JP7393401B2 - 真空処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、筒状のドラム型ホルダの外周部に基板を保持するトレイを設置し、ホルダを回転させながら基板を処理する真空処理装置に関する。

複数の基板を外周面に保持した多角形又は円筒形のドラム型回転ホルダを地面に垂直な円筒中心軸上で回転させながら、ドラム型回転ホルダの外周に対向して設置されたターゲットをスパッタリングして基板固定トレイに設置された基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ装置が知られている。
カルーセル型スパッタ装置では、成膜開始前に複数の基板固定トレイを前記回転ホルダの外周に取り付け、成膜された基板固定トレイを回転ホルダの外周から取り外す必要がある。
ところがこのようなカルーセル型スパッタ装置では、真空中でドラム型の回転ホルダに自動で基板固定トレイの取り付け、取り外しを行うことは大掛かりな機構が必要となり、大気圧で手作業により基板の取り付け取り外しを行う場合が多くあった。
成膜室を大気圧にして手作業で基板の取り付け取り外しを行う場合、ターゲットの酸化や、不純物の付着により、成膜した膜に不純物が混入する場合がある。また、成膜手段により成膜室に付着した膜が大気にさらされると剥がれやすくなるため、基板に付着するパーティクルの原因となり歩留まりを悪化させることがある。
又、成膜ごとに大気解放及び真空排気が必要であり、大気解放前の冷却時間や、真空排気後の加熱時間が必要であり、シールドの交換周期も短くなる為、生産性が悪く、人手が掛かる問題を有していた。
こういった問題点を解決する為に、成膜室は真空のままロボットでのトレイの入れ替えが出来る装置が考えられた。

いわゆるカルーセル型スパッタリング装置の１例として、図１６，図１７に示す薄膜形成装置について説明する（特許文献１）。
図１６、図１７に示す真空処理装置は、処理室内１０１に、処理すべき基板の装着される回転ドラム治具１０２を固定配置し、処理室内１０１の上記回転ドラム治具１０２に対して処理すべき基板固定トレイ１０１２を脱着するための基板固定トレイ脱着機構１０１４を設け、処理室１０１に対して基板固定トレイ１０１２を垂直状態（回転軸に対して平行状態）で、基板仕込み室１０４・基板取り出し室１０５との間で、図１７に示す搬送機構１０１３により、水平搬入、水平搬出（回転軸に対して垂直状態）できるように構成したことを特徴とする。
図１６、図１７に示す真空処理装置によれば、回転ドラム治具１０２を処理室内１０１に固定配置し、脱着機構１０１４を用いて基板固定トレイ１０１２だけを回転軸に対して平行状態で、搬入装着、取外し搬出するように構成しているので、ドラム治具１０２に必要な装置、例えば冷却機構やバイアス印加手段を組込むことができ、また各室（基板仕込み室１０４，処理室１０１，基板取り出し室１０５）の仕切バルブ１０８，１０９、１０１０、１０１１も小型化でき、デッドスペースの縮小と共に装置自体を小型化でき、そして排気系の負荷も軽減させることができる。
なお、図１６、図１７において、カソード１０３、回転ドラム治具１０２の各基板装着面１０２ａ、案内ローラ１０１３ａと駆動ローラ１０１３ｂ、回転ドラム治具１０２を所定の位置（すなわち基板固定トレイ１０１２の脱着位置）で停止させる停止案内装置１０１６を示す。

いわゆるカルーセル型スパッタ装置の２例として、図１８に示すスパッタリング装置について説明する（特許文献２）。
図１８に示すスパッタリング装置は、基板ホルダ２０１３が回転して複数の基板２０１４にスパッタリングを行うスパッタリング装置において、回転方向の膜厚を一定にする補正板２０１０を設けたことを特徴とするスパッタリング装置である。
図１８に示すスパッタリング装置によれば、簡単な補正板２０１０を基板ホルダ２０１３に取り付けるだけで、基板２０１４の横方向のみならず、上下方向の膜厚制御を行え、ばらつきの少ないスパッタリング付けが可能となる。
しかし、上記特許文献１，特許文献２に示す装置は以下のような課題を有する。

