JP7390682B2 - コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 - Google Patents
コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7390682B2 JP7390682B2 JP2019189928A JP2019189928A JP7390682B2 JP 7390682 B2 JP7390682 B2 JP 7390682B2 JP 2019189928 A JP2019189928 A JP 2019189928A JP 2019189928 A JP2019189928 A JP 2019189928A JP 7390682 B2 JP7390682 B2 JP 7390682B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silsesquioxane
- component
- meth
- coating agent
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 140
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 62
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 59
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 29
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 29
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 56
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 23
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- -1 3,3,3-trifluoropropyl group Chemical group 0.000 description 13
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 8
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 6
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 238000004896 high resolution mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPJRRXSHAYUTGL-UHFFFAOYSA-N isopentenyl alcohol Chemical compound CC(=C)CCO CPJRRXSHAYUTGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 4
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N chlorodimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)Cl YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNYYCMIHRZNCPH-UHFFFAOYSA-N [Na+].[Na+].[Na+].[O-][SiH3].[O-][SiH3].[O-][SiH3] Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-][SiH3].[O-][SiH3].[O-][SiH3] CNYYCMIHRZNCPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- CVDUUPMTIHXQKC-UHFFFAOYSA-N ethene 1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical group C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 CVDUUPMTIHXQKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOOC(C)(C)C HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 1,1,5-trimethyl-3,3-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CC(C)CC(C)(C)C1 FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CCCCC1 VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTEYUPDBOLSXCD-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-2-methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C VTEYUPDBOLSXCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMBZPVYOQYPBE-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclododecane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCCCCCCCC1 OTMBZPVYOQYPBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroperoxypropan-2-yl)-4-methylcyclohexane Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)OO)CC1 XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEMBFTKNPXENSE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpentan-2-ylperoxy)propan-2-yl hydrogen carbonate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(C)(C)OC(O)=O IEMBFTKNPXENSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Br)=C XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 2-cyanopropan-2-yliminourea Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(N)=O CKSAKVMRQYOFBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2,4,4-trimethylpentane Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OO MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZGMEGUFFDTCNP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-methylpentane Chemical compound CCCC(C)(C)OO BZGMEGUFFDTCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXDJDZIIPSOZAH-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl benzenecarboperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 WXDJDZIIPSOZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQARUDWASOOSRH-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-yl hydrogen carbonate Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)OC(O)=O BQARUDWASOOSRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPPHXULEHGYZRW-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2,4-dimethyl-2-phenyldiazenylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC1=CC=CC=C1 OPPHXULEHGYZRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKGOQPZSFOPJIS-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)C1=CC=CC=C1.C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=C(C=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(C)(S(=O)C1=CC=C(C=C1)C)C)=O Chemical compound C(C)(=O)C1=CC=CC=C1.C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=C(C=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(C)(S(=O)C1=CC=C(C=C1)C)C)=O MKGOQPZSFOPJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUZQDRKOVNKSOB-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=CC=C1.OC(C(=O)C1=CC=C(C=C1)CC1=CC=C(C=C1)C(C(C)(C)O)=O)(C)C Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)C1=CC=CC=C1.OC(C(=O)C1=CC=C(C=C1)CC1=CC=C(C=C1)C(C(C)(C)O)=O)(C)C RUZQDRKOVNKSOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKQAWPNGDCPTE-UHFFFAOYSA-N [2,5-dimethyl-5-(3-methylbenzoyl)peroxyhexan-2-yl] 3-methylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 UNKQAWPNGDCPTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- BXIQXYOPGBXIEM-UHFFFAOYSA-N butyl 4,4-bis(tert-butylperoxy)pentanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C BXIQXYOPGBXIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- WKGDNXBDNLZSKC-UHFFFAOYSA-N oxido(phenyl)phosphanium Chemical compound O=[PH2]c1ccccc1 WKGDNXBDNLZSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-tert-butylperoxycarbonylbenzoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC(C)(C)C)=C1 JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLSMLZRPNPCXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butylperoxy 2-ethylhexyl carbonate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)OOOC(C)(C)C DLSMLZRPNPCXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXFUQOLBKQKJU-UHFFFAOYSA-N tert-butylperoxy(trimethyl)silane Chemical compound CC(C)(C)OO[Si](C)(C)C XTXFUQOLBKQKJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明は、コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法に関する。
