JP7393874B2 - 離型フィルムおよび電子装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 claims description 56
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 35
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 23
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 22
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 20
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 17
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 10
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 10
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 10
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 claims description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 8
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 6
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 6
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 claims description 4
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 claims description 4
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 claims description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 3
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 claims description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 203
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 26
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 26
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 5
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 4
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 4
- 229920013653 perfluoroalkoxyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000010702 perfluoropolyether Chemical group 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 239000004699 Ultra-high molecular weight polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000785 ultra high molecular weight polyethylene Polymers 0.000 description 3
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006367 Neoflon Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSKKUMVHJJUXFR-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-[3-(2-amino-3-propylphenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]-6-propylaniline Chemical compound CCCC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C(=CC=CC=3)OC=3C=C(OC=4C(=C(CCC)C=CC=4)N)C=CC=3)C=CC=2)=C1N ZSKKUMVHJJUXFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQLOCJDEICYIDJ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[3-[3-(2-aminophenoxy)phenoxy]-5-butan-2-ylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C(OC=2C=C(OC=3C(=CC=CC=3)N)C=CC=2)=CC(C(C)CC)=CC=1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1N RQLOCJDEICYIDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDZQHTCHMCKVAS-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[4-[3-(2-amino-3-propylphenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]-6-propylaniline Chemical compound CCCC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=CC(OC=4C=C(OC=5C(=C(CCC)C=CC=5)N)C=CC=4)=CC=3)C=CC=2)=C1N LDZQHTCHMCKVAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSELOKBZDHROGO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[3-[4-(2-amino-6-methylphenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3C)N)=CC=2)=C1 MSELOKBZDHROGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVEOWWNUWVUQKN-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-aminophenoxy)phenyl]sulfinylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)C=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3)N)=CC=2)C=C1 NVEOWWNUWVUQKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenoxy)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPOCTPGABIRZFY-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)sulfanylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(SC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O JPOCTPGABIRZFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMXFZZAJHRLHGP-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O FMXFZZAJHRLHGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfanylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(SC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHWXZLXQXAZQTO-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfinylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 QHWXZLXQXAZQTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKGYNWLJTGAEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)sulfanylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=CC(N)=C1 ZKGYNWLJTGAEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMNVDCJJQDKD-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)sulfinylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)C1=CC=CC(N)=C1 HDGMNVDCJJQDKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDBWYUOUYNQZBM-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)aniline Chemical compound NCC1=CC=CC(N)=C1 ZDBWYUOUYNQZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=CC(N)=C1 FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFSUKONUQMHUKQ-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1C(O)=O DFSUKONUQMHUKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2,3-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O PAHZZOIHRHCHTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZXJAHGHOJFYRT-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C(=CC=CC=2)OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 BZXJAHGHOJFYRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHLYWRJXWSALB-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[3-[2-(3-aminophenoxy)-4-methylphenoxy]phenoxy]-5-methylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(N)=CC=1OC1=CC(C)=CC=C1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(C)C=C1OC1=CC=CC(N)=C1 CBHLYWRJXWSALB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUJGQJMITCJTFA-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(2,3-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C(=C(C(O)=O)C=CC=3)C(O)=O)C=CC=2)=C1C(O)=O FUJGQJMITCJTFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPFWCWGTRNXMY-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[2-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]-4-methylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=CC=1OC1=CC(C)=CC=C1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC(N)=C1 LHPFWCWGTRNXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBUNNYTXPDCASY-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[2-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)C(C=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 GBUNNYTXPDCASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUBVISJHPJDMV-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]-2-methylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC=C(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)C(C)=C1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC(N)=C1 KZUBVISJHPJDMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVOQNVBQVMOFPV-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(OC=4C=C(OC=5C=C(N)C=CC=5)C=CC=4)C=CC=3)C=CC=2)=C1 JVOQNVBQVMOFPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKBVSVURLIGINX-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[4-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]-2,5-ditert-butylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound CC(C)(C)C=1C=C(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)C(C(C)(C)C)=CC=1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC(N)=C1 AKBVSVURLIGINX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHDSXXRHWXXXBY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(2,3-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C(=C(C(O)=O)C=CC=3)C(O)=O)=CC=2)=C1C(O)=O KHDSXXRHWXXXBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQHPRIRSWZEGEK-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[1-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(N)C=CC=2)C=CC=1C(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 UQHPRIRSWZEGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOUQMRHSPOKPBD-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]butan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(N)C=CC=2)C=CC=1C(C)(CC)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 KOUQMRHSPOKPBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDROEGDWWLIVJF-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(CCC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 BDROEGDWWLIVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(N)C=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUCUWNCTOJOFDO-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[3-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]-2-ethylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC=C(OC=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)C(CC)=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 VUCUWNCTOJOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTGZLMAOCDBFBL-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[3-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=C(OC=4C=CC(OC=5C=C(N)C=CC=5)=CC=4)C=CC=3)=CC=2)=C1 VTGZLMAOCDBFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JERFEOKUSPGKGV-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(SC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 JERFEOKUSPGKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHWGYHNEDIPTO-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfinylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 VTHWGYHNEDIPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMXOEWEUZTWAK-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(CC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 YSMXOEWEUZTWAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILWHDNLOJCHNJ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfanylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1SC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 VILWHDNLOJCHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPNXMUZTKHUSRQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-4-methylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)-2-methylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=CC(C)(N)CC=2)=C1 FPNXMUZTKHUSRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUEZZVQPABKJJV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-4-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-1-methylcyclohexa-2,5-dien-1-amine Chemical compound