JP7371613B2 - Encapsulated body for electronic components - Google Patents
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Description
本発明は、インサート成形用樹脂組成物、及び電子部品の封止体に関する。 The present invention relates to a resin composition for insert molding and a sealed body for electronic components.
近年、パソコン、携帯電話等の電子機器には、半導体素子、コンデンサー、コイル等の電子部品が基板に取り付けられた電子部品搭載基板が用いられている。このような電子部品は、水、湿気、埃等の外部環境因子から悪影響を受けることがあるため、外部環境因子から保護するために電子部品は樹脂により封止されていた。更に、電磁波の悪影響から電子部品を保護するために、電磁波シールド性を封止材に付与する場合があった。 2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices such as personal computers and mobile phones use electronic component mounting boards in which electronic components such as semiconductor elements, capacitors, and coils are attached to the substrate. Since such electronic components may be adversely affected by external environmental factors such as water, humidity, and dust, electronic components have been sealed with resin to protect them from external environmental factors. Furthermore, in order to protect electronic components from the adverse effects of electromagnetic waves, electromagnetic shielding properties are sometimes imparted to the sealing material.
例えば、特許文献1には、基板と、基板の一方の面側に搭載された電子部品とを備える電子部品搭載基板を封止するのに用いられ、絶縁層と、絶縁層の一方の面側に積層された電磁波シールド層とを備える封止用フィルムが開示されている。
For example,
特許文献1の封止用フィルムにより封止された電子部品搭載基板は、電磁波シールド層が封止部の表面側に形成されており、外部環境因子との接触によって電磁波シールド層が劣化するおそれがあった。本発明は上記の様な問題に着目してなされたものであって、その目的は、電磁波シールド層の外部環境因子に対する耐久性に優れる電子部品の封止体、及びその電磁波シールド層を得るための樹脂組成物を提供することにある。
In the electronic component mounting board sealed with the sealing film of
上記課題を解決することのできた本発明に係るインサート成形用樹脂組成物、及び電子部品の封止体は、以下の構成からなる。
[1]樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物。
[2]電子部品を有し、上記電子部品は、上記[1]に記載のインサート成形用樹脂組成物により上記電子部品の表面上に直接、形成された電磁波シールド層を含む樹脂成形物により封止されており、上記電子部品の表面に垂直な方向における上記樹脂成形物の断面において、上記電子部品の表面に近い方の領域における200μm四方当りの上記電磁波シールド性フィラーの個数A(個/40,000μm2)は、上記樹脂成形物の表面に近
い方の領域における200μm四方当りの上記電磁波シールド性フィラーの個数B(個/40,000μm2)よりも多いものである電子部品の封止体。
[3]上記樹脂は、熱可塑性樹脂、及び熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種である上記[2]に記載の電子部品の封止体。
[4]上記電磁波シールド性フィラーは、導電性フィラーである上記[2]または[3]に記載の電子部品の封止体。
[5]上記電磁波シールド性フィラーは、アスペクト比が1.5以上である上記[2]~[4]のいずれかに記載の電子部品の封止体。
[6]上記熱可塑性樹脂は、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、及びポリウレタン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種である上記[3]に記載の電子部品の封止体。
[7]上記熱硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種である上記[3]に記載の電子部品の封止体。
The resin composition for insert molding and the sealed body for electronic components according to the present invention, which can solve the above problems, have the following configuration.
[1] A resin composition for insert molding containing a resin and an electromagnetic shielding filler.
[2] It has an electronic component, and the electronic component is sealed with a resin molding containing an electromagnetic shielding layer formed directly on the surface of the electronic component using the resin composition for insert molding according to [1] above. In the cross section of the resin molded article in the direction perpendicular to the surface of the electronic component, the number A of the electromagnetic shielding fillers per 200 μm square in the area closer to the surface of the electronic component (number/40 ,000 μm 2 ) is larger than the number B (numbers/40,000 μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler per 200 μm square in the region near the surface of the resin molded article. .
[3] The electronic component sealed body according to [2] above, wherein the resin is at least one selected from the group consisting of thermoplastic resins and thermosetting resins.
[4] The electronic component sealed body according to [2] or [3] above, wherein the electromagnetic shielding filler is a conductive filler.
[5] The electronic component encapsulation according to any one of [2] to [4] above, wherein the electromagnetic shielding filler has an aspect ratio of 1.5 or more.
[6] The electronic component according to [3] above, wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of polyester resin, polyamide resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and polyurethane resin. sealed body.
[7] The thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of epoxy resins, phenolic resins, unsaturated polyester resins, diallyl phthalate resins, urethane (meth)acrylate resins, and polyimide resins. The sealed body of the electronic component according to the above [3], which is a seed.
本発明によれば上記構成により、電磁波シールド層の外部環境因子に対する耐久性に優れる電子部品の封止体、及びその電磁波シールド層を得るための樹脂組成物を提供することができる。 According to the present invention, with the above configuration, it is possible to provide a sealed body for an electronic component whose electromagnetic shielding layer has excellent durability against external environmental factors, and a resin composition for obtaining the electromagnetic shielding layer.
以下では、下記実施の形態に基づき本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施の形態によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、各図面において、便宜上、部材符号等を省略する場合もあるが、かかる場合、明細書や他の図面を参照するものとする。また、図面における種々部材の寸法は、本発明の特徴の理解に資することを優先しているため、実際の寸法とは異なる場合がある。 In the following, the present invention will be explained in more detail based on the following embodiments, but the present invention is not limited by the following embodiments, and may be modified as appropriate within the scope that fits the spirit of the above and below. Of course, it is also possible to implement in addition, and all of them are included in the technical scope of the present invention. In addition, in each drawing, member numbers etc. may be omitted for convenience, but in such a case, the specification and other drawings shall be referred to. Further, the dimensions of various members in the drawings are given priority to help understanding the features of the present invention, and therefore may differ from actual dimensions.