従来、自動車や鉄道等の車両を構成する部品には、鋼やアルミニウム、ガラス等の無機材料が使用されてきた。近年では、車両の軽量化を目的として、無機材料からなる部品から、プラスチック等の有機材料からなる部品への置き換えが進んでいる。しかし、有機材料は、無機材料に比べて軽量である反面、軟らかく、傷がつきやすい。
そこで、有機材料からなる部品の傷に対する耐久性を向上させるために、部品の表面に硬い皮膜を形成する技術が提案されている。例えば、特許文献１には、樹脂製基材と、樹脂製基材の表面に形成されたプライマー層と、プライマー層の上に形成されたハードコート層とを有する被覆部材が記載されている。
このような２層構造の皮膜は、例えば、樹脂製基材上に液状のプライマーを塗布する工程、プライマーを乾燥させてプライマー層を形成する工程、プライマー層上に液状のコーティング剤を塗布する工程、コーティング剤を硬化させてハードコート層を形成する工程を順次行うことにより作製することができる。
しかし、特許文献１の被覆部材のように、プライマー層とハードコート層との２層構造からなる皮膜を形成するに当たっては、樹脂製基材上にプライマーを塗布する工程、プライマーを乾燥させてプライマー層を形成する工程、プライマー層上にコーティング剤を塗布する工程及びコーティング剤を硬化させてハードコート層を形成する工程を順次行う必要がある。そのため、皮膜の形成作業が煩雑になるとともに、皮膜の形成作業に要するコストの増大を招いている。
本発明は、かかる背景に鑑みてなされたものであり、基材との密着性に優れ、かつ、傷に対する耐久性の高いコーティング膜を簡素な作業により形成することができるコーティング剤、このコーティング剤から形成されたコーティング膜を有する樹脂部材及びその製造方法を提供しようとするものである。
本発明の一参考態様は、不完全かご型シルセスキオキサン骨格を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）と、
ラジカル重合性官能基を備えた重合性エステル（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記重合性エステル（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下である、コーティング剤にある。
ラジカル重合性官能基を備えた重合性エステル（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記重合性エステル（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下である、コーティング剤にある。
本発明の一態様は、樹脂からなる基材と、
前記の態様のコーティング剤の硬化物からなり、前記基材の表面上に配置されたコーティング膜と、を有しており、
前記コーティング剤中のシルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、樹脂部材にある。
前記の態様のコーティング剤の硬化物からなり、前記基材の表面上に配置されたコーティング膜と、を有しており、
前記コーティング剤中のシルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、樹脂部材にある。
本発明の他の態様は、前記の態様の樹脂部材の製造方法であって、樹脂からなる基材を準備する準備工程と、
前記基材の表面上に、前記コーティング剤を塗布する塗布工程と、
前記コーティング剤中のラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させ、前記基材の表面上に前記コーティング剤の硬化物からなるコーティング膜を形成する硬化工程と、を有する、樹脂部材の製造方法にある。
前記基材の表面上に、前記コーティング剤を塗布する塗布工程と、
前記コーティング剤中のラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させ、前記基材の表面上に前記コーティング剤の硬化物からなるコーティング膜を形成する硬化工程と、を有する、樹脂部材の製造方法にある。
前記コーティング剤は、前記特定のシルセスキオキサン成分（Ａ）と、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含んでいる。基材上にコーティング剤を塗布すると、コーティング剤中の各成分が、コーティング剤の表面自由エネルギーが最小となるような配置をとる。そのため、基材上に塗布されたコーティング剤の表面近傍には、シルセスキオキサン骨格が存在していると推測される。
それ故、ラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させて（メタ）アクリレート成分（Ｂ）を重合させることにより、硬度及び潤滑性に優れたコーティング膜を形成することができる。そして、コーティング膜の硬度及び潤滑性を向上させることにより、傷に対する耐久性を向上させることができる。また、前記コーティング膜は、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）のラジカル重合によって生じる有機成分を含んでいるため、基材との密着性を向上させることができる。
さらに、前記コーティング剤は、密着性を向上させるためのプライマー層と、表面の硬さを硬くするハードコート層とからなる従来の２層構造の皮膜と同等の機能を単一の層により実現することができる。
従って、前記の態様によれば、基材との密着性に優れ、かつ、傷に対する耐久性の高いコーティング膜を簡素な作業により形成することができるコーティング剤、このコーティング剤から形成されたコーティング膜を有する樹脂部材及びその製造方法を提供することができる。
［コーティング剤］
前記コーティング剤の構成について説明する。
前記コーティング剤の構成について説明する。
・シルセスキオキサン成分（Ａ）
前記コーティング剤中に含まれるシルセスキオキサン成分（Ａ）は、不完全かご型シルセスキオキサン骨格を有している。不完全かご型シルセスキオキサン骨格は、Ｓｉ原子とＯ原子とが交互に結合してなる多面体状を呈するとともに、多面体における隣り合う頂点のうち少なくとも一組の頂点の間が接続されていない構造を有している。すなわち、不完全かご型シルセスキオキサンは、完全かご型シルセスキオキサンにおける辺の一部が開放された構造を有している。不完全かご型シルセスキオキサン骨格に含まれるＳｉ原子及びＯ原子の数は、特に限定されることはない。
前記コーティング剤中に含まれるシルセスキオキサン成分（Ａ）は、不完全かご型シルセスキオキサン骨格を有している。不完全かご型シルセスキオキサン骨格は、Ｓｉ原子とＯ原子とが交互に結合してなる多面体状を呈するとともに、多面体における隣り合う頂点のうち少なくとも一組の頂点の間が接続されていない構造を有している。すなわち、不完全かご型シルセスキオキサンは、完全かご型シルセスキオキサンにおける辺の一部が開放された構造を有している。不完全かご型シルセスキオキサン骨格に含まれるＳｉ原子及びＯ原子の数は、特に限定されることはない。
不完全かご型シルセスキオキサン骨格中のＳｉ原子には、アルキル基やフルオロアルキル基、（メタ）アクリロイル基などの種々の官能基が結合している。
シルセスキオキサン成分（Ａ）における不完全かご型シルセスキオキサン骨格には、フルオロアルキル基が結合している。これにより、基材上に塗布されたコーティング剤の最表面において、シルセスキオキサン成分（Ａ）を、フルオロアルキル基が表面に露出するように配向させることができる。フルオロアルキル基が露出したコーティング膜は、これにより、コーティング膜の潤滑性をより高めることができる。
フルオロアルキル基は、炭化水素基の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されてなる官能基である。フルオロアルキル基は、不完全かご型シルセスキオキサン骨格中において、一部のＳｉ原子に結合していてもよいし、全部のＳｉ原子に結合していてもよい。
フルオロアルキル基としては、例えば、一般式ＣＦ3（ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2－（但し、ｎは０以上の整数）で表されるフルオロアルキル基を採用することができる。かかるフルオロアルキル基としては、例えば、３，３，３－トリフルオロプロピル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ノナフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－トリデカフルオロオクチル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ヘプタデカフルオロデシル基等がある。シルセスキオキサン成分（Ａ）は、フルオロアルキル基として、これらの官能基から選択される１種の官能基を有していてもよいし、２種以上の官能基を有していてもよい。
コーティング剤中には、１種類のシルセスキオキサン成分（Ａ）が含まれていてもよいし、互いに化学構造の異なる２種類以上のシルセスキオキサン成分（Ａ）が含まれていてもよい。
例えば、コーティング剤中には、シルセスキオキサン成分（Ａ）として、不完全かご型シルセスキオキサン骨格と、不完全かご型シルセスキオキサン骨格に結合したラジカル重合性官能基とを備えた重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）が含まれていてもよい。この場合には、ラジカル重合反応によって、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）中の（メタ）アクリロイル基と重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）中のラジカル重合性官能基とを結合させ、不完全かご型シルセスキオキサン骨格を（メタ）アクリレートのネットワーク中に組み込むことができる。その結果、不完全かご型シルセスキオキサン骨格と有機成分とをより強固に結合することができる。
重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）中のラジカル重合性官能基としては、ラジカル重合により重合可能な官能基を使用することができる。より具体的には、ラジカル重合性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基等を使用することができる。重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）は、ラジカル重合性官能基として、これらの官能基から選択される１種の官能基のみを有していてもよいし、２種以上の官能基を有していてもよい。ラジカル重合反応における反応性を高める観点からは、重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）は、ラジカル重合性官能基としてアクリロイル基又はメタクリロイル基のうち１種または２種を有していることが好ましい。
また、コーティング剤中には、シルセスキオキサン成分（Ａ）として、１分子中に１個の不完全かご型シルセスキオキサン骨格を有するシルセスキオキサンモノマーが含まれていてもよいし、複数の不完全かご型シルセスキオキサン骨格が互いに結合してなるシルセスキオキサンポリマー（Ａ－２）が含まれていてもよい。後者の場合には、耐熱性をより向上させる効果が期待できる。また、この場合には、コーティング膜の表面近傍における不完全かご型シルセスキオキサン骨格の濃度をより高める効果が期待できる。さらに、シルセスキオキサンポリマー（Ａ－２）を用いることにより、コーティング膜の屈折率の制御をより容易に行うことができる。
シルセスキオキサンポリマー（Ａ－２）としては、例えば、数平均分子量が５０００～２００００であるシルセスキオキサンポリマーを用いることができる。
コーティング剤中のシルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量は、前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して０．５質量部以上３０質量部以下である。コーティング剤中のシルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量は、前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して０．５質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．７質量部以上１８質量部以下であることがより好ましく、１．０質量部以上１５質量部以下であることがさらに好ましい。この場合には、コーティング膜の表面近傍に配置される不完全かご型シルセスキオキサン骨格の量をより多くすることができる。その結果、コーティング膜の硬度及び撥水性をより向上させることができる。
・（メタ）アクリレート成分（Ｂ）
前記コーティング剤中に含まれる（メタ）アクリレート成分（Ｂ）は、分子構造中にアクリロイル基及びメタクリロイル基のうち少なくとも一方を有している。なお、分子構造中に、（メタ）アクリロイル基と不完全かご型シルセスキオキサン骨格との両方を含む化合物は、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）からは除外される。
前記コーティング剤中に含まれる（メタ）アクリレート成分（Ｂ）は、分子構造中にアクリロイル基及びメタクリロイル基のうち少なくとも一方を有している。なお、分子構造中に、（メタ）アクリロイル基と不完全かご型シルセスキオキサン骨格との両方を含む化合物は、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）からは除外される。
（メタ）アクリレート成分（Ｂ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、１－メチルエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－メチルプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸モノエステル；１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ジエステル；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート等の、（メタ）アクリロイル基を３つ以上備えたエステル等を使用することができる。また、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）としては、前述した（メタ）アクリル酸エステルのオリゴマーを使用することもできる。
コーティング剤中の（メタ）アクリレート成分（Ｂ）の含有量は、例えば、シルセスキオキサン成分（Ａ）と（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して８０質量部以上９９．５質量部以下であることが好ましく、８２質量部以上９９．３質量部以下であることがより好ましく、８５質量部以上９９質量部以下であることがさらに好ましい。この場合には、コーティング膜中の有機成分の量を十分に多くすることができる。その結果、コーティング膜と基材との密着性をより向上させることができる。
前記コーティング剤は、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）として、イソシアヌル環骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ－１）と、イソシアヌル環骨格を有し、ウレタン結合を有しないトリ（メタ）アクリレート（Ｂ－２）と、を含有していてもよい。
（Ｂ－１）成分としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物を採用することができる。下記一般式（１）で表される化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート型三量体とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートまたはそのε－カプロラクトン変性体との付加反応によって合成することができる。（Ｂ－１）成分としては、これらの化合物から選択された１種の化合物を使用してもよいし、２種以上の化合物を併用してもよい。
なお、前記一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３は炭素数２～１０の２価の有機基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は同一の有機基であってもよいし、互いに異なる有機基であってもよい。ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート型三量体にヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのε－カプロラクトン変性体が付加された場合には、前述した２価の有機基に－ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－または－ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかの部分構造が含まれる。
前記一般式（１）におけるＲ４、Ｒ５およびＲ６は水素原子またはメチル基である。Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、水素原子であることが好ましい。この場合には、前記コーティング剤の硬化性をより向上させることができる。
ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート型三量体とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートまたはそのε－カプロラクトン変性体との付加反応は、触媒を用いずに行ってもよいし、反応を促進させるために触媒を用いて行ってもよい。触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウリレート等のスズ系触媒や、トリエチルアミン等のアミン系触媒を使用することができる。
前記コーティング剤中の（Ｂ－１）成分の含有量は、シルセスキオキサン成分（Ａ）と（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して２０質量部以上６０質量部以下であることが好ましく、２３質量部以上５８質量部以下であることがより好ましく、２５質量部以上５４質量部以下であることがさらに好ましい。かかる組成を有するコーティング剤を硬化させることにより、基材との密着性、耐候性及び耐衝撃性に優れたコーティング膜を得ることができる。
（Ｂ－２）成分としては、例えば、下記一般式（２）で表される化合物等を使用することができる。下記一般式（２）で表される化合物は、例えば、イソシアヌル酸のアルキレンオキサイド付加体と（メタ）アクリル酸またはそのε－カプロラクトン変性体との縮合反応によって合成することができる。（Ｂ－２）成分としては、これらの化合物から選択された１種の化合物を使用してもよいし、２種以上の化合物を併用してもよい。
なお、前記一般式（２）におけるＲ７、Ｒ８及びＲ９は炭素数２～１０の２価の有機基である。また、ｎ１＝１～３であり、ｎ２＝１～３であり、ｎ３＝１～３であり、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＝３～９である。ｎ１＋ｎ２＋ｎ３の値は、前記一般式（２）で表される化合物１分子当たりのアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表す。
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一の有機基であってもよいし、互いに異なる有機基であってもよい。また、ｎ１、ｎ２、ｎ３は同一の値であってもよいし、互いに異なる値であってもよい。イソシアヌル酸に（メタ）アクリル酸のε－カプロラクトン変性体が縮合した場合には、前述した２価の有機基に－ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－または－ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかの部分構造が含まれる。
前記一般式（２）におけるＲ１０、Ｒ１１およびＲ１２は水素原子またはメチル基である。Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、水素原子であることが好ましい。この場合には、前記コーティング剤の硬化性をより向上させることができる。
前記コーティング剤中の（Ｂ－２）成分の含有量は、シルセスキオキサン成分（Ａ）と（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して１５質量部以上４５質量部以下であることが好ましく、１７質量部以上４３質量部以下であることがより好ましく、２０質量部以上４０質量部以下であることがさらに好ましい。かかる組成を有するコーティング剤を硬化させることにより、基材との密着性、耐候性及び耐衝撃性に優れたコーティング膜を得ることができる。
また、前記コーティング剤は、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）として、更に、（メタ）アクリル当量、つまり、（メタ）アクリロイル基１個当たりの分子量が８０～２００である８０～２００の多官能（メタ）アクリレート（Ｂ－３）を含んでいてもよい。
前記コーティング剤中の（Ｂ－３）成分の含有量は、シルセスキオキサン成分（Ａ）と（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して２０質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、２３質量部以上２７質量部以下であることがより好ましい。かかる組成を有するコーティング剤を硬化させることにより、基材との密着性、耐候性及び耐衝撃性に優れたコーティング膜を得ることができる。
・ラジカル重合開始剤（Ｃ）
前記コーティング剤中に含まれるラジカル重合開始剤（Ｃ）は、コーティング剤中にラジカルを発生させることができる。そして、このラジカルによって（メタ）アクリレート成分（Ｂ）等に含まれる（メタ）アクリロイル基同士の重合反応を開始させることができる。
前記コーティング剤中に含まれるラジカル重合開始剤（Ｃ）は、コーティング剤中にラジカルを発生させることができる。そして、このラジカルによって（メタ）アクリレート成分（Ｂ）等に含まれる（メタ）アクリロイル基同士の重合反応を開始させることができる。
前記コーティング剤中のラジカル重合開始剤（Ｃ）の含有量は、ラジカル重合開始剤（Ｃ）以外の成分の含有量に応じて適宜設定することができる。例えば、ラジカル重合開始剤（Ｃ）の含有量は、シルセスキオキサン成分（Ａ）と（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部の範囲とすることができる。