C1=CC(C)(N)C=CC1=C1C=CC(C)(N)C=C1 RUEZZVQPABKJJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFWYZZPDZZGSLJ-UHFFFAOYSA-N 4-(aminomethyl)aniline Chemical compound NCC1=CC=C(N)C=C1 BFWYZZPDZZGSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYZPDAUOQGFBKT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[2-[2-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC=C(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 JYZPDAUOQGFBKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHEWQPQGKJWKRA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(4-aminophenoxy)-4-tert-butylphenoxy]phenoxy]-5-tert-butylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1OC1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JHEWQPQGKJWKRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQUSLIBGUTZKJZ-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)=C1 GQUSLIBGUTZKJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEMFTOYFVQFMGF-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[2-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]-3-butylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=CC=1OC=1C(CCCC)=CC=CC=1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(N)C=C1 VEMFTOYFVQFMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIGQQBEFCXWRW-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(C=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)=C1 WVIGQQBEFCXWRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPWNTOFNYODWME-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]-4-methylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=C(OC=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)C(C)=CC=C1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(N)C=C1 JPWNTOFNYODWME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOBJKQONJCVCJH-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(OC=4C=CC(N)=CC=4)C=CC=3)C=CC=2)=C1 ZOBJKQONJCVCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXZOPKDDYCWII-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]-2,3-dimethylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)C(C)=C(C)C=1OC(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(N)C=C1 XYXZOPKDDYCWII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZTURPSSWBAQMO-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1CCC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 QZTURPSSWBAQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSXVBZHFXLKHJU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(C(C)(C)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 DSXVBZHFXLKHJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXTPNMJRVQKNRN-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1SC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 SXTPNMJRVQKNRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNABHHDNHRETRU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenyl]sulfonylphenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(OC=4C=CC(N)=CC=4)=CC=3)=CC=2)C=C1 CNABHHDNHRETRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 5-[4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]phenoxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC2=CC=C(C=C2)OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDTGDKUHZFHKDT-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound O=C1C2=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C2C(=O)C2=C1C=C(C(=O)O)C(C(O)=O)=C2 NDTGDKUHZFHKDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006361 Polyflon Polymers 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYLAHMAYZBJOI-UHFFFAOYSA-N [3-[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]phenyl]-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C(=O)C=2C=C(C=CC=2)C(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WYYLAHMAYZBJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAGJCSPSIXPCAK-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]phenyl]-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 JAGJCSPSIXPCAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- AIJZIRPGCQPZSL-UHFFFAOYSA-N ethylenetetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(O)=O AIJZIRPGCQPZSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 229940042795 hydrazides for tuberculosis treatment Drugs 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
ACFやNCF等の接着剤は、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を含んでいる。2つの電子部品の間に接着剤を配置し、電子部品同士を加熱圧着すると、接着剤に含まれる熱硬化性樹脂が熱によって硬化して、電子部品同士を接合することができる。
ここで、電子部品同士を加熱圧着する工程では、加熱加圧するための加熱加圧ヘッド部と電子部品との間に、加熱加圧ヘッド部と電子部品との接着を防止するための離型フィルムが配置される。
本技術では、チップを積み上げた後に加熱圧着するため、下層のチップにまで熱が伝わるように、従来よりもヒーターを高温化している。それに伴い、離型フィルムにおいても、更なる耐熱性が要求されている。
従来、フッ素系樹脂フィルムや、フッ素系樹脂が支持体上に塗工されたフィルムが、当該用途の離型フィルムとして使用されている。2つの電子部品の間にACFやNCF等の接着剤を配置して、電子部品同士を加熱圧着する場合、高温になるほど接着剤を構成する樹脂成分と離型フィルムとが溶融して融着するため、接着剤の一部が離型フィルムに付着してしまう場合があることが明らかになった。
接着剤の一部が離型フィルムに付着してしまうと、離型フィルムに付着した接着剤が、製造ライン中に脱落し、製造ラインの汚染や停止が起こり、製品の歩留まりが低下してしまう懸念がある。
接着剤の一部が離型フィルムに付着してしまう詳細な理由は明らかではないが、以下の理由が考えられる。電子部品同士を加熱圧着する場合、例えば、離型フィルムは300℃以上に加熱される。このとき、接着剤を構成する樹脂成分は溶融状態になっており、さらに離型フィルムの離型層が軟化して溶融状態に近い状態になっていると考えられる。そして、溶融した接着剤の一部と、溶融状態に近い離型層の一部とが相溶してしまう。これにより、電子部品から離型フィルムを剥離した際に、接着剤の一部が離型フィルムの離型層の表面に残ってしまい、その結果、接着剤の一部が離型フィルムに付着してしまうと考えられる。
すなわち、本発明者らは、従来の離型フィルムには、電子部品同士を高温で加熱圧着する際において、電子部品表面へのフッ素成分の低付着性と、電子部品からの良好な離型性と、を両立するという観点において、改善の余地があることを見出した。
電子部品の加熱圧着による接合に用いられる離型フィルムであって、
耐熱性支持体層(A)と、
上記耐熱性支持体層(A)の一面上に配置され、かつ、フッ素系樹脂を含む離型層(B)と、を備え、
上記離型層(B)の厚みが30μm未満であり、
上記フッ素系樹脂の数平均分子量が10万以上600万未満である離型フィルム。
[2]
上記[1]に記載の離型フィルムにおいて、
上記フッ素系樹脂がパーフルオロアルキル基およびパーフルオロポリエーテル骨格からなる群から選択される一種または二種以上の構造を含む離型フィルム。
[3]
上記[1]または[2]に記載の離型フィルムにおいて、
上記フッ素系樹脂がポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体、およびテトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体からなる群から選択される一種または二種以上を含む離型フィルム。
[4]
上記[1]乃至[3]のいずれか一つに記載の離型フィルムにおいて、
上記フッ素系樹脂は、上記離型層(B)と接する、上記離型フィルムを構成する層と200℃未満の温度にて結合可能な反応基を有する離型フィルム。
[5]
上記[4]に記載の離型フィルムにおいて、
上記反応基がアルコキシシリル基を含む離型フィルム。
[6]
上記[1]乃至[5]のいずれか一つに記載の離型フィルムにおいて、
上記耐熱性支持体層(A)がポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、塩化ビニリデン樹脂、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリメチルペンテン、シリコーン樹脂および金属箔からなる群から選択される一種または二種以上を含む離型フィルム。
[7]
上記[1]乃至[6]のいずれか一つに記載の離型フィルムにおいて、
上記耐熱性支持体層(A)と上記離型層(B)との間に、上記耐熱性支持体層(A)とは異なる種類の耐熱性樹脂層(C)をさらに備える離型フィルム。
[8]
上記[7]に記載の離型フィルムにおいて、
上記耐熱性樹脂層(C)がエポキシ樹脂、熱可塑性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドおよびポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも一種の樹脂を含む離型フィルム。
[9]
上記[1]乃至[8]のいずれか一つに記載の離型フィルムにおいて、
上記離型フィルムの厚みが100μm以下である離型フィルム。
[10]
第1電子部品と第2電子部品とが熱硬化型接着剤を介して接合された電子装置を製造するための製造方法であって、
上記熱硬化型接着剤を介して上記第1電子部品上に配置された上記第2電子部品と、加熱ヘッドとの間に、上記[1]乃至[9]のいずれか一つに記載の離型フィルムを上記離型層(B)側が上記第2電子部品に向くように配置した状態で、上記加熱ヘッドにより上記第2電子部品を上記第1電子部品に向けて押圧することにより、上記第1電子部品および上記第2電子部品を加熱圧着により電気的に接続する工程を含む電子装置の製造方法。
以下、本実施形態に係る離型フィルム50について説明する。
図1および図2は、本発明に係る実施形態の離型フィルム50の構造の一例を模式的に示した断面図である。
そこで、本発明者らは、電子部品同士を高温で加熱圧着する際において、電子部品表面へのフッ素成分の低付着性と、電子部品からの良好な離型性と、を両立した離型フィルムを実現するために、鋭意検討を重ねた。その結果、離型層(B)を支持するための層として、耐熱性に優れた耐熱性支持体層(A)を使用するとともに、離型層(B)の厚みおよびフッ素系樹脂の数平均分子量をそれぞれ上記範囲に調整することにより、電子部品同士を高温で加熱圧着する際において、電子部品表面へのフッ素成分の低付着性と、電子部品からの良好な離型性と、を両立できることを初めて見出した。
すなわち、本実施形態に係る離型フィルム50は、耐熱性支持体層(A)と、上記耐熱性支持体層(A)の一面上に配置され、かつ、フッ素系樹脂を含む離型層(B)と、を備える離型フィルムにおいて、離型層(B)の厚みが30μm未満であり、上記フッ素系樹脂の数平均分子量が10万以上であることにより、電子部品同士を高温で加熱圧着する際において、電子部品表面へのフッ素成分の低付着性と、電子部品からの良好な離型性と、を両立することが可能となる。
フッ素系樹脂の数平均分子量は上限が600万未満であればよいが、500万以下が好ましく、450万以下がより好ましく、400万以下がさらに好ましい。数平均分子量の上限が上記範囲にあると、フッ素系樹脂の分散液や溶液を製膜するときに均質な離型層(B)を形成できる点で好ましい。
ただし、本実施形態に係る離型フィルム50は、ACFやNCF等の接着剤を用いた電子部品同士の電気的な接続に限定されず、加熱圧着による電子部品の接合に広く用いることができる。接合する電子部品の種類は特に限定されないが、例えば、金属基板やガラス基板等の各種基板類(基板上に電極が設けられていてもよい);プリント回路基板、TCP(Tape Carrier Package)、FPC(Flexible Printed Circuit)等の各種回路類(TCPやFPC上にIC等が設けられていてもよい);ITO(Indium Tin Oxide)層等の透明導電層;等が挙げられる。
離型フィルム50は、複数の異なる電子部品がモジュール化された電子部品の接合にも用いることができる。
耐熱性支持体層(A)は耐熱性を有する支持体層であり、電子部品同士を加熱圧着により接合する際に、熱源により加熱される側、すなわち加熱加圧ヘッド部と接する側の層である。耐熱性支持体層(A)を備えることにより、離型フィルム50の機械的特性が向上し、離型フィルム50の搬送性やハンドリング性を向上させることができる。さらに、電子部品同士を加熱圧着する際の離型層(B)の軟化を抑制でき、その結果、溶融した接着剤の一部と、離型層(B)の一部とが相溶してしまうことをより一層抑制することができる。
ここで、本実施形態において、耐熱性とは高温での寸法安定性や熱分解安定性を意味する。すなわち、耐熱性に優れるほど、高温における膨張や収縮、軟化等の変形や溶融、分解等が起き難いことを意味する。
耐熱性支持体層(A)は特に限定されないが、例えば、耐熱性樹脂層(例えば樹脂フィルム)や金属箔が挙げられる。これらの耐熱性支持体層は一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
耐熱性支持体層(A)を構成する耐熱性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、塩化ビニリデン樹脂、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリメチルペンテンおよびシリコーン樹脂等から選択される一種または二種以上の樹脂を挙げることができる。
これらの中でも、耐熱性や機械的強度、透明性、価格等のバランスに優れる観点から、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトンおよびポリエステルから選択される一種または二種以上が好ましい。
このような耐熱性樹脂を用いると、耐熱性支持体層(A)の耐熱性をより一層良好にすることができる。
また、耐熱性支持体層(A)を形成するために使用する樹脂フィルムの形態としては、押出フィルムやキャストフィルムなどの未延伸フィルムであってもよいし、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムであってもよい。耐熱性支持体層(A)の耐熱性や機械的強度を向上させる観点から、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムであってもよい。
耐熱性支持体層(A)は他の層との接着性を改良するために、表面処理を行ってもよい。具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、アンダーコート処理、プライマーコート処理等を行ってもよい。
離型層(B)は離型性を有する層であり、電子部品同士を加熱圧着により接合する際に、電子部品と対向するように配置される層(すなわち、電子部品側に配置される層)であり、電子部品同士の加熱圧着後に電子部品から離型フィルム50を剥離するために設けられる層である。
離型層(B)は特に限定されないが、例えば、コーティング層や樹脂フィルム等が挙げられる。
ここで、本実施形態において、離型性を有するとは、例えば、水に対する接触角が80°以上である場合をいう。
本実施形態に係るフッ素系樹脂は、離型性をより一層良好にする観点から、パーフルオロアルキル基およびパーフルオロポリエーテル骨格からなる群から選択される一種または二種以上の構造を含む樹脂がより好ましい。
また、フッ素系樹脂の数平均分子量が600万未満であるが、高温時における離型性の観点から、20万以上が好ましく、50万以上がより好ましく、100万以上がさらに好ましい。フッ素系樹脂の数平均分子量は、Suwa et al., Journal of Applied Polymer Science, vol. 17, pp. 3253-3257 (1973) に記載の手法に基づいて、示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。
これらの中でも、離型性に優れる点から、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、FEP(テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体)およびPFA(テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体)からなる群から選択される一種または二種以上のフッ素系樹脂がより好ましい。
ポリテトラフルオロエチレンとしては、例えば、ダイキン工業株式会社製「ポリフロンPTFE」、三井・ケマーズフロロプロダクツ社製「テフロン(登録商標)PTFE」等を挙げることができる。
テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体としては、例えば、ダイキン工業株式会社製「ネオフロンFEP」、または三井・ケマーズフロロプロダクツ社製「テフロン(登録商標)FEP」等を挙げることができる。
テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体としては、例えば、ダイキン工業株式会社製「ネオフロンPFA」、または三井・ケマーズフロロプロダクツ社製「テフロン(登録商標)PFA」等を挙げることができる。
アルコキシシリル基としては、例えば、メトキシシリル基、エトキシシリル基、イソプロポキシシリル基などが挙げられる。反応性の観点から、メトキシシリル基、エトキシシリル基が好ましい。
フッ素系コーティング層は、例えば、フッ素系樹脂を含むフッ素系コーティング剤を耐熱性支持体層(A)または耐熱性樹脂層(C)に塗工して乾燥することにより形成することができる。また、フッ素系コーティング剤はフッ素系樹脂のラテックスであってもよいし、フッ素系樹脂の溶液であってもよい。
また、離型層(B)は、他の層との接着性を改良するために、表面処理を行ってもよい。具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、アンダーコート処理、プライマーコート処理等を行ってもよい。