特公平４－８０７３４号公報 実開平２－３３２５７号公報

図１６，図１７に示す真空処理装置の場合、基板固定トレイ１０１２の脱着機構の動作においては、搬送装置１０１３によって、基板仕込み室１０４から搬入されてきた基板固定トレイ１０１２は、図１７に示す仮想線で示す位置においてシリンダ作動機構１０１４ａ，１０１４ｂのホルダチャック部材１０１５ａ，１０１５ｂで受けられ、搬送装置１０１３の案内ローラ１０１３ａおよび駆動ローラ１０１３ｂは基板固定トレイ１０１２から離され、そして各シリンダ作動機構１０１４ａ，１０１４ｂは、所定の位置に停止されている回転ドラム治具１０２の装着面１０２ａに対して基板固定トレイ１０１２を押し当て各突子１０１２ｄを治具１０２における係止穴１０２ｃに係止させる。こうして基板固定トレイ１０１２は治具１０２に装着され、この操作を繰返して治具１０２の全装着面１０２ａに処理すべき基板固定トレイ１０１２を装着する。
そのため、図１６，図１７に示す真空処理装置の場合、基板固定トレイ１０１２の脱着機構の動作においては、複雑な動作、大掛かりな脱着機構１０１４を必要とするという課題がある。

図１８に示すスパッタリング装置の場合、補正板２０１０は、基板ホルダ２０１３に２枚の基板２０１４が隙間を設けて装着されているスパッタリング装置を前提とするものである。
図１８に示すスパッタリング装置の場合、補正板２０１０は基板２０１４の横方向のみならず、上下方向の膜厚制御を行え、ばらつきの少ないスパッタリング膜付けが可能となるが、基板ホルダ２０１３に２枚の基板２０１４が隙間を設けて装着されている。そのため、隣り合う基板２０１４間の隙間から、基板ホルダ２０１３の各基板装着面に膜が付着するという問題がある。
更に、図１８に示すスパッタリング装置の場合、補正板２０１０と２枚の基板２０１４を保持するトレイの位置関係については、開示されていない。

そこで、本発明は、前記特許文献１から特許文献２記載の発明の課題を解決することを目的とするものであり、
処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、前記トレイの脱着ごとに、前記トレイとの境界部より、膜剥がれが発生しない真空処理装置を提供することを目的とするものである。

前記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、前記トレイは、前記トレイの両サイドに遮蔽板を有する第１トレイと、前記トレイの両サイドに遮蔽板を有しない第２トレイと、を交互に設置したトレイで構成され、前記遮蔽板は、前記第２トレイの端部の一部に重なり合う構造であることを特徴とする真空処理装置としたものである。
前記目的を達成するため、請求項４記載の発明は、処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室内の前記回転ホルダに対して前記トレイを脱着するためのトレイ脱着機構を設け、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、隣り合うトレイとトレイの間には、前記搬送機構での水平搬入、水平搬出時に前記トレイが干渉しない為の隙間を有し、前記回転ホルダ側に前記トレイ間の前記隙間より広い幅の溝を設け、遮蔽板を固定することを特徴とする真空処理装置としたものである。

請求項１または請求項４記載の発明によれば、トレイを温度制御されている回転ホルダ面から浮かすことなく、トレイ間の隙間の隙間を埋める遮蔽板が設置出来、かつ遮蔽板の交換が容易に出来る。

図１は、本発明の実施例であり、カルーセル型成膜装置の断面図である 本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。 本発明の実施例、防着シールド付きトレイの設置例の図である。 本発明の実施例、回転ホルダ側に防着シールド装着用溝を取り付けた設置例の図である。 本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ脱着状態を示す斜視図である。 図５のＩ－Ｉ線矢視図である。 本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ設置状態を示す図である。 本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ設置状態での搬送機構との位置関係を示す図である 図５のＩ－Ｉ線矢視図示し、（Ａ）はトレイが回転ホルダ表面と接触した状態を示し、（Ｂ）はトレイが回転ホルダの表面から離間した状態を示す。 図５のＩＩ線矢視図を示し、（Ａ）はガイド板とストッパーとが離間した状態を示し、（Ｂ）はガイド板とストッパーとが接触した状態を示す。 図８（Ａ），図９（Ａ）のトレイ設置前の動作状態図である。 図８（Ｂ），図９（Ｂ）のフック解放時の動作状態図である。 図８（Ｂ），図９（Ｂ）のトレイ挿入時の動作状態図である。 図８（Ｂ），図９（Ｂ）のトレイ下降時の動作状態図である。 図８（Ａ），図９（Ａ）のトレイ下降時の動作状態図である。 特許文献１の真空処理装置を示す概略断面図である。 特許文献１の真空処理装置を示す概略断面図である。 特許文献２のスパッタリング装置の概略図である。

図１は、本発明の実施例であり、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の断面図である。図１の真空処理装置は、複数の基板を保持可能な基板固定治具１３を収納可能なカセット３を有するロードロック室２と、基板トレイ１３を載置可能な回転ホルダ７を有する処理室１と、ロードロック室２と処理室１との間で、基板トレイ１３を垂直状態のつり下げて状態で、水平搬送可能な搬送機構４と、ローロック室内のカセットを隣接する冷却室や加熱室に搬送させる搬送機構１７と、から構成される。 処理室１には、複数の基板固定用のトレイ１３を外周面に保持した多角形のドラム型の回転ホルダ７を地面に垂直な回転軸８上で駆動機構１６を回転させながら、回転ホルダ７の外周に対向して設置された複数の成膜機構（例えば、ターゲット５）をスパッタリングして各基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ室が設置される。処理室１に隣接してロードロック室２がスリットバルブ６を介して接続されていて、スリットバルブ６を閉めた状態で排気やベントをすることでロードロック室２だけを大気や真空にすることができ、また、ロードロック室２の中に基板を固定したトレイ１３を複数枚保管できるカセット３を設置することができる。回転ホルダ７内の表面には、トレイ１３の温度を調整するための温度調整機構（不図示）を有する。図１の真空処理装置は、処理室１に対してトレイ１３を、回転軸８に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室２との間で、搬送機構４により、水平搬入、水平搬出できる。なお、図１において、４ａは搬送機構４の搬送アームを示し、４ｃは搬送機構４の回転軸を示し、１７はカセット３の搬送のための搬送機構である。

図２は、本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。図１と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図２において、２１は回転ホルダに対してトレイ１３を脱着するための脱着駆動部２１である。図２に示すように、脱着駆動部２１は、回転ホルダ７の回転軸８と搬送機構４の回転軸４ｃとを結ぶ中心線上に、脱着駆動部２１の中心２１ｃが位置するように配置することが好ましい。なお、本明細書において、「中心線」とは、図２に示すように、回転ホルダ７の回転軸８と搬送機構４の回転軸４ｃとを結ぶ中心線上の線をいう。「回転ホルダ７の回転方向」とは、回転軸８を中心として回転ホルダ７が回転する方向をいう。搬送機構４は、前記中心線上に沿って移動可能なように、設けられている。図２において、点線→Ａはトレイ１３が回転ホルダ７のトレイ装着面（不図示）に向かう方向、点線→Ｂはトレイ１３が回転ホルダ７のトレイ装着面（不図示）から離れる方向、Ｃはトレイ１３が下降する方向、Ｄはトレイ１３が上昇する方向を示す。

図３は防着シールド付きトレイの設置例の図である。
図１から図２と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
図３に示すトレイ１３は、トレイの両サイドに遮蔽板３１を有する第１トレイ１３ａと、トレイの両サイドに遮蔽板３１を有しない第２トレイ１３ｂと、を交互に設置したトレイで構成されることを特徴とする。遮蔽板３１は、第２トレイ１３ｂの端部の一部に重なり合う構造であることが好ましい。遮蔽板３１の第２トレイ１３ｂの端部の一部に重なり合う部分は、第２トレイ１３ｂと接触せずに隙間を有する構造であることが好ましい。
このように、図３に示すトレイ１３は隣り合うトレイ１３ａ、１３ｂ間の隙間に対して、回転ホルダ７の外周に設置するトレイ数を偶数で埋まる構成とし、第２のトレイ１３ｂの両サイドが、両隣の第２トレイ１３ｂに被る形状の遮蔽板３１（又は、第１のトレイ１３ａと一体構造でも可）を持つ第１トレイ１３ａと、両サイドに遮蔽板３１を持たない第２トレイ１３ｂを交互に設置することで、基板固定トレイ１３ａ、１３ｂ間の隙間を埋めることで、回転ホルダ７表面への膜の付着を防止する。
設置は、第２トレイ１３ｂを先に１つ飛ばしで設置した後、両サイドに遮蔽板３１を装着した第１トレイ１３ａを空いているポジションに設置することで、回転ホルダ７間の隙間を見えなくする。
回収時は設置時とは反対に、遮蔽板３１を装着した第１トレイ１３ａを全て回収した後、第２トレイ１３ｂを回収する