ラジカル重合開始剤（Ｃ）としては、例えば、特定の波長の光を照射することによってラジカルを発生させる光ラジカル重合開始剤や、熱を加えることによってラジカルを発生させる熱ラジカル重合開始剤等を使用することができる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル〕－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、ジエトキシアセトフェノン、オリゴ｛２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパノン｝および２－ヒドロキシ－１－｛４－〔４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル〕フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾフェノン、４－フェニルベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノンおよび４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルファイド等のベンゾフェノン系化合物；メチルベンゾイルフォルメート、オキシフェニル酢酸の２－（２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ）エチルエステルおよびオキシフェニル酢酸の２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステル等のα－ケトエステル系化合物；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のフォスフィンオキサイド系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；チタノセン系化合物；１－〔４－（４－ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル〕－２－メチル－２－（４－メチルフェニルスルフィニル）プロパン－１－オン等のアセトフェノン／ベンゾフェノンハイブリッド系光開始剤；２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）－１－〔４－（フェニルチオ）〕－１，２－オクタンジオン等のオキシムエステル系光重合開始剤；並びにカンファーキノン等を使用することができる。
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、有機過酸化物およびアゾ系化合物等を使用することができる。
有機過酸化物としては、例えば、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）２－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス〔４，４－ジ（ｔ－ブチルパーオキシシクロヘキシル）〕プロパン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロドデカン、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシラウレート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｍ－トルオイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ２－エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、２，２－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ－ブチル－４，４－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）バレレート、ジ－ｔ－ブチルパーオキシイソフタレート、α、α’－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｐ－メンタンハイドロパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキシン－３、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ－ヘキシルハイドロパーオキサイドおよびｔ－ブチルハイドロパーオキサイド等を使用することができる。
アゾ系化合物としては、例えば、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２－（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２－フェニルアゾ－４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル、アゾジ－ｔ－オクタンおよびアゾジ－ｔ－ブタン等を使用することができる。
ラジカル重合開始剤（Ｃ）成分としては、これらの化合物から選択された１種の化合物を使用してもよいし、２種以上の化合物を併用してもよい。
・その他の添加剤
前記コーティング剤中には、前述したシルセスキオキサン成分（Ａ）、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）の他に、コーティング剤の硬化を損なわない範囲で、コーティング膜の特性を調整するための添加剤が含まれていてもよい。例えば、前記コーティング剤中には、添加剤として、紫外線吸収剤、ラジカル捕捉剤、ヒンダードアミン系光安定剤等の、コーティング膜の劣化を抑制するための添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤を使用することにより、コーティング膜の耐候性を向上させる効果を期待することができる。
前記コーティング剤中には、前述したシルセスキオキサン成分（Ａ）、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）の他に、コーティング剤の硬化を損なわない範囲で、コーティング膜の特性を調整するための添加剤が含まれていてもよい。例えば、前記コーティング剤中には、添加剤として、紫外線吸収剤、ラジカル捕捉剤、ヒンダードアミン系光安定剤等の、コーティング膜の劣化を抑制するための添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤を使用することにより、コーティング膜の耐候性を向上させる効果を期待することができる。
また、前記コーティング剤中には、添加剤として、レベリング剤、脱泡剤等の表面調整剤が含まれていてもよい。これらの添加剤を使用することにより、基材上にコーティング剤を塗布した際に、コーティング剤の厚みを均一にすることができる。その結果、コーティング膜を備えた樹脂部材の傷に対する耐久性をより向上させる効果を期待することができる。
前記コーティング剤を硬化させることにより、基材上に透明なコーティング膜を形成することができる。そのため、例えば、窓用透明部材、即ち無機材料からなる窓ガラスの代替となる部材の表面に前記コーティング剤を適用することにより、無機材料からなるガラスに比べて軽量な窓用透明部材を得ることができる。
また、例えば、ボディパネルの表面に前記コーティング剤を適用することにより、ボディパネルの表面にクリヤーコート層を形成することができる。更に、必要に応じて前記コーティング剤中に顔料等の着色剤を添加し、コーティング膜を着色することも可能である。
［樹脂部材］
前記コーティング剤を樹脂からなる基材上に塗布した後、紫外光を照射してコーティング剤を硬化させることにより、樹脂部材を得ることができる。
この樹脂部材は、樹脂からなる基材と、
前記コーティング剤の硬化物からなり、基材の表面上に配置されたコーティング膜と、を有している。
前記コーティング剤を樹脂からなる基材上に塗布した後、紫外光を照射してコーティング剤を硬化させることにより、樹脂部材を得ることができる。
この樹脂部材は、樹脂からなる基材と、
前記コーティング剤の硬化物からなり、基材の表面上に配置されたコーティング膜と、を有している。
また、前記樹脂部材は、前述したように、潤滑性が高く、硬いコーティング膜を有しているため、例えば砂塵等の粒子が衝突したり擦れたりした場合に、コーティング膜の表面にへこみ傷や擦れ傷などがつきにくい。このように、前記樹脂部材は、傷に対する耐久性が高いため、自動車のボディパネルや窓用透明部材などの自動車用外装部材に好適である。
前記樹脂部材において、基材を構成する樹脂は、樹脂部材の用途に合わせて適宜選択することができる。例えば、樹脂部材を窓用透明部材として使用する場合には、基材にポリカーボネート樹脂を採用することができる。ポリカーボネート樹脂は、耐候性、強度、透明性等の、窓用透明部材に要求される諸特性に優れている。そのため、ポリカーボネート樹脂からなる基材上に透明な前記コーティング膜を形成することにより、窓用透明部材として好適な樹脂部材を得ることができる。
前記樹脂部材は、例えば、樹脂からなる基材を準備する準備工程と、
基材の表面上に前記のコーティング剤を塗布する塗布工程と、
コーティング剤に紫外光を照射することにより、基材の表面上にコーティング剤の硬化物からなるコーティング膜を形成する硬化工程と、を有する製造方法により、製造することができる。
基材の表面上に前記のコーティング剤を塗布する塗布工程と、
コーティング剤に紫外光を照射することにより、基材の表面上にコーティング剤の硬化物からなるコーティング膜を形成する硬化工程と、を有する製造方法により、製造することができる。
前記製造方法において、塗布工程でのコーティング剤の塗布には、スプレーコーター、フローコーター、スピンコーター、ディップコーター、バーコーター、アプリケーター等の公知の塗布装置の中から、所望する膜厚や基材の形状等に応じて適切な装置を選択して使用することができる。
塗布工程の後、必要に応じてコーティング剤を加熱して乾燥させる工程を行ってもよい。
硬化工程においては、ラジカル重合開始剤（Ｃ）の性質に応じて適切な処理を行うことにより、ラジカル重合開始剤（Ｃ）成分からラジカルを発生させ、ラジカル重合反応を進行させることができる。例えば、ラジカル重合開始剤（Ｃ）として熱ラジカル重合開始剤が含まれている場合には、コーティング剤を加熱することにより、ラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させることができる。また、ラジカル重合開始剤（Ｃ）として光ラジカル重合開始剤が含まれている場合には、コーティング剤に適切な波長の光を照射することにより、ラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させることができる。
硬化工程の後、必要に応じてコーティング膜を加熱し、硬化を促進させる工程を行ってもよい。
前記コーティング剤及び表面被覆部材の実施例について説明する。なお、本発明に係るコーティング剤及び表面被覆部材の態様は、以下に示す態様に限定されるものではなく、その趣旨を損なわない範囲で適宜構成を変更することができる。
以下に、本例において使用したシルセスキオキサン成分（Ａ）、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）及びラジカル反応開始剤（Ｃ）を示す。
・シルセスキオキサン成分（Ａ）
化合物１：下記構造式で表される、フルオロアルキル基及びメタクリロイル基を備えたシルセスキオキサンモノマー
化合物１：下記構造式で表される、フルオロアルキル基及びメタクリロイル基を備えたシルセスキオキサンモノマー
化合物２：下記構造式で表される、フルオロアルキル基及びビニル基を備えたシルセスキオキサンモノマー
化合物３：下記化合物４と前記化合物２とを反応させてなる、フルオロアルキル基を備えたシルセスキオキサンポリマー
化合物５：下記化合物６と前記化合物２とを反応させてなる、フルオロアルキル基を備えたシルセスキオキサンポリマー
化合物７：前記化合物４と下記化合物８とを反応させてなる、フルオロアルキル基を備えたシルセスキオキサンポリマー
化合物９：下記構造式で表される、ビニル基を備えたシルセスキオキサンモノマー
・（メタ）アクリレート成分（Ｂ）
ＨＢＡ：ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート型三量体とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの付加生成物
Ｍ－３１５：イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリアクリレートを含む混合物（東亞合成株式会社製）
Ａ－ＤＰＨ：ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業株式会社製、（メタ）アクリル当量９６）
ＳＡ２４０３Ｐ：アクリロイル基を有するポリロタキサン（アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社製「セルム（登録商標）スーパーポリマー ＳＡ２４０３Ｐ」、重量平均分子量２０，０００）
ＫＵＡ－ＰＣ２Ｉ：ウレタンアクリレート（ケーエスエム株式会社製「ＫＵＡ－ＰＣ２Ｉ」）
ＨＢＡ：ヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート型三量体とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの付加生成物