本実施形態に係る離型フィルム50は、図2に示すように、耐熱性支持体層(A)と離型層(B)との間に、耐熱性支持体層(A)とは異なる種類の耐熱性樹脂層(C)をさらに備えることが好ましい。これにより、離型フィルム50の機械的特性が向上し、離型フィルム50の搬送性やハンドリング性をより一層向上させることができる。さらに、電子部品同士を加熱圧着する際の離型層(B)の軟化をより一層抑制でき、その結果、溶融した接着剤の一部と、離型層(B)の一部とが相溶してしまうことをより一層抑制することができる。ここで、耐熱性支持体層(A)とは異なる種類の耐熱性樹脂層とは、例えば、主成分として含まれる耐熱性樹脂が異なる耐熱性樹脂層をいう。主成分とは、最も多く含まれる耐熱性樹脂をいう。
耐熱性樹脂層(C)は特に限定されないが、例えば、樹脂フィルムが挙げられる。
また、本実施形態に係る離型フィルム50において、耐熱性樹脂層(C)の350℃における貯蔵弾性率E’は、好ましくは1.0×108Pa以下、より好ましくは9.0×107Pa以下、さらに好ましくは8.0×107Pa以下、さらにより好ましくは6.0×107Pa以下、さらにより好ましくは5.0×107Pa以下である。これにより、電子部品表面に形成された凹凸への追従性が向上し、電子部品と離型性フィルムとの間に隙間が生じてしまうことを抑制できる。その結果、電子部品同士を加熱圧着する際の電子部品への熱伝導性をより一層向上させることができる。
耐熱性樹脂層(C)の350℃における貯蔵弾性率E’は、例えば、耐熱性樹脂層(C)を構成する樹脂の種類や樹脂組成を制御することにより上記範囲内に制御することができる。
これらの中でも、耐熱性や機械的強度、透明性、価格等のバランスに優れる観点から、熱可塑性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトンおよびポリエステルから選択される一種または二種以上が好ましく、熱可塑性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドおよびポリエーテルイミドから選択される一種または二種以上がより好ましい。
光ラジカル硬化促進剤としては特に限定されないが、例えば、アルキルフェノン類、オキシムエステル類、有機リン化合物類等が挙げられる。
光カチオン硬化促進剤としては特に限定されないが、例えば、ヨードニウム塩類、スルホニウム塩類等が挙げられる。
光アニオン硬化促進剤としては特に限定されないが、例えば、オキシムエステル類、アミニウム塩類等が挙げられる。
これらの中でもエポキシ樹脂が好ましく、熱硬化性エポキシ樹脂がより好ましい。本実施形態に係る離型フィルムにおいて、エポキシ樹脂を含む耐熱性樹脂層(C)は、電子部品の加熱圧着による接合に用いられる前にあらかじめ硬化させておくことが好ましい。硬化させることにより、耐熱性樹脂層(C)に含まれる成分が電子部品側にブリードアウトすることを抑制することができる。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオンレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、トリスグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、耐熱性樹脂層(C)を形成するために使用する樹脂フィルムの形態としては、押出フィルムやキャストフィルムなどの未延伸フィルムであってもよいし、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムであってもよい。耐熱性樹脂層(C)は一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムであってもよいが、フィルムの反りを抑制する観点から、未延伸フィルムが好ましい。
耐熱性樹脂層(C)は他の層との接着性を改良するために、表面処理を行ってもよい。具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、アンダーコート処理、プライマーコート処理等を行ってもよい。
本実施形態に係る離型フィルム50は、離型層(B)の塗布性および離型性を向上させる観点から、離型層(B)の下層すなわち離型層(B)と耐熱性支持体層(A)の間または離型層(B)と耐熱性樹脂層(C)の間にプライマー層(P)を有してもよい。プライマー層(P)はシロキサン結合(-Si-O-)やシロキサン結合を有するシラン系化合物の前駆体、またはシラノール基を有していることが好ましい。
シロキサン結合やシラノール基を有するプライマー層は、例えば、ペルヒドロポリシラザン(PHPS)を、大気中または、水蒸気雰囲気下で加熱して得られるシリカ膜や、アルコキシシランのゾルゲル反応により得られるシリカ膜などが挙げられる。
本実施形態に係る離型フィルム50は、本実施形態の効果を損なわない範囲で、耐熱性支持体層(A)と離型層(B)との間や、耐熱性支持体層(A)と耐熱性樹脂層(C)との間、離型層(B)と耐熱性樹脂層(C)との間に、例えば接着層や凹凸吸収層、衝撃吸収層等をさらに有してもよい。
本実施形態に係る離型フィルム50の製造方法は特に限定されず、一般的に公知の積層フィルムの製造方法を採用することができる。例えば、本実施形態に係る離型フィルム50は、共押出成形法、ラミネート法、押出コーティング法、塗布法等の公知の製造方法を1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることによって作製することができる。耐熱性支持体層(A)、離型層(B)および耐熱性樹脂層(C)の種類によって、公知の積層フィルムの製造方法から適切な製造方法を選択することができる。
さらに、本実施形態に係る離型フィルム50は、例えば耐熱性支持体層(A)上にプライマー層(P)を形成後、離型層(B)をコーティングすることにより得ることもできる。プライマー層(P)および離型層(B)の形成法は特に限定されないが、各層を形成する化合物溶液を塗布乾燥する方法が挙げられる。
本実施形態に係る離型フィルム50は、電子部品の加熱圧着による接合に用いられる。より具体的には、本実施形態に係る離型フィルム50は、第1電子部品と第2電子部品とが熱硬化型接着剤を介して接合された電子装置を製造するために好適に用いることができる。
本実施形態に係る離型フィルム50を用いた電子装置の製造方法は、例えば、熱硬化型接着剤を介して第1電子部品上に配置された第2電子部品と、加熱ヘッドとの間に、離型フィルム50を離型層(B)側が第2電子部品に向くように配置した状態で、加熱ヘッドにより第2電子部品を第1電子部品に向けて押圧することにより、第1電子部品および第2電子部品を加熱圧着により電気的に接続する工程を含む。
熱硬化型接着剤としては、例えば、公知の異方性導電フィルムや非導電性接着フィルム等のフィルム状接着剤を用いることができる。また、公知の異方性導電接着剤ペーストや非導電性接着剤ペーストを用いてもよい。電子部品(第1電子部品および第2電子部品)としては特に限定されないが、例えば、IC、LSI、ディスクリート、発光ダイオード、受光素子等の半導体チップや半導体パネル、半導体パッケージ等を挙げることができる。
離型フィルムの作製に用いた材料の詳細は以下の通りである。
A1:ポリイミド製フィルム(東レ・デュポン社製、製品名:カプトン(登録商標)100H、厚み:25μm)
A2:ポリイミド製フィルム(東レ・デュポン社製、製品名:カプトン(登録商標)50H、厚み:12.5μm)
A3:銅箔(厚み:18μm)
B1:ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)分散液1(ダイキン社製、製品名:Polyfluon-D、PTFEの数平均分子量:340万)