図４は回転ホルダ７側にシールド１３装着用の溝を取り付けた設置例の図である。図１から図３と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図４に示すトレイ１３は、隣り合うトレイ１３とトレイ１３の間には、搬送機構（不図示）での水平搬入、水平搬出時にトレイ１３が干渉しない為の隙間を有し、回転ホルダ７側にトレイ１３間の隙間より広い幅の溝３４を設け、遮蔽板３１を固定することを特徴とする。溝３４の深さは、遮蔽板３１の厚さより、深くして、回転ホルダ７表面より凸にならない構造を有することが好ましい。溝３４は、回転ホルダ側７に入り口が溝底部より狭いアリ溝３４であることが好ましい。アリ溝３４にアリ溝３４の入り口幅より広い幅のバネ性のある遮蔽板３１を撓ませた状態で装着することが好ましい。このように、図４に示すトレイ１３は隣り合うトレイ１３間の隙間に対して、回転ホルダ７側に入り口が溝底部（不図示） より狭いアリ溝３４を掘り、このアリ溝３４にアリ溝３４の入り口幅（不図示）より広い幅のバネ性のある遮蔽板３１を撓ませた状態で装着し、遮蔽板３１のバネ復元力を利用して遮蔽板３１（シールド）の脱落の防止を図る。この遮蔽板３１は、簡易な形状である為、使用後は再生をせずに使い捨てで運用することを想定する。回転ホルダ７側のアリ溝３４の入り口幅は、トレイ１３間の隙間より広く設け、回転ホルダ７表面への膜の付着を防止している。

図５は、前記回転ホルダの基板固定用のトレイ１３の脱着状態図になる。図１から図４と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。長方形の板状であるトレイ１３は上端部左右２カ所に貫通穴１４が空いている。搬送機構４は、その上端部左右に、トレイ１３の貫通穴１４に挿入可能な、搬送フック１５を有し、その下端部に、トレイ１３の下端部のフレの抑制防止が可能な下フック２０（例えば、この字型）を有する。搬送フック１５と下フック２０とにトレイ１３を保持することにより、トレイ１３はトレイ１３の中心が前記中心線上に位置した状態で、保持可能となる。トレイ１３は、搬送アーム４ａの搬送フック１５により、垂直状態につり下げた状態で、ロードロック室２と処理室１との間で水平搬送され、処理室１内に搬送される。脱着駆動部２１は、トレイ１３を保持するための引き込みフック２２を有する。引き込みフック２２は、トレイ１３の貫通穴１４に挿入可能なように、上端部左右２カ所に設けられた上引き込みフック２２ａと、トレイ１３の下端面を載置可能なように、下端部左右２カ所に設けられた下引き込みフック２２ｂと、から構成される。図５に示すように、トレイ１３を回転ホルダ７に装着する時には、搬送アーム４ａが伸び、トレイ１３の上下を、引き込みフック２２を高さで避けて侵入し、搬送アーム４ａを下降させることで、トレイ１３を搬送機構４の搬送フック１５から、引き込みフック２２に受け渡した高さで、ベアリング（不図示）を脱着駆動部２１から離間した状態にして、トレイ１３を引き込みフック２２により回転ホルダ７の温度調整機構（例えば、冷却面）に押し付ける。反対に、トレイ１３を回転ホルダ７から取り出す時は、押しつけベアリング（不図示）を脱着駆動部２１と接触させ、ストッパー（不図示）に当たるまで押しつけ、トレイ１３から引き込みフック２２を解放させた状態にし、その位置で搬送アーム４ａ（図２参照）の上フック１４及び下フック２０が侵入し、トレイ１３をすくい上げることで、トレイ１３を回転ホルダ７から回収する。

図６は、図５のＩ－Ｉ線矢視図である。図１から図５と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。処理室１内には、伸縮シリンダ３３と伸縮シリンダ３３と連動して動く押しつけベアリング２５とが設けられている。脱着駆動部２１は トレイ１３を保持するための引き込みフックとガイド板とを有する。図６において、伸縮シリンダ３３を駆動することにより、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板と離間した状態（非接触の状態）にすると、引き込みフック２２がＢ方向に移動する。これにより、引き込みフック２２に保持されたトレイ１３は回転ホルダ７内の表面付近に設けられた温度調整機構３０（例えば、冷却面）に押し付けられる。

図７は、本実施形態における回転ホルダのトレイ１３の設置状態図になる。
図１から図６と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
多面体である縦型のドラムホルダーの各面にトレイ１３が設置され、上下をトレイ脱着駆動部（不図示）に連結されている引き込みフック２２にて冷却面に押し付けられている。

図８は、本実施形態における回転ホルダのトレイ１３設置状態での搬送機構４との位置関係を示す図である。
図１から図７と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
トレイ１３は、搬送アーム４ａの搬送フック１５に吊り下げられた状態で、上引き込みフック２２ａの位置まで搬送される。搬送アーム４ａを、図８の二点鎖線太線で示す位置から図８の実線で示す位置まで下降することにより、トレイ１３は上引き込みフック２２ａに引き渡される。その位置で搬送アーム４ａは、トレイ１３に干渉することなく、回転ホルダから離間する方向に移動可能となる。

図９は本実施形態における回転ホルダ７の脱着駆動部２１の側面動作図であり、図５のＩ－Ｉ線矢視図である。
図１から図８と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する
なお、図９（Ａ）は、回転ホルダ７へのトレイ１３の設置が完了し、トレイ１３が回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面と接触した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の温度制御（冷却）時を示し、図９（Ｂ）は、回転ホルダからトレイを脱着するため、トレイ１３が回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面とから離間した状態を示し、トレイ１３の脱着時を示す。
回転ホルダ７の上下面に装着された脱着駆動部２１は、処理室１の側面外側に装着された伸縮シリンダ３３により、該伸縮シリンダ３３の先端に装着され、連動して動く押しつけベアリング２５をＡ方向に移動し、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板（不図示）に押し付ける。これにより、図９（Ｂ）に示すように、トレイ１３は該回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面から離れる。
一方、伸縮シリンダ３３の動作により、連動して動く押しつけベアリング２５をＢ方向に移動し、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板（不図示）から離間する。これにより、図９（Ａ）に示すように、トレイ１３は、回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面に押し付けられる。

図１０は回転ホルダ７の脱着駆動部２１の上面動作図であり、図５のＩＩ線矢視図である。
図１から図９と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
なお、図１０（Ａ）は、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが離間した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の温度制御（冷却）時を示し、図１０（Ｂ）は、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが接触した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の脱着時を示す。
ガイド板２４の中心部分２４ｃには、押しつけベアリング２５を受けるＶ字ガイド溝２４ａが形成されている。ガイド板２４のＶ字ガイド溝２４ａが無い側には、ガイド板２４の中心部分２４ｃと接触するストッパー２９を有する。
脱着駆動部２１には、ベアリングケース２３の中にスライドガイド（不図示）が設置され、伸縮方向に圧縮スプリング２８を設置する事で、ガタのない水平動作と、押しつけベアリング２５に押しつけ解放後に、速やかに元の位置に戻る機能を有する。
上引き込みフック２２ａは中心線に沿って移動可能なシャフト２７に連結されている。
シャフト２７は、ガイド板２４の中心部分２４ｃとストッパー２９とが離間する際（図１０（Ａ）の際）には、トレイ１３が回転ホルダ７の表面に接触する方向（Ｂ方向）に移動する。
一方、シャフト２７は、ガイド板２４が中心線に沿ってＡ方向に移動し、ガイド板２４の中心部分２４ｃとストッパー２９とが接触する際（図１０（Ｂ）の際）には、トレイ１３が回転ホルダ７の表面から離間する方向（Ａ方向）に移動する。
図１０では不図示であるが、シャフト２７は下フック２２ｂにも取り付けられている。
図１０（Ｂ）に示すように、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが接触する際、押しつけベアリング２５の中心２５ｃとガイド板２４の中心２４ｃとが、中心線上に位置するように配置されている。
図１０（Ａ）の状態から図１０（Ｂ）の状態に移行するには、伸縮シリンダ３３（図１０では不図示）と連動して動く押しつけベアリング２５を、押しつけベアリング２５の中心２５ｃが中心線上に維持された状態で、Ａ方向に移動し、押しつけベアリング２５をガイド板２４に押し付ける。
ガイド板２４の中心部分２４ｃにはＶ字ガイド溝２４ａが形成されているので、押しつけベアリング２５はＶ字ガイド溝２４ａと接触する。
更に、押しつけベアリング２５をＡ方向に移動すると、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは、押しつけベアリング２５の中心２５ｃとガイド板２４の中心２４ｃとが中心線上に位置した状態で、ガイド板２４のＶ字ガイド溝２４ａが無い面は、ストッパー２９に当たるまで押し付けられる。これにより、回転ホルダの中心とトレイ１３の中心１３ｃとが一致した状態となり、回転ホルダ（不図示）の回転方向の停止位置が矯正され、トレイ１３を支持する上フック２２ａの中心と一致することになる。
一方、トレイ１３は、搬送アーム（不図示）のフック（不図示）により、トレイ１３の中心１３ｃが中心線上に位置した状態で保持されている。この状態で、搬送アーム（不図示）を心線に沿ってＢ方向に移動し、トレイ１３の引き渡し位置で停止する。
これにより、図１０（Ｂ）に示すように、トレイ１３は搬送アーム（不図示）のフック（不図示）から上フック２２ａに引き渡しされる。
この状態で、伸縮シリンダ３３（図１０では不図示）と連動して動く押しつけベアリング２５を、押しつけベアリング２５の中心２５ｃが中心線上に維持された状態で、Ｂ向に移動し、押しつけベアリング２５をガイド板２４から離間する。
これにより、上フック２２ａに保持されたトレイ１３が回転ホルダ（温度制御機構）の表面と接触することとなる。