Ｍ－３１５：イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリアクリレートを含む混合物（東亞合成株式会社製）
Ａ－ＤＰＨ：ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業株式会社製、（メタ）アクリル当量９６）
ＳＡ２４０３Ｐ：アクリロイル基を有するポリロタキサン（アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社製「セルム（登録商標）スーパーポリマー ＳＡ２４０３Ｐ」、重量平均分子量２０，０００）
ＫＵＡ－ＰＣ２Ｉ：ウレタンアクリレート（ケーエスエム株式会社製「ＫＵＡ－ＰＣ２Ｉ」）
・ラジカル反応開始剤（Ｃ）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）７５４：フォスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９：α－ケトエステル系化合物を含む光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）７５４：フォスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９：α－ケトエステル系化合物を含む光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
なお、化合物１～化合物９は、例えば、以下の方法により合成することができる。
・化合物１
１．６０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）の化合物４を窒素雰囲気下で９．４ｍｌのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解させた。この溶液に、７．２０ｍｍｏｌ（０．７ｍＬ）の３－メチル－３－ブテン－１－オールと、１．６０×１０-3ｍｍｏｌ（０．０１５ｍＬ）のＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒とを加えた。この混合物を５０℃で６時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去して粗生成物を得た。粗生成物をＨＰＬＣで精製することにより、中間体Ａを得た。中間体Ａは無色固体であった。中間体Ａの収量は１．００ｍｍｏｌ（１．５２ｇ）であり、収率は６３％であった。中間体ＡのＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）および高分解能マススペクトロメトリー（ＨＲ－ＭＳ）の結果は以下の通りである。
１．６０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）の化合物４を窒素雰囲気下で９．４ｍｌのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解させた。この溶液に、７．２０ｍｍｏｌ（０．７ｍＬ）の３－メチル－３－ブテン－１－オールと、１．６０×１０-3ｍｍｏｌ（０．０１５ｍＬ）のＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒とを加えた。この混合物を５０℃で６時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去して粗生成物を得た。粗生成物をＨＰＬＣで精製することにより、中間体Ａを得た。中間体Ａは無色固体であった。中間体Ａの収量は１．００ｍｍｏｌ（１．５２ｇ）であり、収率は６３％であった。中間体ＡのＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）および高分解能マススペクトロメトリー（ＨＲ－ＭＳ）の結果は以下の通りである。
1Ｈ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝３．７６－３．６３（ｍ，１２Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ2－ＣＨ（ＣＨ3）－ＣＨ2－ＣＨ
2 －ＯＨ），２．１３－２．０３（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ2－ＣＨ
2 －ＣＦ3），１．８３－１．４６（ｍ，９Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ2－ＣＨ（ＣＨ3）－ＣＨ
2 －ＣＨ2－ＯＨ），０．９６－０．９５（ｄ，９Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ2－ＣＨ（ＣＨ
3 ）－ＣＨ2－ＣＨ2－ＯＨ），０．９３－０．７３（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ
2 －ＣＨ2－ＣＦ3），０．５７－０．５１（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ
2 －ＣＨ（ＣＨ3）－ＣＨ2－ＣＨ2－ＯＨ），０．１９－０．１６（ｓ，１８Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ
3 ） 2 －ＣＨ2－ＣＨ（ＣＨ3）－ＣＨ2－ＣＨ2－ＯＨ） ｐｐｍ。なお、下線を付した水素原子は、化学シフトに対応する水素原子である。
13Ｃ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）：δ＝１２８．３４，１２５．６０，６０．７４，４３．０９，２８．２０，２８．０７，２７．８８，２７．５８，２７．４０，２７．２６，２６．４３，２５．４７，２２．６６，１５．０３，６．０６，４．８９，３．９１，１．８４，１．３１，１．２５ ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，８０ＭＨｚ）：δ＝１２．１６，－６８．２９，－６８．１６，－６９．５８ ｐｐｍ。
ＨＲ－ＭＳ（ｍ／ｚ，［Ｍ＋Ｎａ］+）：１５２５．２６７４（ｃａｌｃ．）；１５２５．２６７０（ｏｂｓｅｒｖｅｄ）。
次に、０．２６９ｍｍｏｌ（０．４０４ｇ）の中間体Ａと０．８０７ｍｍｏｌ（０．１２ｍＬ）のメタクリル酸２－イソシアナトエチルとを１ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液を５０℃で２時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去することで化合物１を得た。
・化合物２
１．８０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）のHepta(3,3,3-trifluoropropyl)tricycloheptasiloxane trisodium silanolateを１８ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に窒素雰囲気下で、７．９０ｍｍｏｌ（１．０９ｍＬ）のビニルクロロジメチルシランと７．９０ｍｍｏｌ（１．１０ｍＬ）のジエチルアミンとを加えた。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物にクロロホルムと水とを加えて抽出操作を行い、１Ｍ塩酸水を用いて２回洗浄を行った後に有機層を脱水した。この有機層から減圧下で溶媒を留去し、乾燥することにより化合物２を得た。化合物２は淡黄色固体であった。化合物２の収量は０．６１０ｍｍｏｌ（０．８１ｇ）であり、収率は６２％であった。化合物２の1Ｈ－ＮＭＲ化学シフトは以下の通りである。
１．８０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）のHepta(3,3,3-trifluoropropyl)tricycloheptasiloxane trisodium silanolateを１８ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に窒素雰囲気下で、７．９０ｍｍｏｌ（１．０９ｍＬ）のビニルクロロジメチルシランと７．９０ｍｍｏｌ（１．１０ｍＬ）のジエチルアミンとを加えた。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物にクロロホルムと水とを加えて抽出操作を行い、１Ｍ塩酸水を用いて２回洗浄を行った後に有機層を脱水した。この有機層から減圧下で溶媒を留去し、乾燥することにより化合物２を得た。化合物２は淡黄色固体であった。化合物２の収量は０．６１０ｍｍｏｌ（０．８１ｇ）であり、収率は６２％であった。化合物２の1Ｈ－ＮＭＲ化学シフトは以下の通りである。
1Ｈ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝６．１４－６．０３（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ＝ＣＨ
2 ），５．８２－５．７６（ｄ，３Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ＝ＣＨ2），２．１６－２．０３（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ2－ＣＨ
2 －ＣＦ3），０．８８－０．７９（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ
2 －ＣＨ2－ＣＦ3），０．２４－０．２２（ｄ，１８Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ
3 ） 2 －ＣＨ＝ＣＨ2） ｐｐｍ。
・化合物３
０．１１０ｍｍｏｌ（０．１４１ｇ）の化合物２と、０．１１０ｍｍｏｌ（０．１５０ｇ）の化合物４と、Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ，１１μＬ）とを２ｍＬのＴＨＦに加えた。この溶液を窒素雰囲気下において８０℃で６時間攪拌することにより、化合物２と化合物４とを重合させた。重合終了後、減圧下で反応混合物から揮発成分を留去して粗生成物を得た。分取ＧＰＣを用いて粗生成物から低分子量成分を除くことにより、化合物３を得た。化合物３は無色固体であった。化合物３の収量は０．１３２ｇであり、収率は４５％であった。化合物３のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
０．１１０ｍｍｏｌ（０．１４１ｇ）の化合物２と、０．１１０ｍｍｏｌ（０．１５０ｇ）の化合物４と、Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ，１１μＬ）とを２ｍＬのＴＨＦに加えた。この溶液を窒素雰囲気下において８０℃で６時間攪拌することにより、化合物２と化合物４とを重合させた。重合終了後、減圧下で反応混合物から揮発成分を留去して粗生成物を得た。分取ＧＰＣを用いて粗生成物から低分子量成分を除くことにより、化合物３を得た。化合物３は無色固体であった。化合物３の収量は０．１３２ｇであり、収率は４５％であった。化合物３のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
1Ｈ－ＮＭＲ（ｉｎ Ａｃｅｔｏｎｅ－ｄ6，４００ＭＨｚ）：δ＝６．２３－５．８４（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2－ＣＨ＝ＣＨ2），２．３１－２．３０（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ2－ＣＨ2－ＣＦ2），１．０６－１．０１（ｍ，１４Ｈ），０．７３－０．２７（ｂｒ，６Ｈ），０．２６－０．０６（ｂｒ，１８Ｈ） ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＮＭＲ（ｉｎ Ａｃｅｔｏｎｅ－ｄ6，８０ＭＨｚ）：δ＝１３．２９，１２．３０，１２．４３，１１．８４，－６９．７３，－６９．９０ ｐｐｍ。
・化合物４
１．８０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）のhepta(3,3,3-trifluoropropyl)tricycloheptasiloxane trisodium silanolateを３０ｍＬの１，２－ジクロロエタンに溶解させた。この溶液に、窒素雰囲気下でクロロジメチルシランのジクロロエタン溶液を１５ｍＬ加えた。混合物を６０℃で６時間撹拌した後、蒸留水を加えた。この混合物にクロロホルムを加えて抽出操作を行った後、不溶部をろ過で除いた。その後、減圧下で溶媒を留去し、乾燥することにより化合物４を得た。化合物４は白色固体であった。化合物４の収量は１．５５ｍｍｏｌ（１．９３ｇ）であり、収率は８８％であった。化合物４のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）およびＨＲ－ＭＳの結果は以下の通りである。
