JP7393907B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
前記回転テーブルを囲むように設けられ、前記回転テーブルの回転によって回転する前記基板から飛散する処理液を受け止める、上端面及び下端面のそれぞれが開放された環状のカップの内側の空間と、前記カップの外壁面との間に隙間を介して位置する中板によって前記処理室と区画された前記下端面側の空間とを、前記隙間よりも前記カップ側において開口を通して連通させて前記カップ内からの気体を、前記下端面側の空間を含み、前記処理室からの気体を排出するための排気流路に流す連通部における前記開口の広さを調整する開口調整ステップを有する構成となる。
「気体が導入される処理室に搬入されて回転する回転テーブルに保持された基板に処理液を供給して基板処理を行う基板処理装置であって、
前記回転テーブルを囲むように設けられ、前記回転テーブルの回転によって回転する前記基板から飛散する処理液を受け止める、上端面及び下端面のそれぞれが開放された環状のカップと、
前記処理室からの気体を排出するための排気流路と、を有する基板処理装置」において、基板から飛散する処理液がカップに衝突して発生するミストが排気流路に流れず、前記基板に付着する原因について調査したところ、次のことが判明した。
本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置は、図1及び図2に示すように構成される。図1は、基板処理装置の構造を示す断面模式図であり、図2は、図1の2-2線の断面位置での概略構成を示す図である。
次に、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。この第2の実施の形態に係る基板処理装置では、開口調整機構としてのカバー19及び昇降機構37に代えて、他の構造のカバー及びその駆動機構が用いられる。そのカバー及びその駆動機構は、図6A及び図6Bに示すように構成される。なお、カバー及びその駆動機構以外の構造は、前述した第1の実施の形態のものと同じであり、相違する前記カバー及びその駆動機構を中心に説明し、共通する点については適宜省略する。また、第1の実施の形態と共通する要素については同一の名称及び同一の符号を使用する。
上述した第2の実施の形態に係る基板処理装置11で用いられたカバー51を傾斜駆動させる筒体駆動機構(ワイヤ52、巻取り部55)の変形例について説明する。この変形例は、図8に示すように構成される。
次に、本発明の第3の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。この第3の実施の形態に係る基板処理装置では、カップ18内と排気流路23a、23aとを開口を通して連通させる連通部、及びその開口の広さを調整する開口調整機構が、前述した各実施の形態及び変形例とは異なり、図9A、図9Bに示すような構成を含む。なお、この連通部及び開口調整機構以外の構造は、第1の実施の形態のものと基本的に同じであり、相違する前記連通部及びその開口調整機構を中心に説明し、共通する点については適宜省略する。また、第1の実施の形態と共通する要素については同一の名称及び同一の符号を使用する。
上述した第3の実施の形態に係る基板処理装置11で用いられた筒状シャッター板101の変形例について説明する。この変形例は、図13に示すように構成される。
13 処理室
14 筐体
14a 外壁部
14b 底壁部
15 回転テーブル
16 下端側流路
17 回転駆動部
18 カップ
18a 壁部
18b 傾斜部
19 カバー
19a 長孔
20 内室
20a 側内壁部
20b 中板
20c 孔
20d 上内壁部
20e 仕切り壁部
21 セパレータ
22 処理室圧力検出器
23a、23b 排気流路
25 排気流路圧力検出器
26 制御部
28 ガイドピン
37 昇降機構
37a シリンダ
37b ロッド
42 ノズル
43 ノズル移動機構
43a 可動アーム
43b アーム揺動機構
51 カバー
51a カバー片
51b 切り込み
52 ワイヤ(紐状部材)
53 ワイヤガイド
55 巻き取り部(巻き取り機構)
61a、61b サーボモータ
62a、62b 直線変換機構
63a、63b 枠体
101 筒状シャッター板
103a、103b 長孔
105a、105b、105c 通孔
106a、106b、106c 調整孔
111a、111b ガイド棒
112a、112b 連結具
113a、113b 動作棒
115a、115b 動作変換機構
116a、116b サーボモータ
120a、120b、120c 開口部分
130a、130b 通孔
133a、133b シャッター板
138a、138b 開口部分
Claims (11)
- 気体が導入される処理室に搬入されて、回転する回転テーブルに保持された基板に処理液を供給して基板処理を行う基板処理装置であって、