図１１から図１５は回転ホルダ７のトレイ１３の脱着駆動部２１へ、トレイ１３を設置する時の連続動作を示す。
図１から図１０と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。

図１１に示すトレイ１３の設置前においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは離間した状態にあるので、スプリング２８は伸びた状態になり、ガイド板２４とストッパー２９とは離間した状態にある。この状態で押しつけベアリング２５をＡ方向に移動する。
図１２に示すフック解放時においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４のＶ字ガイド溝２４ａとは接触し、押しつけベアリング２５がガイド板２４を押した状態にあるので、スプリング２８は縮んだ状態になり、押しつけベアリング２５によりガイド板２４がストッパー２９に当たるまで押し付けられると、回転ホルダ（不図示）の回転方向の停止位置を矯正してトレイ１３を支持するフック２２の中心とトレイ１３の中心とが一致することになる。
この状態で、トレイ１３が搬送アーム４ａの上フック１５から上引き込みフック２２ａ、２２ｂへの受け渡しが行われることになる。
図１３は、図１２の状態から搬送アーム４ａが伸びた状態を示す。この時、トレイ１３が上引き込みフック２２ａに挿入可能な状態となる。
図１４は、図１３の状態から搬送機構４の搬送アームによって、トレイ１３をＣに示す方向に下降さ、引き込みフック２２ａに挿入される。この状態で押しつけベアリング２５をＢ方向に移動する。
図１５に示すトレイ１３の装着完了時においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４のＶ字ガイド溝２４ａとは離間した状態にあるので、スプリング２８は伸びた状態になり、伸縮シャフト２７は、トレイ１３が回転ホルダ７の表面に接触する方向（Ｂ方向）に移動する。これにより、トレイ１３が回転ホルダ（不図示）の温度制御機構（例えば、冷却面）に押しつけられ、トレイ１３の温度制御（冷却）が行われる。

１ 処理室
２ ロードロック室
４ 搬送機構
７ 回転ホルダ
１３ トレイ
１３ａ 第１トレイ１３ｂ 第２トレイ３１ 遮蔽板３４ 溝

Claims (7)

1. 処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、
   前記トレイは、
   前記トレイの両サイドに遮蔽板を有する第１トレイと、
   前記トレイの両サイドに遮蔽板を有しない第２トレイと、
   を交互に設置したトレイで構成され、
   前記遮蔽板は、前記第２トレイの端部の一部に重なり合う構造であることを特徴とする真空処理装置。
2. 前記遮蔽板の前記第２トレイの端部の一部に重なり合う部分は、前記第２トレイと接触せずに隙間を有する構造であることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
3. 前記トレイを、前記ロードロック室との間で水平搬出する時は、前記遮蔽板を設置した前記第１トレイを全て搬出した後、前記第２トレイを搬出することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空処理装置。
4. 処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、
   隣り合うトレイとトレイの間には、前記搬送機構での水平搬入、水平搬出時に前記トレイが干渉しない為の隙間を有し、前記回転ホルダ側に前記トレイ間の前記隙間より広い幅の溝を設け、遮蔽板を固定することを特徴とする真空処理装置。
5. 前記溝の深さは、前記遮蔽板の厚さより、深くして、前記回転ホルダ表面より凸にならない構造を有することを特徴とする請求項４記載の真空処理装置。
6. 前記溝は、前記回転ホルダ側に入り口が溝底部より狭いアリ溝であることを特徴とする請求項４又は５記載の真空処理装置。
7. 前記アリ溝に前記アリ溝の入り口幅より広い幅のバネ性のある前記遮蔽板を撓ませた状態で装着したことを特徴とする請求項６記載の真空処理装置。