１．８０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）のhepta(3,3,3-trifluoropropyl)tricycloheptasiloxane trisodium silanolateを３０ｍＬの１，２－ジクロロエタンに溶解させた。この溶液に、窒素雰囲気下でクロロジメチルシランのジクロロエタン溶液を１５ｍＬ加えた。混合物を６０℃で６時間撹拌した後、蒸留水を加えた。この混合物にクロロホルムを加えて抽出操作を行った後、不溶部をろ過で除いた。その後、減圧下で溶媒を留去し、乾燥することにより化合物４を得た。化合物４は白色固体であった。化合物４の収量は１．５５ｍｍｏｌ（１．９３ｇ）であり、収率は８８％であった。化合物４のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）およびＨＲ－ＭＳの結果は以下の通りである。
1Ｈ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝４．７８－４．７５（ｄ，３Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ3）2
Ｈ），２．１７－２．０３（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ2－ＣＨ
2 －ＣＦ3），０．９６－０．８２（ｍ，１４Ｈ，Ｓｉ－ＣＨ
2 －ＣＨ2－ＣＦ3），０．２６－０．２０（ｄ，１８Ｈ，Ｓｉ（ＣＨ
3 ） 2 Ｈ） ｐｐｍ。
13Ｃ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）：δ＝１２８．３９，１２８．３１，１２５．６５，１２５．５７，２８．０９，２７．８６，２７．７８，２７．５６，２７．４８，２７．４１，２７．２５，５．６７，５．６５，４．７１，３．９０，０．３５ ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，８０ＭＨｚ）：δ＝－２．２７，－６６．２０，－６８．４７，－６８．９７ ｐｐｍ。
ＨＲ－ＭＳ（ｍ／ｚ，［Ｍ＋Ｎａ］+）：１２６７．０４７９（ｃａｌｃ．）；１２６７．０４７７（ｏｂｓｅｒｖｅｄ）。
・化合物５
０．２０７ｍｍｏｌ（０．２７４ｇ）の化合物２と、これと等モル（０．２０７ｍｍｏｌ、０．２２９ｇ）の化合物６を２ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に４μＬのＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）を加えた後、窒素雰囲気下で６時間還流して化合物２と化合物６とを重合させた。重合終了後、スカベンジャー（ＳｉｌｉａＭｅｔｓ（登録商標） ｔｒｉａｍｉｎｅ）によって触媒を取り除き、減圧下で揮発成分を留去することで、化合物５を得た。化合物５は無色固体であった。また、上記の方法により得られた化合物５の数平均分子量Ｍｎは５．３×１０3であり、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは４．８であった。
０．２０７ｍｍｏｌ（０．２７４ｇ）の化合物２と、これと等モル（０．２０７ｍｍｏｌ、０．２２９ｇ）の化合物６を２ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に４μＬのＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）を加えた後、窒素雰囲気下で６時間還流して化合物２と化合物６とを重合させた。重合終了後、スカベンジャー（ＳｉｌｉａＭｅｔｓ（登録商標） ｔｒｉａｍｉｎｅ）によって触媒を取り除き、減圧下で揮発成分を留去することで、化合物５を得た。化合物５は無色固体であった。また、上記の方法により得られた化合物５の数平均分子量Ｍｎは５．３×１０3であり、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは４．８であった。
・化合物６
０．５１８ｍｍｏｌ（０．４４ｇ）のtrisilanolheptaphenyl-IC-POSSと、４．７ｍｍｏｌ（０．６５ｍＬ）のトリエチルアミンとを８ｍＬのトルエンに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、２．２５ｍｍｏｌのクロロジメチルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでトルエンで抽出した。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をメタノールに溶解させた後、再結晶させることにより化合物６を得た。化合物６は無色固体であった。また、化合物６の収率は８７％であった。化合物６のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
０．５１８ｍｍｏｌ（０．４４ｇ）のtrisilanolheptaphenyl-IC-POSSと、４．７ｍｍｏｌ（０．６５ｍＬ）のトリエチルアミンとを８ｍＬのトルエンに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、２．２５ｍｍｏｌのクロロジメチルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでトルエンで抽出した。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をメタノールに溶解させた後、再結晶させることにより化合物６を得た。化合物６は無色固体であった。また、化合物６の収率は８７％であった。化合物６のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
1Ｈ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝７．６５（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，８．２Ｈｚ，６Ｈ），７．４１－７．３３（ｍ，１５Ｈ），７．２０（ｄｔ，Ｊ＝５３．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１２Ｈ），４．９９（ｓｅｐ，Ｊ＝５２．８Ｈｚ，３Ｈ），０．４１（ｄ，Ｊ＝５２．８Ｈｚ，１８Ｈ） ｐｐｍ。
13Ｃ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）：δ＝１３４．２－１３４．０，１３２．６，１３１．１，１３０．８，１３０．６，１３０．３，１３０．２，１２８．０，１２７．９，１２７．８，１２７．６ ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，８０ＭＨｚ）δ＝－２．８，－７７．２，－７７．５，－７８．２ ｐｐｍ。
・化合物７
０．２０８ｍｍｏｌ（０．２１７ｇ）の化合物８と、０．２０７ｍｍｏｌ（０．２５８ｇ）の化合物４を２ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に４μＬのＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）を加えた後、窒素雰囲気下で６時間還流して化合物２と化合物６とを重合させた。重合終了後、スカベンジャー（ＳｉｌｉａＭｅｔｓ ｔｒｉａｍｉｎｅ）によって触媒を取り除き、減圧下で揮発成分を留去することで、化合物７を得た。化合物７は無色固体であった。また、上記の方法により得られた化合物７の数平均分子量Ｍｎは３．４×１０3であり、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは７．９であった。化合物７のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
０．２０８ｍｍｏｌ（０．２１７ｇ）の化合物８と、０．２０７ｍｍｏｌ（０．２５８ｇ）の化合物４を２ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液に４μＬのＫａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒（０．１Ｍ ｉｎ ｘｙｌｅｎｅ）を加えた後、窒素雰囲気下で６時間還流して化合物２と化合物６とを重合させた。重合終了後、スカベンジャー（ＳｉｌｉａＭｅｔｓ ｔｒｉａｍｉｎｅ）によって触媒を取り除き、減圧下で揮発成分を留去することで、化合物７を得た。化合物７は無色固体であった。また、上記の方法により得られた化合物７の数平均分子量Ｍｎは３．４×１０3であり、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは７．９であった。化合物７のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
1Ｈ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝２．０７（ｂｒ，１４Ｈ），１．８２（ｂｒ，７Ｈ），０．９５（ｂｒ，４２Ｈ），０．８２（ｂｒ，１４Ｈ），０．５５（ｂｒ，１４Ｈ），０．４６（ｍ，１２Ｈ），０．１６－０．１１（ｍ） ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＨＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，８０ＭＨｚ）：δ＝１３．３９，９．７４，－６６．１９，－６７．１８－－６７．８５ ｐｐｍ。
・化合物８
０．６３２ｍｍｏｌ（０．５ｇ）のtrisilanolheptaisobutyl-IC-POSSと、６．３ｍｍｏｌ（０．８８ｍＬ）のトリエチルアミンとを７ｍＬのＴＨＦに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、２．８４ｍｍｏｌのクロロジメチルビニルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでヘキサンを加えて抽出操作を行った。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。ＧＰＣを用いて粗生成物を精製することにより、化合物８を得た。化合物８は無色固体であった。また、化合物８の収率は６９％であった。化合物８のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
０．６３２ｍｍｏｌ（０．５ｇ）のtrisilanolheptaisobutyl-IC-POSSと、６．３ｍｍｏｌ（０．８８ｍＬ）のトリエチルアミンとを７ｍＬのＴＨＦに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、２．８４ｍｍｏｌのクロロジメチルビニルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでヘキサンを加えて抽出操作を行った。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。ＧＰＣを用いて粗生成物を精製することにより、化合物８を得た。化合物８は無色固体であった。また、化合物８の収率は６９％であった。化合物８のＮＭＲ化学シフト（1Ｈ、13Ｃ、29Ｓｉ）は以下の通りである。
1Ｈ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）：δ＝６．１５（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，２０．４Ｈｚ，３Ｈ），５．９２（ｄｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１４．８Ｈｚ，３Ｈ），５．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，２０．４Ｈｚ，３Ｈ），１．９０－１．７７（ｍ，７Ｈ），０．９７－０．９４（ｍ，４２Ｈ），０．５８－０．５４（ｍ，１４Ｈ），０．２０（ｓ，１８Ｈ） ｐｐｍ。
