った。その後、反応溶液を氷水に注ぎ、析出した固体を吸引ろ過にて濾別した。得られた固体を200mLナスフラスコに移し、NMPを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、沸騰水によるかけ洗いを行った。固体を200mLナスフラスコに移し、沸騰水を加えて、15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、水によるかけ洗いを行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-4)1.18gを白色固体として得た。
下記反応工程式(8)に従い、上記繰り返し単位(1-1-A)で表されるポリスルファンスルファンケトンエーテルケトン樹脂(PSSKEK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに4,4’-オキシジ安息香酸0.812gと(化合物-1)1.0gを入れ、アルゴン雰囲気下とした。メタンスルホン酸18.1g、五酸化二リン1.81gを加え、60℃で22時間撹拌した。撹拌終了後、重合溶液に4-クロロフェノール50gを加え、溶液温度が65℃以下に収まるように水50gを30分かけてゆっくりと添加した。その後、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水50gを加え、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水50gを加え、炭酸カリウム5.21gを徐々に添加し、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液50gを加え、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。再度、有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液50g加え、80℃で30分撹拌した後、40℃まで冷却してからメタノール50gを添加し、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。ロート上の固体を押し固め、メタノール25gによるかけ洗いを行った後、温水25gによるかけ洗いを2回行った。固体を200mLナスフラスコに移し、NMP66gを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、NMP25gと温水25gによるかけ洗いを2回繰り返した。固体を100mLビーカーに移し、温水25gを加えて、スラリー状にした。これに塩酸を少し加えてpH4.0に調整し、10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水25gによるかけ洗いを2回行った。固体を100mLのビーカーに移し、温水25gを加えて、スラリー状にした。10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水25gによるかけ洗いを2回行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-5)0.368gを灰色固体として得た。
下記反応工程式(9)に従い、上記繰り返し単位(1-1-B)で表されるポリエーテルエーテルケトンスルファンケトン樹脂(PEEKSK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに(化合物-2)1.0gと1,4-ジフェノキシベンゼン1.03gを入れ、アルゴン雰囲気下とした。メタンスルホン酸21.0g、五酸化二リン2.10gを加え、60℃で22時間撹拌した。撹拌終了後、重合溶液に4-クロロフェノール55gを加え、溶液温度が65℃以下に収まるように水55gを30分かけてゆっくりと添加した。その後、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水55gを加え、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水55gを加え、炭酸カリウム6.0gを徐々に添加し、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液55gを加え、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。再度、有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液55g加え、80℃で30分撹拌した後、40℃まで冷却してからメタノール55gを添加し、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。ロート上の固体を押し固め、メタノール28gによるかけ洗いを行った後、温水28gによるかけ洗いを2回行った。固体を200mLナスフラスコに移し、NMP73gを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、NMP28gと温水28gによるかけ洗いを2回繰り返した。固体を100mLビーカーに移し、温水28gを加えて、スラリー状にした。これに塩酸を少し加えてpH4.0に調整し、10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水28gによるかけ洗いを2回行った。固体を100mLビーカーに移し、温水28gを加えて、スラリー状にした。10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水28gによるかけ洗いを2回行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(樹脂-6)0.627gを灰色固体として得た。
下記工程により、ポリエーテルエーテルケトンエーテルケトン樹脂(PEEKEK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに4,4’-ジカルボキシジフェニルエーテル2.83gと1,4-ジフェノキシベンゼン3.00gを入れ、アルゴン雰囲気下とした。メタンスルホン酸61.1g/五酸化二リン6.11gを加え、60℃で22時間撹拌した。撹拌終了後、重合溶液に4-クロロフェノール154gを加え、溶液温度が65℃以下に収まるように水154gを30分かけてゆっくりと添加した。その後、60℃で30分撹拌し、10分間静置した後に水層を除去した。有機層に水154gを加え、炭酸カリウム17.6gを徐々に添加し、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液154gを加え、80℃で30分撹拌した後、水層を除去した。再度、有機層に0.5N炭酸カリウム水溶液154g加え、80℃で30分撹拌した後、40℃まで冷却してからメタノール154gを添加し、析出した固体を吸引濾過にて濾別した。ロート上の固体を押し固め、メタノール77gによるかけ洗いを行った後、温水77gによるかけ洗いを2回行った。固体を500mLナスフラスコに移し、NMR205gを加えて、150℃で15分間撹拌した。吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、NMP77gと温水77gによるかけ洗いを2回繰り返した。固体を200mLビーカーに移し、温水77gを加えて、スラリー状にした。これに塩酸を少し加えてpH4.0に調整し、10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水77gによるかけ洗いを2回行った。固体を200mLビーカーに移し、温水77gを加えて、スラリー状にした。10分撹拌した後、吸引濾過にて濾別した固体をロート上で押し固め、温水77gによるかけ洗いを2回行った。得られた固体を120℃で一晩減圧乾燥することで(比較樹脂-1)4.96gを白色固体として得た。
下記工程により、ポリスルファンスルファンケトンケトン樹脂(PSSKK樹脂)を得た。
500mLセパラブルフラスコに4,4’-ジフロロテレフタロフェノン16.10gとp-ジメルカプトベンゼン7.46g、無水炭酸カリウム6.90gおよびキサントン40gを加え、アルゴン雰囲気下とした。撹拌しながら200℃まで1時間かけて昇温し、その後240℃で15分間保持し、さらに320℃で3時間撹拌した。撹拌終了後、重合溶液に塩化メチルを20分間吹込んだ後冷却し、粉砕後、温アセトンで2回、温水で2回、さらに温アセトンで1回洗浄を行い、得られた固体を120℃で一晩乾燥させることで(比較樹脂-2)20.0gを得た。
ポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK樹脂)として、Victrex社製のPEEK150PFを用意した。
また、比較例3に係るPEEK樹脂のガラス転移温度(Tg)、結晶融点(Tm)の測定結果、及びフィルム強度の評価結果を表2に示す。
本発明のPASK樹脂は、ガラス転移温度と結晶融点とのバランスに優れた、耐熱性にも成形加工性にも優れた樹脂とすることができる。
Claims (3)
- 下記一般式(2-1)で表されるモノマー(2-1)と、下記一般式(2-2)で表されるモノマー(2-2)とを、トリフルオロメタンスルホン酸中で反応させる工程を有することを特徴とする、下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位を有するポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法。
- 請求項1に記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法でポリアリーレンスルファンケトン樹脂を得た後、得られたポリアリーレンスルファンケトン樹脂を含むポリアリーレンスルファンケトン樹脂組成物を製造する、ポリアリーレンスルファンケトン樹脂組成物の製造方法。
- 請求項1に記載のポリアリーレンスルファンケトン樹脂の製造方法でポリアリーレンスルファンケトン樹脂を得た後、得られたポリアリーレンスルファンケトン樹脂又は該ポリアリーレンスルファンケトン樹脂を含むポリアリーレンスルファンケトン樹脂組成物を成形することを特徴とする、ポリアリーレンスルファンケトン樹脂を含む成形体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019206970A JP7403120B2 (ja) | 2019-11-15 | 2019-11-15 | ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019206970A JP7403120B2 (ja) | 2019-11-15 | 2019-11-15 | ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021080332A JP2021080332A (ja) | 2021-05-27 |
JP7403120B2 true JP7403120B2 (ja) | 2023-12-22 |
Family
ID=75964156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019206970A Active JP7403120B2 (ja) | 2019-11-15 | 2019-11-15 | ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7403120B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022239596A1 (ja) | 2021-05-11 | 2022-11-17 | シンクサイト株式会社 | 特徴量算出装置、特徴量算出方法、及びプログラム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002332346A (ja) | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Jsr Corp | 重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する膜形成用組成物 |
-
2019
- 2019-11-15 JP JP2019206970A patent/JP7403120B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002332346A (ja) | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Jsr Corp | 重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する膜形成用組成物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Mitsuru UEDA et al.,"Synthesis of aromatic poly(thioether ketone)",Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry,1992年08月,Vol. 30, No. 9,p.1993-1998,DOI: 10.1002/pola.1992.080300923 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021080332A (ja) | 2021-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7403120B2 (ja) | ポリアリーレンスルファンケトン樹脂、及びその成形体 | |
WO2016057253A1 (en) | Dispersant for use in synthesis of polyaryletherketones | |
US5354836A (en) | Thiophene-based polymers | |
KR102345854B1 (ko) | 폴리아릴렌에테르케톤 수지 및 그 제조 방법, 그리고 성형품 | |
JP6819841B1 (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JPS60235835A (ja) | シアンアリ−ルオキシ系共重合体の製造法 | |
KR20180074043A (ko) | 프탈로니트릴 수지 | |
EP3904424A1 (en) | Poly(arylene ether ketone) resin, production method for same, and molded article | |
US4071499A (en) | High temperature polyester resins from 4,4'-bis(p-hydroxyphenoxy)diphenyl ether and terephthalic acid | |
JPH0356252B2 (ja) | ||
JPH0433294B2 (ja) | ||
JP7323891B2 (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JP2023005590A (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JP2022165022A (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JP2022165179A (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JPS61159420A (ja) | 芳香族ポリエ−テル系共重合体 | |
JP2022165147A (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに成形体 | |
JPH0475251B2 (ja) | ||
JP2024038779A (ja) | 芳香族ポリエーテルケトン樹脂、該樹脂の製造方法、該樹脂を含む組成物、成形体 | |
JP2024038822A (ja) | ポリアリールエーテルケトン樹脂、該樹脂を含む組成物、成形体、該樹脂の製造方法 | |
JP2023151638A (ja) | ポリアリーレンエーテルケトン樹脂及びその製造方法、並びに芳香族ジケトン化合物 | |
JPH0551013B2 (ja) | ||
JPH0428733B2 (ja) | ||
JPH05140296A (ja) | 新規ポリアリーレンエーテルケトン | |
JPH04220425A (ja) | ポリエーテルケトン系共重合体とその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221013 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230718 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230831 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231204 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7403120 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |