JP7390272B2 - 焼成用セッター - Google Patents
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Description
0.8≦A1/A2≦1.1・・・(1)
0.8≦A1/A2≦1.1・・・(1)
上述した焼成用セッター(試料1~11)について、厚み方向表層及び中央のかさ密度、得られた焼成用セッターの外観評価(成形性)、焼成用セッターに含まれるSiC粒子の粒径(個数平均粒子径)、焼成用セッターに含まれるSiO2と量(質量%)とSiC量(質量%)の測定及び3点曲げ強度の測定を行った。結果を図4に示す。なお、3点曲げ強度については、5個の測定結果の平均値が60MPa以上の場合に「A」、50MPa以上60MPa未満の場合に「B」、50MPa未満の場合に「C」として評価した。3点曲げ強度は、「A」及び「B」が合格レベルである。また、外観評価は、得られた焼成用セッターを目視し、気泡の残留が確認されなかった場合「A」、気泡の残留が確認された場合「B」とした。
Claims (12)
- SiC粒子と、前記SiC粒子を結合するSiO2と、を含む酸化物結合炭化珪素質の焼成用セッターであり、
走査型顕微鏡で得られた焼成用セッターの断面画像からSiC粒子を選択して粒径を測定し、測定した粒径の平均値を算出して得られる個数平均粒子径が200μm以下であり、
前記焼成用セッターの厚みが7mm以下であり、
焼成用セッターを厚み方向に等間隔に10分割したときの表裏面を表層及び裏層とし、表層と裏層の間に存在する部分を中央としたときに、厚み方向中央の密度A1と厚み方向表層の密度A2が下記式(1)を満足している焼成用セッター。
0.8≦A1/A2≦1.1・・・(1) - 密度A1及び密度A2が、2.65g/cm3以下である請求項1に記載の焼成用セッター。
- 厚みが3mm以下である請求項1または2に記載の焼成用セッター。
- 3点曲げ強度が50MPa以上である請求項1から3のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
- 骨材であるSiC粒子の周りをSiO 2 が被覆している請求項1から4のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
- SiO2がSiO2とSiCとの合計質量に対して5質量%以上25質量%以下含まれている請求項1から5のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
- SiC粒子と、前記SiC粒子を結合するSiO 2 と、を含む酸化物結合炭化珪素質の焼成用セッターであり、
前記焼成用セッターの厚みが7mm以下であり、
焼成用セッターを厚み方向に等間隔に10分割したときの表裏面を表層及び裏層とし、表層と裏層の間に存在する部分を中央としたときに、厚み方向中央の密度A1と厚み方向表層の密度A2が下記式(1)を満足している焼成用セッター。
0.8≦A1/A2≦1.1・・・(1) - 密度A1及び密度A2が、2.65g/cm3以下である請求項7に記載の焼成用セッター。
- 厚みが3mm以下である請求項7または8に記載の焼成用セッター。
- 3点曲げ強度が50MPa以上である請求項7から9のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
- 骨材であるSiC粒子の周りをSiO 2 が被覆している請求項7から10のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
- SiO 2 がSiO 2 とSiCとの合計質量に対して5質量%以上25質量%以下含まれている請求項7から11のいずれか一項に記載の焼成用セッター。
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