本発明の電子部品の封止体は、電子部品が、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物により電子部品の表面上に直接、形成された電磁波シールド層を含む樹脂成形物により封止されており、電子部品の表面に垂直な方向における樹脂成形物の断面において、電子部品の表面に近い方の領域(以下では内部領域と呼ぶ場合がある)における200μm四方当りの電磁波シールド性フィラーの個数A(個/40,00
0μm2)が、樹脂成形物の表面に近い方の領域(以下では外部領域と呼ぶ場合がある)における200μm四方当りの電磁波シールド性フィラーの個数B(個/40,000μ
m2)よりも多いものである。本発明者が鋭意検討を行った結果、電磁波シールド層において外部環境因子の影響により劣化し易いのは外部領域における電磁波シールド性フィラーであることが分かった。そこで、樹脂成形物の内部領域よりも外部領域の電磁波シールド性フィラーの個数密度を小さくすることにより、電磁波シールド層の外部環境因子による劣化を防止し易くできることを見出した。
The electronic component encapsulation of the present invention is a resin molded product in which the electronic component includes an electromagnetic shielding layer formed directly on the surface of the electronic component using an insert molding resin composition containing a resin and an electromagnetic shielding filler. In the cross section of the resin molded product in the direction perpendicular to the surface of the electronic component, the area close to the surface of the electronic component (hereinafter sometimes referred to as the internal area) has an electromagnetic shield of 200 μm square. Number of sexual fillers A (pieces/40,00
0 μm 2 ) is the number B of electromagnetic shielding fillers per 200 μm square in the region closer to the surface of the resin molded product (hereinafter sometimes referred to as the external region) (pieces/40,000 μm).
m 2 ). As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that in the electromagnetic shielding layer, it is the electromagnetic shielding filler in the external region that is likely to deteriorate due to the influence of external environmental factors. Therefore, it has been found that deterioration of the electromagnetic shielding layer due to external environmental factors can be easily prevented by making the number density of the electromagnetic shielding filler smaller in the outer region than in the inner region of the resin molding.
更に本発明の電子部品の封止体は、インサート成形用樹脂組成物を用いて電子部品の表面上に直接、電磁波シールド層が形成されている。即ち、上記特許文献1に開示されているような電子部品と電磁波シールド層の間の絶縁層を省略することにより、封止部の厚さや重さを低減し易くすることができる。その結果、例えば封止部の軽量化やコンパクト化の要望が多い電子部品の封止において、封止部の厚さや重さが増大し過ぎない程度に電磁波シールド層の保護層等を外側に設けることができる。
Furthermore, in the electronic component encapsulation of the present invention, an electromagnetic shielding layer is formed directly on the surface of the electronic component using a resin composition for insert molding. That is, by omitting the insulating layer between the electronic component and the electromagnetic shield layer as disclosed in
以下では図1~4を参照して、本発明の第1~4の実施形態に係る電子部品の封止体について説明する。なお、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。 Below, with reference to FIGS. 1 to 4, sealed bodies for electronic components according to first to fourth embodiments of the present invention will be described. Note that the same reference numerals in each figure indicate the same elements, and the description thereof will be omitted as appropriate.
図1は、第1実施形態に係る電子部品の封止体の、電子部品の表面に垂直な方向における断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view of a sealed body for an electronic component according to a first embodiment in a direction perpendicular to the surface of the electronic component.
図1に示す通り、電子部品の封止体10は、電子部品1を有するものである。電子部品1は、基板3上に取り付けられており、電子部品1の表面上に直接、電磁波シールド層2aが形成されている。更に、電磁波シールド層2aの表面には、保護層2bが形成されている。このように電子部品1は、電磁波シールド層2aと保護層2bとを含む樹脂成形物2により封止されている。なお電子部品1は後記する第4実施形態に係る電子部品の封止体のように基板3上に取り付けられていなくともよい。
As shown in FIG. 1, a sealed
電子部品1としては、トランジスタ等の半導体素子、コンデンサー、コイル、抵抗器等が挙げられる。電子部品1の導電部分や半導体部分等が樹脂や金属によりパッケージされている場合は、電子部品1の表面はパッケージの表面に相当するものとする。
Examples of the
電磁波シールド層2aは、樹脂成形物2中において、上記電子部品1の表面に近い方の領域(内部領域)に位置しており、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物により形成されている。上記内部領域は、電子部品1の表面と、樹脂成形物2の表面との中間に位置する仮想面よりも電子部品1の表面側に位置する領域であるとも言える。
The
保護層2bは、樹脂成形物2中において、上記樹脂成形物2の表面に近い方の領域(外部領域)に位置しており、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物により形成されている。上記外部領域は、電子部品1の表面と、樹脂成形物2の表面との中間に位置する仮想面よりも樹脂成形物2の表面側に位置する領域であるとも言える。また、保護層2bの電磁波シールド性フィラーの含量は、電磁波シールド層2aの電磁波シールド性フィラーの含量よりも少なくなっている。
The
即ち、内部領域における200μm四方当りの電磁波シールド性フィラーの個数A(個/40,000μm2)は、外部領域における200μm四方当りの電磁波シールド性フ
ィラーの個数B(個/40,000μm2)よりも多くなっている。これにより、電磁波
シールド層2aで電磁波をシールドしつつ、保護層2bにより電磁波シールド層2aを外部環境因子から保護することができる。更に、保護層2bにも電磁波シールド性フィラーを含有させることにより、樹脂成形物2の電磁波シールド性を向上させることもできる。具体的には、個数A(個/40,000μm2)は、個数B(個/40,000μm2)の1.01倍以上であることが好ましく、1.03倍以上であることがより好ましく、1.05倍以上であることが更に好ましく、1.1倍以上であることが特に好ましい。一方、個数A(個/40,000μm2)は、個数B(個/40,000μm2)の10倍以下であることが好ましい。これにより、例えば熱膨張時の歪み等が低減され易くなる。そのため個数A(個/40,000μm2)は、個数B(個/40,000μm2)の5倍以下であることがより好ましく、2倍以下であることが更に好ましい。なお保護層2bには、電磁波シールド性フィラーを含有させなくともよい。電磁波シールド性フィラーの個数は、電子顕微鏡等を用いて公知の方法により測定することができる。更に電磁波シールド性フィラーの個数をカウントするに当たっては、長径が0.5μm未満のフィラーは電磁波シールド性が微弱なものであるためカウントしないものとする。
In other words, the number A (pieces/40,000 μm 2 ) of electromagnetic shielding fillers per 200 μm square in the internal region is larger than the number B (pieces/40,000 μm 2 ) of electromagnetic shielding fillers per 200 μm square in the external region. The number is increasing. Thereby, the electromagnetic
内部領域における200μm四方(40,000μm2)当りの電磁波シールド性フィ
ラーの総面積A(μm2)は、外部領域における200μm四方(40,000μm2)
当りの電磁波シールド性フィラーの総面積B(μm2)よりも大きいものであることが好ましい。樹脂成形物の内部領域よりも外部領域の電磁波シールド性フィラーの総面積を小さくすることにより、電磁波シールド層の外部環境因子による劣化を防止し易くできる。
The total area A (μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler per 200 μm square (40,000 μm 2 ) in the internal region is equal to the total area A (μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler per 200 μm square (40,000 μm 2 ) in the external region.
It is preferable that the area is larger than the total area B (μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler. By making the total area of the electromagnetic shielding filler in the external region smaller than that in the internal region of the resin molding, deterioration of the electromagnetic shielding layer due to external environmental factors can be easily prevented.