B1におけるPTFEの数平均分子量は、Suwa et al., Journal of Applied Polymer Science, vol. 17, pp. 3253-3257 (1973) に記載の手法に基づいて、示差走査熱量分析(DSC)により測定した。
B3:パーフルオロポリエーテル骨格のポリマー溶液(ダイキン社製、製品名:オプツールHD、数平均分子量:5000(推定値))
また、離型層(B)の厚みはダイヤルゲージを用いて測定し、塗工幅方向で両端部および中央部3点の平均値を採用した。
C1:エポキシ樹脂製フィルム
エポキシ樹脂製フィルム(C1)としては特許第5696038号に記載の製膜方法によって作製した後、更なる加熱によって硬化させたものを用いた。
耐熱性支持体層(A1)上にPTFE分散液1を塗布した。その後、100℃の温度で5分乾燥させたのち、350℃で10分焼成し、厚み10μmの離型層(B1)を形成し、離型フィルム1を得た。
耐熱性支持体層(A1)の代わりに耐熱性支持体層(A2)を用いた以外は、以外は実施例1と同様の操作で、離型フィルム2を得た。
耐熱性支持体層(A1)上にPTFE分散液1を塗布した。その後、100℃の温度で5分乾燥させたのち、350℃で10分焼成し、厚み5μmの離型層(B1)を形成し、離型フィルム3を得た。
耐熱性支持体層(A1)の代わりに耐熱性支持体層(A2)を用いた以外は、以外は実施例3と同様の操作で、離型フィルム4を得た。
耐熱性支持体層(A1)上にPTFE分散液1を塗布した。その後、100℃の温度で5分乾燥させたのち、350℃で10分焼成し、厚み2.5μmの離型層(B1)を形成し、離型フィルム5を得た。
耐熱性支持体層(A1)の代わりに耐熱性支持体層(A2)を用いた以外は、以外は実施例5と同様の操作で、離型フィルム6を得た。
耐熱性支持体層(A1)の代わりに耐熱支持体層(A3)を用いた以外は、実施例3と同様の操作で、離型フィルム7を得た。
耐熱性支持体層(A1)上に厚み10μmの耐熱性樹脂層(C1)を形成した。次いで、耐熱性樹脂層(C1)上にパーフルオロポリエーテル骨格のポリマー溶液を塗布した。その後、130℃の温度で15分乾燥させて、厚み0.1μm未満の離型層(B3)を形成し、離型フィルム8を得た。
耐熱性支持体層(A1)上にPTFE分散液1を塗布した。その後、100℃の温度で5分乾燥させたのち、350℃で10分焼成し、厚み30μmの離型層(B1)を形成し、離型フィルム9を得た。
実施例および比較例で得られた離型フィルムについて以下の評価をおこなった。得られた結果を表1に示す。
シリコンウェハ―上にNCF(特開2018-22819号公報の実施例1に記載のアンダーフィル絶縁フィルム)を接着した。次いで、NCF上に実施例および比較例で得られた離型フィルムを積層し、得られた積層体を350℃、圧着圧力0.6MPaの条件で、30秒間プレスした。次いで、積層体を室温まで冷却してから離型フィルムをNCFから剥離した。次いで、離型フィルムの表面を観察し、NCFの付着の有無を以下の基準で評価した。なお、離型フィルムおよびNCFのサイズはそれぞれ1x5cm、1x1cmである。試験後にNCFと接触した1x1cmの部位を観察した。
◎:離型フィルムの表面にNCFの接触痕がわずかに観察された以外は付着物が全く観察されなかった。
○:離型フィルムの表面にNCFの接触痕が観察されたが、付着物は無かった。試験後もフィルムの表面は平滑であった。
×:離型フィルムの表面に粉状0.5~2mmの付着物が観察された。試験後のフィルムの試験部位に触れると付着物が脱落した。
離型フィルムの離型面をシリコンウェハに350℃で30秒、2Nで押し当てた。次いで、X線光電子分光法(XPS)を用いて、離型フィルムが押し当てられた面の300×700μmの領域を観察した。F原子とSi原子の存在比(F/Si)をフッ素転写量と定めた。
装置:AXIS-NOVA(KRATOS社製)
X線源:単色化Al Kα(1486.6eV)
また、電子部品表面へのフッ素成分の付着量評価においては、数平均分子量が10万以上600万未満であるフッ素系樹脂を離型層(B)に用いた実施例の離型フィルムを用いた場合、電子部品へのフッ素の転写量が少なく、電子部品表面へのフッ素成分の低付着性に優れることが確認された。
B 離型層
C 耐熱性樹脂層
50 離型フィルム
Claims (6)
- 電子部品の加熱圧着による接合に用いられる離型フィルムであって、
耐熱性支持体層(A)と、
前記耐熱性支持体層(A)の一面上に配置され、かつ、フッ素系樹脂を含む離型層(B)と、を備え、
前記離型層(B)の厚みが15μm以下であり、
前記フッ素系樹脂の数平均分子量が100万以上500万以下(ただし、500万は除く)である離型フィルムであり、
前記フッ素系樹脂がポリテトラフルオロエチレンを含み、
前記耐熱性支持体層(A)がポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、塩化ビニリデン樹脂、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリメチルペンテン、シリコーン樹脂および金属箔からなる群から選択される一種または二種以上を含む離型フィルム。 - 請求項1に記載の離型フィルムにおいて、
前記フッ素系樹脂は、前記離型層(B)と接する、前記離型フィルムを構成する層と200℃未満の温度にて結合可能な反応基を有し、
前記反応基がアルコキシシリル基を含む離型フィルム。 - 請求項1または2に記載の離型フィルムにおいて、
前記耐熱性支持体層(A)と前記離型層(B)との間に、前記耐熱性支持体層(A)とは異なる種類の耐熱性樹脂層(C)をさらに備える離型フィルム。 - 請求項3に記載の離型フィルムにおいて、
前記耐熱性樹脂層(C)がエポキシ樹脂、熱可塑性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミドおよびポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも一種の樹脂を含む離型フィルム。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の離型フィルムにおいて、
前記離型フィルムの厚みが100μm以下である離型フィルム。 - 第1電子部品と第2電子部品とが熱硬化型接着剤を介して接合された電子装置を製造するための製造方法であって、
前記熱硬化型接着剤を介して前記第1電子部品上に配置された前記第2電子部品と、加熱ヘッドとの間に、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の離型フィルムを前記離型層(B)側が前記第2電子部品に向くように配置した状態で、前記加熱ヘッドにより前記第2電子部品を前記第1電子部品に向けて押圧することにより、前記第1電子部品および前記第2電子部品を加熱圧着により電気的に接続する工程を含む電子装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP7393874B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003100807A (ja) | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Nitto Denko Corp | 導電接続方法及びそれに用いる離型シート |
JP2006142611A (ja) | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Nitto Denko Corp | 加熱圧着用複合シート及びその製造方法 |
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