13Ｃ－ＮＭＲ（ｉｎ ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）：δ＝１３９．２，１３１．８，２６．１，２５．９，２５．７，２５．０，２４．１，２４．０，２３．９，２３．８，２２．５，０．４ ｐｐｍ。
29Ｓｉ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，８０ＭＨｚ）δ＝－２．６，－６７．３，－６７．８，－６８．０ ｐｐｍ。
・化合物９
３．９９ｍｍｏｌ（３．１６ｇ）のtrisilanolheptaisobutyl-IC-POSSと、４０．２ｍｍｏｌ（５．６ｍＬ）のトリエチルアミンとを４０ｍＬのＴＨＦに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、１８．０ｍｍｏｌのクロロジメチルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでｎ－ヘキサンを加えて抽出操作を行った。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をメタノールで再結晶させることにより、中間体Ｂを得た。
３．９９ｍｍｏｌ（３．１６ｇ）のtrisilanolheptaisobutyl-IC-POSSと、４０．２ｍｍｏｌ（５．６ｍＬ）のトリエチルアミンとを４０ｍＬのＴＨＦに溶解させた。溶液の温度を０℃にしたのち、１８．０ｍｍｏｌのクロロジメチルシランを窒素雰囲気下で溶液に滴下した。この混合物を０℃で１時間攪拌し、室温でさらに３時間攪拌した。攪拌が完了した後、混合物に蒸留水を加え、次いでｎ－ヘキサンを加えて抽出操作を行った。その後、不溶部をろ過で除き、減圧下で溶媒を留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をメタノールで再結晶させることにより、中間体Ｂを得た。
次に、１．６０ｍｍｏｌ（２．００ｇ）の中間体Ｂと、７．２０ｍｍｏｌ（０．７０ｍＬ）の３－メチル－３－ブテン－１－オールとを９．４ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液を窒素雰囲気下において５０℃の温度で６時間攪拌することにより、中間体Ｃを得た。
次に、０．３２７ｍｍｏｌ（０．４００ｇ）の中間体Ｃと、０．８４８ｍｍｏｌ（０．１４ｍＬ）のメタクリル酸２－イソシアナトエチルとを１ｍＬのＴＨＦに溶解させた。この溶液を５０℃で２時間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去することにより化合物９を得た。
本例においては、まず、有機溶媒中に表１～表３に示す質量比で各成分を溶解または分散させてコーティング剤（試験剤１～１９）を調製した。また、試験剤の調製とは別に、基材として、ポリカーボネートからなる板厚５ｍｍの板材を準備した。なお、表１～表３に示した「ＰＳＱ」は、具体的には、不完全かご型以外の骨格を有するシルセスキオキサンである。
フローコーターを用いて基材の片面上に試験剤を塗布した後、基材を１００℃の温度で１０分間加熱してコーティング剤を乾燥させた。その後、試験剤に紫外光を照射することにより基材中のラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させた。なお、本例においては、紫外光の光源として、ピーク照度３００ｍＷ／ｃｍ2の高圧水銀ランプを使用した。
以上により、基材の片面上に試験剤の硬化物からなるコーティング膜を形成し、樹脂部材を得た。得られた樹脂部材のコーティング膜に水を滴下し、水の接触角を測定した。各樹脂部材における水の接触角を表１～表３の「初期接触角」欄に示す。
また、表１に示す試験剤１、２、４及び表２に示す試験剤１５を用いて作製した樹脂部材については、水の接触角を測定した後の樹脂部材を用いて劣化試験を行った。劣化試験においては、メタルハライドランプを使用したＵＶ耐候性試験を行い、樹脂部材のコーティング膜を劣化させた。劣化試験後のコーティング膜に水を滴下し、水の接触角を測定した。これらの樹脂部材における、劣化試験後の水の接触角を表１及び表２の「劣化試験後接触角」欄に示す。
表１及び表２に示すように、試験剤１～試験剤１５には、前記特定のシルセスキオキサン成分（Ａ）と、（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、ラジカル重合開始剤（Ｃ）とが含まれている。そのため、これらの試験剤を基材上で硬化させることにより、優れた撥水性を備えたコーティング膜を形成することができる。一方、表３に示すように、前記特定のシルセスキオキサン成分（Ａ）を含まない試験剤１６～試験剤１９の撥水性は、試験剤１～試験剤１５に比べて劣っていた。
コーティング膜中のシルセスキオキサン成分（Ａ）の配向状態をより詳しく調べるため、試験剤１及び試験剤１６について、以下の方法により、コーティング膜の厚み方向における不完全かご型シルセスキオキサン骨格及びフルオロアルキル基の分布状態の評価を行った。まず、図１に示すように、各テストピース１のコーティング膜２を、基材３とともに、コーティング膜２の厚み方向に対して傾斜した方向に切削した。これにより、コーティング膜２の最表面２１に対して傾斜した傾斜面２２を露出させた。
図１に示すように、傾斜面２２には、コーティング膜２における、最表面からの深さの異なる種々の部分が露出している。それ故、傾斜面２２上の複数の位置において、全反射測定法による赤外吸収スペクトルを取得し、傾斜面２２上の測定位置を最表面２１からの深さに換算することによって、厚み方向における不完全かご型シルセスキオキサン骨格及びフルオロアルキル基の分布の状態を評価することができる。
本例の試験剤の組成では、赤外吸収スペクトルにおける波数１０６５ｃｍ-1付近に不完全かご型シルセスキオキサン骨格のシロキサン結合に由来するピークが現れる。従って、赤外吸収スペクトルにおける波数１０６５ｃｍ-1の吸光度が大きいほど、より多くの不完全かご型シルセスキオキサン骨格が存在していると判断することができる。同様に、赤外吸収スペクトルにおける波数１２１０ｃｍ-1付近にフルオロアルキル基のＣ－Ｆ結合に由来するピークが現れる。従って、赤外吸収スペクトルにおける波数１２１０ｃｍ-1の吸光度が大きいほど、より多くのフルオロアルキル基が存在していると判断することができる。
図２に、赤外吸収スペクトルに基づいて作成した不完全かご型シルセスキオキサン骨格の厚み方向の分布を示す。図２の縦軸はシロキサン結合に由来する吸収ピークの吸光度であり、横軸は、傾斜面２２上の測定位置から換算した最表面２１からの深さ（μｍ）である。
また、図３に、赤外吸収スペクトルに基づいて作成したフルオロアルキル基の厚み方向の分布を示す。図３の縦軸はＣ－Ｆ結合に由来する吸収ピークの吸光度であり、横軸は、傾斜面２２上の測定位置から換算した最表面２１からの深さ（μｍ）である。
図２及び図３に示したように、試験剤１は、試験剤１６に比べて表面近傍におけるシロキサン結合及びＣ－Ｆ結合に由来するピークの吸光度が高かった。これらの結果から、試験剤１の硬化物からなるコーティング膜の表面には、フルオロアルキル基が露出していると推定することができる。また、コーティング膜の表面近傍には、フルオロアルキル基に伴って浮上した不完全かご型シルセスキオキサン骨格が多く存在していると推定することができる。
また、試験剤１から作製したコーティング膜の内部は、表面に比べてシロキサン結合及びＣ－Ｆ結合に由来するピークの吸光度が低かった。この結果から、試験剤１の硬化物からなるコーティング膜の内部には、表面に比べて（メタ）アクリレート成分（Ｂ）が重合してなる有機成分が豊富に存在していると推定することができる。
これらの配向状態は、試験剤１と同様にフルオロアルキル基を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）を含む試験剤２～試験剤１４についても実現されていると考えられる。
従って、前記特定の組成を有するコーティング剤によれば、基材との密着性に優れ、かつ、傷に対する耐久性の高いコーティング膜を簡素な作業により形成することができる。
１ 樹脂部材
２ コーティング膜
３ 基材
２ コーティング膜
３ 基材
Claims (8)
- 樹脂からなる基材と、
コーティング剤の硬化物からなり、前記基材の表面上に配置されたコーティング膜と、を有する樹脂部材であって、
前記基材は、ポリカーボネート樹脂から構成されており、
前記コーティング剤は、不完全かご型シルセスキオキサン骨格を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を備えた（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下であり、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、樹脂部材。 - 前記コーティング剤は、前記シルセスキオキサン成分（Ａ）として、不完全かご型シルセスキオキサン骨格と、前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格に結合したラジカル重合性官能基とを備えた重合性シルセスキオキサン（Ａ－１）を含有している、請求項１に記載の樹脂部材。
- 前記コーティング剤は、前記シルセスキオキサン成分（Ａ）として、複数の前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格が結合してなるシルセスキオキサンポリマー（Ａ－２）を含有している、請求項１または２に記載の樹脂部材。
- 前記コーティング剤は、前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）として、イソシアヌル環骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ－１）と、イソシアヌル環骨格を有し、ウレタン結合を有しないトリ（メタ）アクリレート（Ｂ－２）と、を含有している、請求項１～３のいずれか１項に記載の樹脂部材。
- 請求項１～４のいずれか１項に記載の樹脂部材の製造方法であって、
前記基材を準備する準備工程と、
前記基材の表面上に、前記コーティング剤を塗布する塗布工程と、
前記コーティング剤中のラジカル重合開始剤（Ｃ）からラジカルを発生させ、前記基材の表面上に前記コーティング剤の硬化物からなるコーティング膜を形成する硬化工程と、を有する、樹脂部材の製造方法。 - 不完全かご型シルセスキオキサン骨格を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を備えた（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下であり、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）として、複数の前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格が結合してなるシルセスキオキサンポリマー（Ａ－２）を含有しており、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、コーティング剤。 - 不完全かご型シルセスキオキサン骨格を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を備えた（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下であり、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、コーティング剤。 - 不完全かご型シルセスキオキサン骨格を備えたシルセスキオキサン成分（Ａ）と、
（メタ）アクリロイル基を備えた（メタ）アクリレート成分（Ｂ）と、
ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、を含み、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）と前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）との合計１００質量部に対する前記シルセスキオキサン成分（Ａ）の含有量が０．５質量部以上３０質量部以下であり、
前記（メタ）アクリレート成分（Ｂ）として、イソシアヌル環骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ－１）と、イソシアヌル環骨格を有し、ウレタン結合を有しないトリ（メタ）アクリレート（Ｂ－２）と、を含有しており、