総面積A(μm2)は、総面積B(μm2)の1.01倍以上であることが好ましく、1.03倍以上であることがより好ましく、1.05倍以上であることが更に好ましく、1.1倍以上であることが特に好ましい。一方、総面積A(μm2)は、総面積B(μm2)の10倍以下であることが好ましい。これにより、例えば熱膨張時の歪み等が低減され易くなる。そのため総面積A(μm2)は、総面積B(μm2)の5倍以下であることがより好ましく、2倍以下であることが更に好ましい。 The total area A (μm 2 ) is preferably 1.01 times or more, more preferably 1.03 times or more, and still more preferably 1.05 times or more the total area B (μm 2 ). Preferably, it is particularly preferably 1.1 times or more. On the other hand, the total area A (μm 2 ) is preferably 10 times or less the total area B (μm 2 ). This makes it easier to reduce distortions caused by thermal expansion, for example. Therefore, the total area A (μm 2 ) is more preferably 5 times or less, and even more preferably 2 times or less, the total area B (μm 2 ).
上記内部領域における200μm四方の領域は、電子部品1の表面から1.0mm以内の領域中から選択されることが好ましく、500μm以内の領域中から選択されることがより好ましい。一方、上記外部領域における200μm四方の領域は、樹脂成形物2の表面から1.0mm以内の領域中から選択されることが好ましく、500μm以内の領域中から選択されることがより好ましい。
The 200 μm square region in the internal region is preferably selected from within 1.0 mm from the surface of
上記内部領域における200μm四方の領域は、電子部品1の表面に垂直な方向における樹脂成形物2の断面の高さに対して、電子部品1の表面から10%以内の領域中から選択されることが好ましく、5%以内の領域中から選択されることがより好ましい。一方、上記外部領域における200μm四方の領域は、樹脂成形物2の表面から10%以内の領域中から選択されることが好ましく、5%以内の領域中から選択されることが好ましい。
The 200 μm square area in the internal area is selected from within 10% of the surface of the
電磁波シールド層2aに含まれる電磁波シールド性フィラーは、電磁波を反射、吸収等することにより電磁波シールド性を発揮することができる素材である。
The electromagnetic shielding filler included in the
電磁波シールド性フィラーは、導電性フィラーであることが好ましい。導電性フィラーが導電性を有することにより、電磁波の反射損失を大きくしたり、電磁波の吸収損失を大きくしたりし易くすることができる。 The electromagnetic shielding filler is preferably a conductive filler. When the conductive filler has conductivity, it is possible to easily increase reflection loss of electromagnetic waves and increase absorption loss of electromagnetic waves.
電磁波シールド性フィラーは、体積抵抗率が1Ω・cm以下であることが好ましい。これにより導電し易くなり、体積抵抗率が低い程、電磁波シールド性が発揮され易くなる。そのため、体積抵抗率は10-3Ω・cm以下であることがより好ましく、10-5Ω・cm以下であることがより好ましく、10-6Ω・cm以下であることが更により好ましく、10-7Ω・cm以下であることが特に好ましい。 The electromagnetic shielding filler preferably has a volume resistivity of 1 Ω·cm or less. This makes it easier to conduct electricity, and the lower the volume resistivity, the easier it is to exhibit electromagnetic shielding properties. Therefore, the volume resistivity is more preferably at most 10 -3 Ω·cm, more preferably at most 10 -5 Ω·cm, even more preferably at most 10 -6 Ω·cm, and even more preferably at most 10 -6 Ω·cm. -7 Ω·cm or less is particularly preferable.
電磁波シールド性フィラーとして、金属系フィラー、金属化合物系フィラー、カーボン系フィラーが挙げられる。また、電磁波シールド性フィラーとして、導電性を有する磁性体系フィラー、ガラスビーズや繊維等を金属等で被覆した金属メッキ体を用いてもよい。更に、金属系フィラー、金属化合物系フィラー、カーボン系フィラー、磁性体系フィラー、ガラスビーズや繊維等をシリカ等で被覆したものを用いてもよい。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the electromagnetic shielding filler include metal fillers, metal compound fillers, and carbon fillers. Further, as the electromagnetic wave shielding filler, a magnetic filler having conductivity, a metal plated body in which glass beads, fibers, etc. are coated with metal or the like may be used. Further, metal fillers, metal compound fillers, carbon fillers, magnetic fillers, glass beads, fibers, etc. coated with silica or the like may be used. These may be used alone or in combination of two or more.
金属系フィラーとして、アルミニウム、亜鉛、鉄、銀、銅、ニッケル、ステンレス、パラジウム等が挙げられる。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of metal fillers include aluminum, zinc, iron, silver, copper, nickel, stainless steel, palladium, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
金属化合物系フィラーとして、酸化亜鉛系、硫酸バリウム系、ホウ酸アルミ系、酸化チタン系、チタンブラック系、酸化錫系、酸化インジウム系、チタン酸カリウム系、チタン酸ジルコン酸鉛系等が挙げられる。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of metal compound fillers include zinc oxide, barium sulfate, aluminum borate, titanium oxide, titanium black, tin oxide, indium oxide, potassium titanate, and lead zirconate titanate. . These may be used alone or in combination of two or more.
カーボン系フィラーとして、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ファーネスブラック、カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル等が挙げられる。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of carbon-based fillers include acetylene black, Ketjen black, furnace black, carbon black, carbon fiber, carbon nanotubes, carbon microcoils, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
磁性体系フィラーは、磁性を帯びる事が可能なものであり、電磁波を吸収して低減することができる。磁性フィラーとして、具体的には、Mnフェライト、Niフェライト、Znフェライト、Baフェライト、Srフェライト、Mn-Znフェライト、Ni-Znフェライト等のフェライト系フィラー;鉄-アルミニウム-ケイ素合金等のケイ素原子含有鉄系フィラー;ニッケル-マンガン-鉄合金、ニッケル-モリブデン-銅-鉄合金、ニッケル-モリブデン-マンガン-鉄合金等のニッケル-鉄系合金系フィラー;鉄-コバルト系合金系フィラー;ネオジム-鉄-ホウ素合金系フィラー等が挙げられる。これらのうちフェロ磁性やフェリ磁性を示す強磁性体が好ましい。 The magnetic filler is capable of becoming magnetic and can absorb and reduce electromagnetic waves. Examples of magnetic fillers include ferrite fillers such as Mn ferrite, Ni ferrite, Zn ferrite, Ba ferrite, Sr ferrite, Mn-Zn ferrite, and Ni-Zn ferrite; silicon-containing fillers such as iron-aluminum-silicon alloys; Iron-based filler; Nickel-iron alloy filler such as nickel-manganese-iron alloy, nickel-molybdenum-copper-iron alloy, nickel-molybdenum-manganese-iron alloy; Iron-cobalt alloy filler; Neodymium-iron Examples include boron alloy fillers. Among these, ferromagnetic materials exhibiting ferromagnetism or ferrimagnetism are preferred.
その他、電磁波シールド性フィラーとして、導電性を有さない磁性体系フィラーが挙げられる。 Other examples of electromagnetic shielding fillers include magnetic fillers that do not have electrical conductivity.
