JP7389619B2 - マスクホルダ、固定装置、イオン照射方法 - Google Patents
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Claims (9)
- メタルマスクを介してウェハにイオン照射をするために前記メタルマスクを保持するマスクホルダであって、
前記メタルマスクのマスクパターンを覆うように前記メタルマスクに対してウェハ側に配置され、樹脂材料で形成されるウェハ保護膜と、
前記メタルマスクおよび前記ウェハ保護膜を保持する保持構造と、を備え、
前記保持構造は、前記イオン照射の際に前記メタルマスクから外部への電流経路を形成することを特徴とするマスクホルダ。 - 前記ウェハ保護膜は、前記メタルマスクのアライメント開口も覆うように前記メタルマスクに対してウェハ側に配置され、前記アライメント開口および前記ウェハ保護膜を通じて前記ウェハのアライメントマークを観察可能とするように透明または半透明であることを特徴とする請求項1に記載のマスクホルダ。
- 前記保持構造は、前記マスクパターンが前記ウェハ保護膜から隙間をあけて配置されるように前記メタルマスクおよび前記ウェハ保護膜を保持することを特徴とする請求項1または2に記載のマスクホルダ。
- 前記マスクホルダは、前記メタルマスクを備え、前記マスクパターンが前記ウェハ保護膜上に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクホルダ。
- 前記マスクパターンを覆うように前記メタルマスクに対して前記ウェハ保護膜とは反対側に配置されるもう1つの保護膜をさらに備えることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマスクホルダ。
- 前記樹脂材料は、ポリイミド、ポリアミド、またはポリエーテルエーテルケトンを含むことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクホルダ。
- メタルマスクを介してウェハにイオン照射をするために前記メタルマスクを前記ウェハに対して固定する固定装置であって、
請求項1から6のいずれかに記載のマスクホルダと、
前記ウェハを保持するとともに、前記マスクホルダと結合されるウェハホルダと、を備え、
前記ウェハを収容し外界から隔てられるウェハ収容室が前記マスクホルダと前記ウェハホルダとの間に形成されることを特徴とする固定装置。 - メタルマスクとウェハの間にウェハ保護膜を配置した状態で前記メタルマスクと前記ウェハとを位置合わせする工程と、
前記メタルマスクおよび前記ウェハ保護膜を介して前記ウェハにイオンを照射する工程と、を備え、
前記ウェハ保護膜は、樹脂材料で形成され、前記メタルマスクに対してウェハ側で前記メタルマスクのマスクパターンを覆っており、
イオン照射の際に前記メタルマスクから外部への電流経路が形成されることを特徴とするイオン照射方法。 - 前記ウェハ保護膜は、透明または半透明であり、前記メタルマスクに対してウェハ側で前記メタルマスクのアライメント開口も覆い、
前記位置合わせする工程は、前記アライメント開口および前記ウェハ保護膜を通じて前記ウェハのアライメントマークを観察することを含むことを特徴とする請求項8に記載のイオン照射方法。
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