前記回転テーブルを囲むように設けられ、前記回転テーブルの回転によって回転する前記基板から飛散する処理液を受け止める、上端面及び下端面のそれぞれが開放された環状のカップと、
前記カップの外壁面との間に隙間を介して位置し、前記カップの外側において前記処理室と前記下端面側の空間とを区画する中板と、
前記下端面側の空間を含み、前記処理室からの気体を排出するための排気流路と、
前記隙間よりも前記カップ側において前記カップの内側の空間と前記下端面側の空間とを開口を通して連通させ、前記カップ内からの気体を前記排気流路に流す連通部と、
前記連通部の前記開口の広さを調整する開口調整機構と、を有する基板処理装置。 - 前記連通部は、前記カップを、前記カップの下端縁より下方に形成される前記開口としての隙間を通して前記排気流路に連通させる下端側流路を含み、
前記開口調整機構は、
前記カップの内周壁面に沿って昇降動が可能であって、その昇降動により前記カップの下端縁からの突出量が可変となる調整筒体と、
前記調整筒体を昇降動させる昇降機構と、を備え、
昇降動による前記調整筒体の前記カップの下端縁からの突出量を調整することにより、前記カップの下端縁より下方に形成される前記開口の広さを調整する、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記連通部は、前記カップを、前記カップの下端縁より下方に前記下端面と平行に形成される開口を通して前記排気流路に連通させる下端側流路を含み、
前記開口調整機構は、
前記カップの下端縁から下方に向けてすぼむように内側に傾斜可能な調整筒体と、
前記調整筒体を傾斜駆動させる筒体駆動機構と、を備え、
傾斜駆動による前記調整筒体の内側への傾斜の程度を調整することにより、前記調整筒体の下端縁に囲まれて形成される前記開口の広さを調整する、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記カップには、前記開口としての通孔が形成され、
前記開口調整機構は、
前記通孔を覆う量が可変となるように前記カップの内周壁面に沿って移動可能なシャッター板部材と、
前記シャッター板部材を移動させるシャッター移動機構と、を有し、
前記連通部は、前記シャッター板部材にて覆われていない部分を通して前記カップ内と前記排気流路とを連通させる前記カップの前記通孔を含む、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記シャッター板部材には調整孔が形成されており、
前記シャッター移動機構は、前記シャッター板部材を移動させて、前記調整孔と前記カップに形成された前記通孔との重なりの程度を調整するようにした、請求項4記載の基板処理装置。 - 前記シャッター板部材は、前記カップの内周壁面に沿って回動可能に設けられた筒状シャッター板であって、
前記シャッター移動機構は、前記筒状シャッター板を前記カップの内周壁面に沿って回動させるシャッター回動機構を有する、請求項5記載の基板処理装置。 - 前記処理室内の第1気体圧力を検出する第1圧力検出手段と、
前記排気流路内の第2気体圧力を検出する第2圧力検出手段と、
前記第1気体圧力と前記第2気体圧力との差分に基づいて、前記開口調整機構を制御する制御部と、を有する請求項1乃至6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記第1気体圧力が第2気体圧力より所定値を越えて大きくなるように、前記開口調整機構を制御する圧力差維持制御手段を有する、請求項7記載の基板処理装置。
- 気体が導入される処理室に搬入されて、回転する回転テーブルに保持された基板に処理液を供給して基板処理を行う基板処理方法であって、
前記回転テーブルを囲むように設けられ、前記回転テーブルの回転によって回転する前記基板から飛散する処理液を受け止める、上端面及び下端面のそれぞれが開放された環状のカップの内側の空間と、前記カップの外壁面との間に隙間を介して位置する中板によって前記処理室と区画された前記下端面側の空間とを、前記隙間よりも前記カップ側において開口を通して連通させて前記カップ内からの気体を、前記下端面側の空間を含み、前記処理室からの気体を排出するための排気流路に流す連通部における前記開口の広さを調整する開口調整ステップを有する基板処理方法。 - 前記処理室内の第1気体圧力値を検出する第1圧力検出ステップと、
前記排気流路内の第2気体圧力値を検出する第2圧力検出ステップと、を有し、
前記開口調整ステップは、前記第1気体圧力値と前記第2気体圧力値との差分に基づいて、前記開口の広さを調整する、請求項9記載の基板処理方法。 - 前記開口調整ステップは、前記第1気体圧力値が第2気体圧力値より所定値を越えて大きくなるように、前記開口の広さを調整する、請求項10記載の基板処理方法。
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