電磁波シールド性フィラーの形状は特に限定されないが、球状フィラー、針状フィラー、棒状フィラー、繊維状フィラー、扁平状フィラー、鱗片状フィラー、及び板状フィラーよりなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。このうち、針状フィラー、棒状フィラー、繊維状フィラー、扁平状フィラー、鱗片状フィラー、及び板状フィラーよりなる群から選択される少なくとも1種は、導電性を向上しやすいためより好ましい。また、球状フィラーを用いると応力集中の偏在を低減でき、更に熱膨張時の歪みも低減され易くなる。そのため、針状フィラー、棒状フィラー、繊維状フィラー、扁平状フィラー、鱗片状フィラー、及び板状フィラーよりなる群から選択される少なくとも1種と、球状フィラーとの組み合わせが、電磁波シールド性のみならず耐熱性等が求められる場合に有効である。 The shape of the electromagnetic shielding filler is not particularly limited, but at least one type selected from the group consisting of spherical fillers, needle-shaped fillers, rod-shaped fillers, fibrous fillers, flat fillers, scale-shaped fillers, and plate-shaped fillers is preferable. . Among these, at least one type selected from the group consisting of needle fillers, rod fillers, fibrous fillers, flat fillers, scale fillers, and plate fillers is more preferable because it tends to improve conductivity. Furthermore, when a spherical filler is used, uneven distribution of stress concentration can be reduced, and distortion during thermal expansion can also be easily reduced. Therefore, the combination of a spherical filler and at least one selected from the group consisting of needle-shaped fillers, rod-shaped fillers, fibrous fillers, flat fillers, scale-shaped fillers, and plate-shaped fillers has not only good electromagnetic shielding properties but also Effective when heat resistance etc. are required.
電磁波シールド性フィラーは、アスペクト比が1.5以上であることが好ましい。電磁波シールド性フィラーのアスペクト比が1.5以上であることにより、電磁波シールド性が向上し易くなる。そのため電磁波シールド性フィラーのアスペクト比は、より好ましくは3以上、更に好ましくは5以上、更により好ましくは10以上である。一方、アスペクト比が60以下であることにより、応力集中の偏在や、熱膨張時の歪みが低減され易くなる。そのため、アスペクト比は60以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましく、30以下であることが更に好ましい。 The electromagnetic shielding filler preferably has an aspect ratio of 1.5 or more. When the aspect ratio of the electromagnetic shielding filler is 1.5 or more, the electromagnetic shielding property is easily improved. Therefore, the aspect ratio of the electromagnetic shielding filler is more preferably 3 or more, still more preferably 5 or more, and even more preferably 10 or more. On the other hand, when the aspect ratio is 60 or less, uneven distribution of stress concentration and distortion during thermal expansion are easily reduced. Therefore, the aspect ratio is preferably 60 or less, more preferably 40 or less, and even more preferably 30 or less.
電磁波シールド層2aは、アスペクト比が1.5以上の電磁波シールド性フィラーと、アスペクト比が1.5未満の電磁波シールド性フィラーとを含んでいてもよい。この場合、アスペクト比が1.5未満の電磁波シールド性フィラーに対する、アスペクト比が1.5以上の電磁波シールド性フィラーの個数割合は、10%以上、90%以下であることが好ましい。個数割合が10%以上であることにより、導電性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは30%以上、更に好ましくは40%以上である。一方、個数割合が90%以下であることにより、応力集中の偏在や、熱膨張時の歪みが低減され易くなる。そのため、より好ましくは70%以下、更に好ましくは60%以下である。
The
電磁波シールド性フィラーは、長径が0.5μm以上であることが好ましい。長径が0.5μm以上であることにより、電磁波シールド性が向上し易くなる。そのため電磁波シールド性フィラーの長径は、より好ましくは1.0μm以上、更に好ましくは2.0μm以上、更により好ましくは5.0μm以上である。一方、電磁波シールド性フィラーの長径の上限は特に限定されないが、例えば、500μm以下であってもよく、300μm以下であってもよく、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよく、30μm以下であってもよい。 The electromagnetic shielding filler preferably has a major axis of 0.5 μm or more. When the major axis is 0.5 μm or more, electromagnetic shielding properties are easily improved. Therefore, the long axis of the electromagnetic shielding filler is more preferably 1.0 μm or more, still more preferably 2.0 μm or more, and still more preferably 5.0 μm or more. On the other hand, the upper limit of the major axis of the electromagnetic wave shielding filler is not particularly limited, but may be, for example, 500 μm or less, 300 μm or less, 100 μm or less, 50 μm or less, It may be 30 μm or less.
電磁波シールド層2aは、長径が0.5μm以上の電磁波シールド性フィラーと、長径が0.5μm未満の電磁波シールド性フィラーとを含んでいてもよい。この場合、長径が0.5μm未満の電磁波シールド性フィラーに対する、長径が0.5μm以上の電磁波シールド性フィラーの個数割合は、10%以上、90%以下であることが好ましい。個数割合が10%以上であることにより、導電性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは30%以上、更に好ましくは40%以上である。一方、個数割合が90%以下であることにより、応力集中の偏在や、熱膨張時の歪みが低減され易くなる。そのため、より好ましくは70%以下、更に好ましくは60%以下である。
The
電磁波シールド層2a中、電磁波シールド性フィラーの含量は、樹脂100質量部に対して、好ましくは3質量部以上、1000質量部以下である。電磁波シールド性フィラーの割合が3質量部以上であることにより、電磁波シールド性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは5質量部以上、更に好ましくは10質量部以上、更により好ましくは15質量部以上である。一方、電磁波シールド性フィラーの割合が1000質量部以下であることにより、電磁波シールド層2aの接着性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは800質量部以下、更に好ましくは300質量部以下、更により好ましくは100質量部以下である。
In the
電磁波シールド層2aに含まれる樹脂としては、後記する本発明のインサート成形用樹脂組成物に含まれる樹脂の記載を参照すればよい。
For the resin contained in the
保護層2bに含まれる電磁波シールド性フィラーの素材、形状、アスペクト比、長径等は、上記電磁波シールド層2aに含まれる電磁波シールド性フィラーを参照することができる。
For the material, shape, aspect ratio, major axis, etc. of the electromagnetic shielding filler included in the
保護層2b中、電磁波シールド性フィラーの含量は、樹脂100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、950質量部以下である。電磁波シールド性フィラーの割合が1質量部以上であることにより、保護層2bにおける電磁波シールド性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは3質量部以上、更に好ましくは5質量部以上、更により好ましくは10質量部以上である。一方、電磁波シールド性フィラーの割合が950質量部以下であることにより、保護層2bの接着性が向上し易くなる。そのため、より好ましくは750質量部以下、更に好ましくは250質量部以下、更により好ましくは90質量部以下である。なお保護層2bは、電磁波シールド性フィラーを含んでいなくともよい。
In the
保護層2bに含まれる樹脂は、後記する本発明のインサート成形用樹脂組成物の説明の欄に記載の樹脂を参照すればよい。なお、電磁波シールド層2aに含まれる樹脂と同じ樹脂であることが好ましい。
For the resin contained in the
樹脂成形物2の外形は特に限定されず、必要に応じて凹部や凸部を設けてもよい。樹脂成形物2中の電磁波シールド層2aは1層に限らず、2層以上であってもよい。また樹脂成形物2中の保護層2bは1層に限らず、2層以上であってもよい。
The outer shape of the resin molded
樹脂成形物2による電子部品1の封止は、例えば以下の方法により行うことができる。まず基板3に取り付けられた電子部品1に対して、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含む成形用樹脂組成物を用いてインサート成形することにより電磁波シールド層2aを形成する。更に電磁波シールド性フィラーの含量が低い成形用樹脂組成物を用いてインサート成形することにより保護層2bを形成する。このようにして樹脂成形物2により電子部品1を封止することができる。
The
基板3としては、樹脂製の基板、ガラスエポキシ基板、スズメッキ銅基板、ニッケルメッキ銅基板、SUS基板、アルミ基板等が挙げられる。樹脂製の基板としては、絶縁性樹脂により形成される基板であることが好ましい。
Examples of the
次に図2を参照して、本発明の第2実施形態に係る電子部品の封止体について説明する。図2は、第2実施形態に係る電子部品の封止体の、電子部品の表面に垂直な方向における断面図である。 Next, with reference to FIG. 2, a sealed body for an electronic component according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view of a sealed body for an electronic component according to a second embodiment in a direction perpendicular to the surface of the electronic component.
図2に示す通り、電子部品の封止体20内の電子部品1は、電子部品1の表面上に直接、電磁波シールド層2aが形成されている。更に、電子部品1の取付け部4とは反対側の電磁波シールド層2aの表面(以下では、上部表面と呼ぶ場合がある)に保護層2bが設けられている。このように電磁波シールド層2aの表面の一部に保護層2bが形成されていてもよい。電磁波シールド層2aの上部表面は、特に外部環境因子の影響を受けやすいため、少なくとも電磁波シールド層2aの上部表面が保護層2bにより保護されていることが好ましい。
As shown in FIG. 2, the
次に図3を参照して、本発明の第3実施形態に係る電子部品の封止体について説明する。図3は、第3実施形態に係る電子部品の封止体の、電子部品の表面に垂直な方向における断面図である。 Next, with reference to FIG. 3, a sealed body for an electronic component according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view of a sealed body for an electronic component according to a third embodiment in a direction perpendicular to the surface of the electronic component.
図3に示す通り、電子部品の封止体30内の電子部品1は、電子部品1の表面上に直接、電磁波シールド層2aが形成されている。
As shown in FIG. 3, the
電磁波シールド層2a中、電子部品1の表面と、樹脂成形物2(電磁波シールド層2a)の表面との中間に位置する仮想面よりも電子部品1の表面側に位置する領域(内部領域)の方が、上記仮想面よりも樹脂成形物2(電磁波シールド層2a)の表面側に位置する(外部領域)よりも、電磁波シールド性フィラーの含量が大きくなっている。具体的には、電磁波シールド層2a中において、内部側に向かって電磁波シールド性フィラーの含量が高くなるように濃度傾斜構造が形成されている。これにより、電磁波シールド層2aの内部側では電磁波シールド性が高く、電磁波シールド層2aの外部側では電磁波シールド性フィラーの含量が少ないため外部環境因子との接触による劣化が防止され易くなる。
In the
濃度傾斜構造は、例えばインサート成形において、射出成形機内にて可塑化状態(溶融状態)で長時間静置し、次いで当該状態で射出成形すること等により形成することができる。上記静置の時間は、例えば5時間以上である。 The concentration gradient structure can be formed, for example, in insert molding by allowing the material to stand in a plasticized state (molten state) for a long time in an injection molding machine, and then injection molding in that state. The above-mentioned standing time is, for example, 5 hours or more.
次に図4を参照して、本発明の第4実施形態に係る電子部品の封止体について説明する。図4は、第4実施形態に係る電子部品の封止体の、電子部品の表面に垂直な方向における断面図である。 Next, with reference to FIG. 4, a sealed body for an electronic component according to a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view of a sealed body for an electronic component according to a fourth embodiment in a direction perpendicular to the surface of the electronic component.
図4に示す通り、電子部品の封止体40内の電子部品1は、電子部品1の表面上に直接、電磁波シールド層2aが形成されている。更に、電磁波シールド層2aの表面には、保護層2bが形成されている。このように電子部品1は、電磁波シールド層2aと保護層2bとを含む樹脂成形物2により封止されている。電子部品の封止体40のように、電子部品1は基板上に取り付けられていなくともよい。
As shown in FIG. 4, the
本発明には、これらの電子部品の封止体の電磁波シールド層を得るための樹脂組成物も含まれる。具体的には本発明の樹脂組成物は、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物である。 The present invention also includes a resin composition for obtaining an electromagnetic shielding layer for a sealed body of these electronic components. Specifically, the resin composition of the present invention is a resin composition for insert molding containing a resin and an electromagnetic wave shielding filler.
インサート成形用樹脂組成物に含まれる電磁波シールド性フィラーとしては、第1実施形態に係る電子部品の封止体の電磁波シールド層2aに含まれる電磁波シールド性フィラーを参照することができる。
As the electromagnetic wave shielding filler contained in the resin composition for insert molding, reference can be made to the electromagnetic wave shielding filler contained in the electromagnetic
インサート成形用樹脂組成物に含まれる樹脂は、熱可塑性樹脂、及び熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。 The resin contained in the resin composition for insert molding is preferably at least one selected from the group consisting of thermoplastic resins and thermosetting resins.
熱可塑性樹脂は、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、及びポリウレタン系樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらのうちポリエステル系樹脂がより好ましい。 The thermoplastic resin is preferably at least one selected from the group consisting of polyester resins, polyamide resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, and polyurethane resins. Among these, polyester resins are more preferred.
ポリエステル系樹脂として、カルボン酸成分と水酸基成分とを反応させて形成されるものが挙げられる。カルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、4-メチル-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、ダイマー酸、水添ダイマー酸、ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。水酸基成分として、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステル、1,9-ノナンジオール、2-メチルオクタンジオール、1,10-ドデカンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリオキシメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。市販品として、例えば東洋紡社製の結晶性ポリエステル樹脂 GM-950、GM-955、GM-960等が挙げられる。 Examples of the polyester resin include those formed by reacting a carboxylic acid component and a hydroxyl group component. As carboxylic acid components, terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1, Examples include 2-cyclohexanedicarboxylic acid, dimer acid, hydrogenated dimer acid, naphthalene dicarboxylic acid, and the like. As a hydroxyl group component, ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3- Propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, dipropylene glycol, diethylene glycol, neopentyl glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3- Pentanediol, tricyclodecane dimethanol, neopentyl glycol hydroxypivalate, 1,9-nonanediol, 2-methyloctanediol, 1,10-dodecanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propane Examples include diol, polytetramethylene glycol, polyoxymethylene glycol, cyclohexanedimethanol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Commercially available products include, for example, crystalline polyester resins GM-950, GM-955, and GM-960 manufactured by Toyobo Co., Ltd.
ポリエステル系樹脂として、ポリアルキレングリコール成分を含むポリエステルが好ましい。具体的には、主としてポリエステルセグメントを含むハードセグメントと、主としてポリアルキレングリコール成分を含むソフトセグメントとがエステル結合されたものが好ましい。 As the polyester resin, polyester containing a polyalkylene glycol component is preferred. Specifically, a hard segment mainly containing a polyester segment and a soft segment mainly containing a polyalkylene glycol component are preferably ester bonded.
ハードセグメントはポリエステル系樹脂全体に対して、20重量%以上、80重量%以下含有されることが好ましく、30重量%以上、70重量%以下含有されることがより好ましい。 The hard segment is preferably contained in an amount of 20% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 30% by weight or more and 70% by weight or less, based on the entire polyester resin.
ハードセグメント中のポリエステルセグメントは、芳香族ジカルボン酸と、脂肪族グリコールおよび/または脂環族グリコールとの重縮合により形成されるポリエステルが主成分であることが好ましい。主成分とは、ポリエステルセグメント中、80重量%以上含まれていることを意味し、より好ましくは90重量%以上である。 The main component of the polyester segment in the hard segment is preferably a polyester formed by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol and/or an alicyclic glycol. The main component means that it is contained in the polyester segment in an amount of 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more.
芳香族ジカルボン酸は、炭素数8~14の芳香族ジカルボン酸が耐熱性を向上できるため好ましく、テレフタル酸および/又はナフタレンジカルボン酸であることがグリコールと反応し易いためより好ましい。 Aromatic dicarboxylic acids having 8 to 14 carbon atoms are preferred because they can improve heat resistance, and terephthalic acid and/or naphthalene dicarboxylic acids are more preferred because they easily react with glycol.
脂肪族グリコールおよび/または脂環族グリコールは、好ましくは炭素数2~10のアルキレングリコール類であり、より好ましくは炭素数2~8のアルキレングリコール類である。脂肪族グリコールおよび/または脂環族グリコールは全グリコール成分の50モル%以上の割合で含まれることが好ましく、70モル%以上の割合で含まれることがより好ましい。グリコール成分としては、エチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール等が好ましく、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノールがポリエステルの耐熱性を向上し易いため、より好ましい。 The aliphatic glycol and/or alicyclic glycol is preferably an alkylene glycol having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene glycol having 2 to 8 carbon atoms. The aliphatic glycol and/or alicyclic glycol is preferably contained in an amount of 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more of the total glycol components. As the glycol component, ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, etc. are preferable, and 1,4-butanediol, 1,4 - Cyclohexane dimethanol is more preferred because it tends to improve the heat resistance of polyester.
ソフトセグメントは、ポリエステル系樹脂全体に対して20重量%以上、80重量%以下含有されることが好ましく、30重量%以上、70重量%以下含有されることがより好ましい。 The soft segment is preferably contained in an amount of 20% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 30% by weight or more and 70% by weight or less, based on the entire polyester resin.
ソフトセグメント中のポリアルキレングリコール成分は、ポリエチレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等であることが好ましく、柔軟性向上、低溶融粘度化できる面でポリテトラメチレングリコールであることがより好ましい。 The polyalkylene glycol component in the soft segment is preferably polyethylene glycol, polytrimethylene glycol, polytetramethylene glycol, etc., and polytetramethylene glycol is more preferable in terms of improving flexibility and reducing melt viscosity. .
ソフトセグメントは、主としてポリアルキレングリコール成分からなることが好ましい。ソフトセグメントの共重合比率はポリエステル系樹脂を構成するグリコール成分全体を100モル%としたとき1モル%以上であることが好ましく、5モル%以上であることがより好ましく、10モル%以上であることが更に好ましく、20モル%以上であることが特に好ましい。これにより溶融粘度が高くなり低圧で封止し易くすることができる。一方、90モル%以下であることが好ましく、55モル%以下であることがより好ましく、50モル%以下であることが更に好ましく、45モル%以下であることが特に好ましい。これにより耐熱性が向上し易くなる。 It is preferable that the soft segment mainly consists of a polyalkylene glycol component. The copolymerization ratio of the soft segment is preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, and 10 mol% or more when the entire glycol component constituting the polyester resin is 100 mol%. It is more preferable that the amount is 20 mol% or more, and particularly preferably 20 mol% or more. This increases the melt viscosity, making it easier to seal at low pressure. On the other hand, it is preferably 90 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, even more preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 45 mol% or less. This makes it easier to improve heat resistance.
ソフトセグメントの数平均分子量は、400以上であることが好ましく、800以上であることがより好ましい。これにより柔軟性を付与し易くすることができる。一方、ソフトセグメントの数平均分子量は、5000以下であることが好ましく、3000以下であることがより好ましい。これにより、他の共重合成分との共重合し易くすることができる。 The number average molecular weight of the soft segment is preferably 400 or more, more preferably 800 or more. This makes it easier to impart flexibility. On the other hand, the number average molecular weight of the soft segment is preferably 5,000 or less, more preferably 3,000 or less. This can facilitate copolymerization with other copolymerization components.
ポリエステル系樹脂の数平均分子量は、3,000以上であることが好ましく、より好ましくは5,000以上、さらに好ましくは7,000以上である。これにより、樹脂組成物の耐加水分解性や高温高湿下での強伸度を向上し易くすることができる。一方、上限は好ましくは60,000以下、より好ましくは50,000以下、さらに好ましくは40,000以下である。溶融粘度を低減し易くなり、成形圧力を低減できる。 The number average molecular weight of the polyester resin is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more, still more preferably 7,000 or more. Thereby, the hydrolysis resistance of the resin composition and the strength and elongation under high temperature and high humidity can be easily improved. On the other hand, the upper limit is preferably 60,000 or less, more preferably 50,000 or less, even more preferably 40,000 or less. It becomes easier to reduce melt viscosity and molding pressure can be reduced.
ポリエステル系樹脂の融点は、好ましくは70℃以上、210℃以下、より好ましくは100℃以上、190℃以下である。 The melting point of the polyester resin is preferably 70°C or higher and 210°C or lower, more preferably 100°C or higher and 190°C or lower.
ポリアミド系樹脂として、分子中にアミド結合を有する樹脂が挙げられる。ポリアミド系樹脂として、具体的には、ダイマー酸、脂肪族ジカルボン酸、脂肪族、脂環式および/またはポリエーテルジアミンの反応生成物が好ましい。具体的には、50~98モル%のダイマー脂肪酸、2~50モル%のC6~C24脂肪族ジカルボン酸、0~10モル%のC14~C22モノカルボン酸、0~40モル%のポリエーテルジアミンおよび60~100モル%の脂肪族ジアミンを含むものであることがより好ましい。市販品として、例えばボスティック社製のTHERMELT 866、867、869、858等が挙げられる。 Examples of the polyamide resin include resins having an amide bond in the molecule. Specifically, the polyamide resin is preferably a reaction product of dimer acid, aliphatic dicarboxylic acid, aliphatic, alicyclic and/or polyether diamine. Specifically, 50 to 98 mol% of dimer fatty acids, 2 to 50 mol% of C 6 to C 24 aliphatic dicarboxylic acids, 0 to 10 mol% of C 14 to C 22 monocarboxylic acids, and 0 to 40 mol%. More preferably, it contains polyether diamine and 60 to 100 mol% aliphatic diamine. Examples of commercially available products include THERMELT 866, 867, 869, and 858 manufactured by Bostick.
ポリオレフィン系樹脂として、エチレン、プロピレン、ブテン等のオレフィン類の単重合体もしくは共重合体;これらのオレフィン類と共重合可能な単量体成分との共重合体;またはこれらの無水マレイン酸変性物等が挙げられる。具体的には、ポリオレフィン系樹脂として、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸エチル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-メタクリル酸メチル共重合体、エチレン-α-オレフィン共重合体、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン共重合体、プロピレン-ブテン共重合体等が挙げられる。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As polyolefin resins, monopolymers or copolymers of olefins such as ethylene, propylene, butene; copolymers of monomer components copolymerizable with these olefins; or maleic anhydride-modified products thereof etc. Specifically, polyolefin resins include polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, and ethylene-vinyl acetate copolymer. Examples include α-olefin copolymers, ethylene-propylene copolymers, ethylene-butene copolymers, propylene-butene copolymers, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
ポリカーボネート系樹脂として、多官能ヒドロキシ化合物と炭酸エステル形成性化合物との反応によって得られるものが挙げられる。多官能ヒドロキシ化合物として、置換基を有していてもよい4,4'-ジヒドロキシビフェニル類、置換基を有していてもよいビス
(ヒドロキシフェニル)アルカン類等が挙げられる。炭酸エステル形成性化合物としては、ホスゲンなどの各種ジハロゲン化カルボニルや、クロロホーメート等のハロホーメート、ビスアリールカーボネート等の炭酸エステル化合物が挙げられる。
Examples of the polycarbonate resin include those obtained by the reaction of a polyfunctional hydroxy compound and a carbonate-forming compound. Examples of the polyfunctional hydroxy compound include 4,4'-dihydroxybiphenyls which may have a substituent, bis(hydroxyphenyl)alkanes which may have a substituent, and the like. Examples of the carbonate-forming compound include various carbonyl dihalides such as phosgene, haloformates such as chloroformate, and carbonate compounds such as bisaryl carbonate.
ポリウレタン系樹脂として、水酸基成分(プレポリマー)と、イソシアネート化合物(硬化剤)を反応させて形成されるものが挙げられる。水酸基成分は、例えば、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエーテルポリオール、及びポリアルキレンポリオールよりなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。イソシアネート化合物は、トリメチレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、及びキシリレンジイソシアネート(XDI)よりなる群から選ばれる少なくとも1種のジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of polyurethane resins include those formed by reacting a hydroxyl component (prepolymer) with an isocyanate compound (curing agent). Examples of the hydroxyl group component include at least one selected from the group consisting of polyester polyols, polycaprolactone polyols, polyether polyols, and polyalkylene polyols. The isocyanate compound includes at least one diisocyanate selected from the group consisting of trimethylene diisocyanate (TDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and xylylene diisocyanate (XDI). Can be mentioned.
熱硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂、及びポリイミド系樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらのうちウレタン(メタ)アクリレート系樹脂、又はエポキシ系樹脂がより好ましい。 The thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of epoxy resins, phenolic resins, unsaturated polyester resins, diallyl phthalate resins, urethane (meth)acrylate resins, and polyimide resins. is preferred. Among these, urethane (meth)acrylate resins or epoxy resins are more preferred.
エポキシ系樹脂として、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等、あるいはこれらの誘導体からのビスフェノール型エポキシ樹脂、ビキシレノールおよびその誘導体からのビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノールおよびその誘導体からのビフェノール型エポキシ樹脂、あるいはナフタレンおよびその誘導体からのナフタレン型エポキシ樹脂、さらにはノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂の分子量の目安であるエポキシ当量は174~16000g/eqのものが好ましい。これらは1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。エポキシ系樹脂として、エポキシ(メタ)アクリレートが好ましい。エポキシ(メタ)アクリレートとして、1分子中に2個以上のグリシジルエーテル基を有するエポキシ樹脂にアクリル酸またはメタクリル酸を付加反応させて得られる分子末端にアクリレートまたはメタクリレートの二重結合を有するエポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。またエポキシ(メタ)アクリレートをラジカル重合性単量体及び/又はラジカル重合性多量体に溶解したエポキシ(メタ)アクリレート樹脂であってもよい。 Examples of epoxy resins include bisphenol-type epoxy resins made from bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc., or derivatives thereof, bixylenol-type epoxy resins made from bixylenol and its derivatives, and biphenol-type epoxy resins made from biphenol and its derivatives. Examples include epoxy resins such as naphthalene-type epoxy resins from naphthalene and its derivatives, and novolak-type epoxy resins. The epoxy equivalent, which is a guideline for the molecular weight of the epoxy resin, is preferably 174 to 16,000 g/eq. These may be used alone or in combination of two or more. Epoxy (meth)acrylate is preferred as the epoxy resin. Epoxy (meth)acrylate is obtained by adding acrylic acid or methacrylic acid to an epoxy resin having two or more glycidyl ether groups in one molecule. ) acrylates. Alternatively, it may be an epoxy (meth)acrylate resin in which epoxy (meth)acrylate is dissolved in a radically polymerizable monomer and/or a radically polymerizable polymer.
フェノール系樹脂は、フェノール残基を構成単位とする種々の樹脂が使用でき、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、p-アルキルフェノール、クロルフェノール、ビスフェノールA、フェノールスルホン酸、レゾルシン、各種変性フェノール等のフェノール性水酸基を有するフェノール類と、ホルマリン、フルフラール等のアルデヒド類を反応させて形成した樹脂が挙げられる。 As the phenolic resin, various resins having phenol residue as a constituent unit can be used, such as phenol, cresol, xylenol, p-alkylphenol, chlorophenol, bisphenol A, phenol sulfonic acid, resorcin, various modified phenols, etc. Examples include resins formed by reacting phenols having a hydroxyl group with aldehydes such as formalin and furfural.
不飽和ポリエステル系樹脂は、酸成分とアルコール成分を反応させて形成される。酸成分として、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和の多塩基酸又はその無水物、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族カルボン酸又はその無水物等が挙げられる。アルコール成分として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコール、ビスフェノールA、ビスフェノールA-C2-4アルキレンオキシド等の芳香族ジオールが挙げられる。 The unsaturated polyester resin is formed by reacting an acid component and an alcohol component. Examples of the acid component include unsaturated polybasic acids or their anhydrides such as maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid, and aromatic carboxylic acids and their anhydrides such as phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid. Examples of the alcohol component include alkylene glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, and aromatic diols such as bisphenol A and bisphenol AC 2-4 alkylene oxide.
ジアリルフタレート系樹脂は、例えばジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルオルソフタレート等のジアリルフタレートモノマーから得られる樹脂等が挙げられる。 Examples of the diallyl phthalate resin include resins obtained from diallyl phthalate monomers such as diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, and diallyl orthophthalate.
ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂は、例えば一分子中に2個以上の水酸基を有するポリアルコール、ポリエステルポリオール、及びポリエーテルポリオールよりなる群から選択される少なくとも1種とジイソシアネートとを反応させて得られた化合物の分子末端のイソシアネート、および/または一分子中にイソシアネート基を有する化合物のイソシアネート基にアルコール性水酸基と(メタ)アクリレート基を有する化合物を反応させることにより得ることができる。その他に、アルコール性水酸基と(メタ)アクリレート基を有する化合物とジイソシアネートとをイソシアネート基が残るように反応させて残ったイソシアネート基と、一分子中に2個以上の水酸基を有するポリアルコール、ポリエステルポリオール、及びポリエーテルポリオールよりなる群から選択される少なくとも1種とを反応させて得られる分子末端に(メタ)アクリレート基の二重結合を有する化合物をウレタン(メタ)アクリレート系樹脂として用いることができる。 The urethane (meth)acrylate resin is obtained, for example, by reacting a diisocyanate with at least one member selected from the group consisting of polyalcohols, polyester polyols, and polyether polyols having two or more hydroxyl groups in one molecule. It can be obtained by reacting the isocyanate at the molecular terminal of a compound and/or the isocyanate group of a compound having an isocyanate group in one molecule with a compound having an alcoholic hydroxyl group and a (meth)acrylate group. In addition, a compound having an alcoholic hydroxyl group and a (meth)acrylate group is reacted with a diisocyanate so that the isocyanate group remains, and the remaining isocyanate group is used to produce polyalcohols and polyester polyols having two or more hydroxyl groups in one molecule. A compound having a double bond of a (meth)acrylate group at the molecular end obtained by reacting with at least one selected from the group consisting of , and polyether polyol can be used as a urethane (meth)acrylate resin. .
ポリイミド系樹脂は、分子主鎖中にイミド結合を有する樹脂であり、例えば、芳香族ジアミンまたは芳香族ジイソシアネートと芳香族テトラカルボン酸との縮合重合体、芳香族ジアミンまたは芳香族ジイソシアネートとビスマレイミドとの付加重合体であるビスマレイミド樹脂、アミノ安息香酸ヒドラジドとビスマレイミドとの付加重合体であるポリアミノビスマレイミド樹脂、及びジシアネート化合物とビスマレイミド樹脂とからなるビスマレイミドトリアジン樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。 Polyimide resin is a resin having an imide bond in its molecular main chain, and is, for example, a condensation polymer of aromatic diamine or aromatic diisocyanate and aromatic tetracarboxylic acid, or a condensation polymer of aromatic diamine or aromatic diisocyanate and bismaleimide. bismaleimide resin which is an addition polymer of aminobenzoic acid hydrazide and bismaleimide, and bismaleimide triazine resin which consists of a dicyanate compound and bismaleimide resin. One type is mentioned.
インサート成形用樹脂組成物は、樹脂と電磁波シールド性フィラーの他、樹脂成形物の特性を損なわない範囲で、射出成型等で通常用いられる各種添加剤を添加することができる。添加剤として、難燃剤、可塑剤、離型剤、加水分解抑制剤、充填剤、酸化防止剤、熱老化防止剤、銅害防止剤、帯電防止剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらの添加剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 In addition to the resin and the electromagnetic wave shielding filler, the resin composition for insert molding can contain various additives commonly used in injection molding, etc., within a range that does not impair the characteristics of the resin molded product. Examples of additives include flame retardants, plasticizers, mold release agents, hydrolysis inhibitors, fillers, antioxidants, heat aging inhibitors, copper damage inhibitors, antistatic agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, etc. It will be done. These additives may be used alone or in combination of two or more.
1 電子部品
2 樹脂成形物
2a 電磁波シールド層
2b 保護層
3 基板
4 取付け部
10 第1実施形態に係る電子部品の封止体
20 第2実施形態に係る電子部品の封止体
30 第3実施形態に係る電子部品の封止体
40 第4実施形態に係る電子部品の封止体
1
Claims (6)
前記電子部品は、樹脂と電磁波シールド性フィラーとを含むインサート成形用樹脂組成物により前記電子部品の表面上に形成された電磁波シールド層を含む樹脂成形物により封止されており、
前記電子部品の表面に垂直な方向における前記樹脂成形物の断面において、前記電子部品の表面に近い方の領域における200μm四方当りの前記電磁波シールド性フィラーの個数A(個/40,000μm2)は、前記樹脂成形物の表面に近い方の領域における200μm四方当りの前記電磁波シールド性フィラーの個数B(個/40,000μm2)の1.05倍以上であり、
前記電磁波シールド性フィラーの表面は、絶縁性材料で被覆処理されておらず、
前記電磁波シールド性フィラーの少なくとも一部は、前記電子部品に接触している電子部品の封止体。 Contains electronic components,
The electronic component is sealed with a resin molding including an electromagnetic shielding layer formed on the surface of the electronic component using a resin composition for insert molding containing a resin and an electromagnetic shielding filler,
In the cross section of the resin molded article in the direction perpendicular to the surface of the electronic component, the number A (pieces/40,000 μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler per 200 μm square in the area closer to the surface of the electronic component is: , is 1.05 times or more the number B (pieces/40,000 μm 2 ) of the electromagnetic shielding filler per 200 μm square in the region closer to the surface of the resin molded article ,
The surface of the electromagnetic wave shielding filler is not coated with an insulating material,
At least a portion of the electromagnetic wave shielding filler is a sealed body of an electronic component, in which at least a portion of the electromagnetic wave shielding filler is in contact with the electronic component.
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