前記シルセスキオキサン成分（Ａ）における前記不完全かご型シルセスキオキサン骨格にはフルオロアルキル基が結合している、コーティング剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019189928A JP7390682B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019189928A JP7390682B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021063198A JP2021063198A (ja) | 2021-04-22 |
| JP7390682B2 true JP7390682B2 (ja) | 2023-12-04 |
Family
ID=75487591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019189928A Active JP7390682B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7390682B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114479759B (zh) * | 2021-12-28 | 2023-01-31 | 深圳市首骋新材料科技有限公司 | 一种半导体元件柔性封装剂及其制备方法与薄膜封装方法 |
| JP2024039892A (ja) * | 2022-09-12 | 2024-03-25 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性コーティング組成物および被覆物品 |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006047504A (ja) | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
| JP2010168452A (ja) | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ポリエン／ポリチオール系感光性樹脂組成物 |
| JP2011110552A (ja) | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | かご型シルセスキオキサン（ｐｏｓｓ）及び親水性コモノマーから作成されたポリマー膜 |
| WO2013008825A1 (ja) | 2011-07-11 | 2013-01-17 | 株式会社トクヤマ | フォトクロミック硬化性組成物 |
| JP2013053281A (ja) | 2011-09-06 | 2013-03-21 | Toyota Industries Corp | 硬化型コーティング剤組成物 |
| JP2013231187A (ja) | 2007-03-07 | 2013-11-14 | Ube Industries Ltd | 光硬化性組成物およびこれを用いた硬化物 |
| JP2014043101A (ja) | 2012-08-03 | 2014-03-13 | Mazda Motor Corp | 透明積層体およびその製造方法 |
| JP2014148114A (ja) | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 樹脂積層体の製造方法 |
| JP2014529631A (ja) | 2011-08-03 | 2014-11-13 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | 光硬化型有機−無機ハイブリッド樹脂組成物 |
| JP2016112702A (ja) | 2014-12-11 | 2016-06-23 | 株式会社豊田自動織機 | コート層を有する樹脂材およびその製造方法 |
| JP2016137693A (ja) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | マツダ株式会社 | 加飾積層体 |
| JP2017529452A (ja) | 2014-09-24 | 2017-10-05 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ， インコーポレイテッド | Ｆ−ｐｏｓｓコーティングまたは添加剤およびその製造方法 |
| JP2017534693A (ja) | 2014-07-29 | 2017-11-24 | オーエフエス ファイテル，エルエルシー | 光ファイバブラッググレーティングの製造のためのｕｖ硬化性シルセスキオキサン含有ライトスルー光ファイバコーティング及びそれから製造されたファイバ |
-
2019
- 2019-10-17 JP JP2019189928A patent/JP7390682B2/ja active Active
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006047504A (ja) | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
| JP2013231187A (ja) | 2007-03-07 | 2013-11-14 | Ube Industries Ltd | 光硬化性組成物およびこれを用いた硬化物 |
| JP2010168452A (ja) | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ポリエン／ポリチオール系感光性樹脂組成物 |
| JP2011110552A (ja) | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | かご型シルセスキオキサン（ｐｏｓｓ）及び親水性コモノマーから作成されたポリマー膜 |
| WO2013008825A1 (ja) | 2011-07-11 | 2013-01-17 | 株式会社トクヤマ | フォトクロミック硬化性組成物 |
| JP2014529631A (ja) | 2011-08-03 | 2014-11-13 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | 光硬化型有機−無機ハイブリッド樹脂組成物 |
| JP2013053281A (ja) | 2011-09-06 | 2013-03-21 | Toyota Industries Corp | 硬化型コーティング剤組成物 |
| JP2014043101A (ja) | 2012-08-03 | 2014-03-13 | Mazda Motor Corp | 透明積層体およびその製造方法 |
| JP2014148114A (ja) | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 樹脂積層体の製造方法 |
| JP2017534693A (ja) | 2014-07-29 | 2017-11-24 | オーエフエス ファイテル，エルエルシー | 光ファイバブラッググレーティングの製造のためのｕｖ硬化性シルセスキオキサン含有ライトスルー光ファイバコーティング及びそれから製造されたファイバ |
| JP2017529452A (ja) | 2014-09-24 | 2017-10-05 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ， インコーポレイテッド | Ｆ−ｐｏｓｓコーティングまたは添加剤およびその製造方法 |
| JP2016112702A (ja) | 2014-12-11 | 2016-06-23 | 株式会社豊田自動織機 | コート層を有する樹脂材およびその製造方法 |
| JP2016137693A (ja) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | マツダ株式会社 | 加飾積層体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021063198A (ja) | 2021-04-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5579072B2 (ja) | 重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物 | |
| KR102510268B1 (ko) | 함불소 아크릴 화합물 및 그 제조 방법, 경화성 조성물, 및 물품 | |
| JP5418321B2 (ja) | 車両用部材及びその製造方法 | |
| US8889759B2 (en) | Active energy ray-curable composition, and coated article | |
| JP6217208B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物 | |
| KR20150037856A (ko) | 함규소 고분지 폴리머 및 이를 포함하는 경화성 조성물 | |
| JP7390682B2 (ja) | コーティング剤、樹脂部材及びその製造方法 | |
| WO2013035265A1 (ja) | 硬化型コーティング剤組成物 | |
| JPWO2005092991A1 (ja) | 活性エネルギ線硬化性被覆用組成物及び成形品 | |
| WO2011111428A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、並びに硬化膜付きポリカーボネート樹脂成形体及びその製造方法 | |
| JPWO2010067685A1 (ja) | 重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物 | |
| JP6911820B2 (ja) | コーティング剤及び表面被覆部材 | |
| JP5392326B2 (ja) | 車両用部材およびその製造方法 | |
| JP2013018848A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、及び塗装物品 | |
| JP5656877B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、及び塗装物品 | |
| KR20150135243A (ko) | 활성 에너지선 경화형 도료 조성물 | |
| JP2012183519A (ja) | 複層塗膜形成方法及び塗装物品 | |
| JP5643534B2 (ja) | 複層塗膜形成方法及び塗装物品 | |
| JP5284869B2 (ja) | 重合性官能基及び紫外線吸収性基を有するシルセスキオキサン化合物 | |
| JP5585206B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性化合物および該化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物 | |
| JP5270435B2 (ja) | 重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物 | |
| CN116368000B (zh) | 涂覆剂、树脂构件以及其制造方法 | |
| CN116323012B (zh) | 树脂玻璃用涂覆剂和树脂玻璃 | |
| CN116261491B (zh) | 树脂玻璃用涂覆剂和树脂玻璃 | |
| CN114423811B (zh) | 包括uv稳定剂的固化性组合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220301 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221114 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221213 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230728 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231024 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231113 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7390682 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |