JP7365350B2 - 誘導放出抑制顕微鏡法のための方法およびシステム - Google Patents
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Description
本発明は、全米科学財団によって授与された認可番号1509928、1353757、1337573に基づく政府支援を受けて行われた。政府は、本発明に一定の権利を有する。
本出願は、2018年3月1日に出願された米国仮特許出願第62/637375号、および米国仮特許出願番号2018年3月7日に出願された米国仮特許出願第62/639438号の優先権の利益を主張する。
実施形態1:撮像対象物中の蛍光種であって、蛍光励起波長、蛍光抑制波長および蛍光発光波長を有する蛍光種の誘導放出抑制顕微鏡法のための方法であって、
偏光保持光ファイバを提供することと、
偏光保持光ファイバの中心モードにおける蛍光励起波長の励起放射を伝播することと、
偏光保持光ファイバの1つ以上の周辺モードにおける蛍光抑制波長の抑制放射を伝播することであって、1つ以上の周辺モードのそれぞれが、偏光保持光ファイバの中心モードと実質的に重複する最小強度を有し、抑制放射が偏光保持光ファイバ内で実質的に時間的にインコヒーレントに伝播することと、
励起放射および抑制放射を偏光保持光ファイバから撮像対象物に送達することであって、励起放射が、実質的に中心に配置された最大強度を有するスポットを形成し、抑制放射が、励起放射の周りに環状リングを形成し且つ励起放射スポットの中心に配置された最大強度と実質的に重複することなく励起放射スポットの周辺と実質的に重複し、励起放射が、励起放射スポットの中心に配置された最大強度において対象物からの蛍光発光波長の発光放射を引き起こし、抑制放射が、環状抑制放射の領域における蛍光発光波長の放射の発光を防止することと、
発光放射の強度を判定することと、を備える、方法である。
実施形態2:偏光保持光ファイバの中心モードが、例えば、偏光保持光ファイバの実質的にガウスモードであるように、その中心に最大値を有する、実施形態1の方法。
実施形態3:抑制放射が、偏光保持光ファイバの2つの直交モードで伝播される、実施形態1または実施形態2の方法。
実施形態4:抑制放射が、実質的な軌道角運動量で偏光保持光ファイバ内で伝播される、実施形態1~3のいずれかに記載の方法。
実施形態5:抑制放射がトロイドの形状である、実施形態1~4のいずれかの方法。
実施形態6:抑制放射が、複数(例えば、2つ)の周辺モードにおいて偏光保持光ファイバ内で伝播され、モード間の時間的インコヒーレンス(γ)が、0.3以下、例えば、0.2以下、0.15以下、または0.1以下である、実施形態1~5のいずれかの方法。
実施形態7:抑制放射(すなわち、ファイバ内を伝播するおよび/または対象物に送達されるものとして)が、少なくとも13dB、例えば、少なくとも15dB、または少なくとも17dBのコントラスト(すなわち、中心における最大強度から最小強度まで)を有する、実施形態1~6のいずれかの方法。
実施形態8:対象物において(すなわち、対象物の蛍光を引き起こす能力を有する)光学系の回折限界よりも実質的に小さい(例えば、回折限界のものの75%以下の半値全幅、例えば50%以下、または30%以下)有効励起スポットを対象物に提供するように、抑制放射および励起放射が重複する、実施形態1~7のいずれかの方法。
実施形態9:有効励起スポットが、200nm以下、例えば、150nm以下もしくは125nm以下の直径、または10nm~200nmの範囲、例えば、10nm~150nm、または10nm~125nm、または50nm~200nm、または50nm~150nm、または50nm~125nm、または100nm~200nm、または100nm~200nmの範囲の直径を有する、実施形態8に記載の方法。
実施形態10:ファイバの中心モードにおける蛍光励起波長の励起放射を伝播することが、励起放射源(例えば、レーザー、またはフィルタリングされた広帯域源、または増幅された自然発光源、またはレーザーダイオード)から励起放射を提供することと、(例えば、励起放射を光ファイバの端面の中心部分に集束させることによって)励起放射をファイバの中心モードに結合することとを備える、実施形態1~9のいずれかの方法。
実施形態11:蛍光励起波長が、400nm~600nmの範囲、例えば488nmである、実施形態1~10のいずれかの方法。
実施形態12:励起放射が2光子放射であり、蛍光励起波長が900nm~1050nmの範囲にある、実施形態1~10のいずれかの方法。
実施形態13:蛍光抑制波長の抑制放射を伝播することが、抑制放射源(例えば、レーザー、またはフィルタリングされた広帯域源、または増幅された自然発光源、またはレーザーダイオード)から抑制放射を提供することと、(例えば、抑制放射を光ファイバの端面の周辺部分に集束させることによって)抑制放射をファイバの1つ以上の周辺モードに結合することとを備える、実施形態1~12のいずれかの方法。
実施形態14:抑制放射をファイバの1つ以上の周辺モードに結合することが、
例えば、空間光変調器を使用して、その中心部分において(例えば、1、0または0、1などの適切なエルミート-ガウスモードにおいて)最小強度を有するプロファイルに放射を成形することと、成形された放射を2つのビームに分離することと、
一方のビームの強度プロファイルを他方に対して90度回転させることと、ビームを再合成することと、
再合成されたビームをファイバの1つ以上の周辺モードに結合することと、を備える、実施形態13の方法。
実施形態15:抑制放射をファイバの1つ以上の周辺モードに結合することが、
例えば、空間光変調器を使用して、その中心部分において(例えば、1、0または0、1などの適切なエルミート-ガウスモードにおいて)最小強度を有するプロファイルに放射を成形することと、
(例えば、偏光ビームスプリッタを使用して)成形された放射を、直交偏光を有する2つのビームに分離することと、
(例えば、ダブプリズムによって)第1のビームの強度プロファイルを他のビームに対して約90度回転させ、他のビームに対して第1のビームを遅延させることと、
(例えば、偏光ビームスプリッタを使用して)ビームを再合成することと、
再合成されたビームをファイバの1つ以上の周辺モードに結合することと、を備える、実施形態13の方法。
実施形態16:成形された放射が、中心に最小強度を有する2つのローブを有する、実施形態14~15のいずれかの方法。
実施形態17:偏光保持光ファイバの周辺モードが、エルミート-ガウスモードである(例えば、0、1;1、0;2、1;1、2などの少なくとも1つの奇数番号の識別子を有する)、実施形態1~16のいずれかの方法。
実施形態18:偏光保持光ファイバが、1つ以上の曲率半径で配置され、最小曲率半径は、20mmから250mmの範囲、例えば、20mm~200mm、20mm~150mm、または20mm~100mm、または35mm~250mm、または35mm~200mm、または35mm~150mm、または35mm~100mm、または50mm~250mm、または50mm~200mm、または50mm~150mm、または50mm~100mmである、実施形態1~16のいずれかの方法。
実施形態19:偏光保持光ファイバが、200cmから10mの範囲、例えば、500cmから10mの範囲、または1mから10mの範囲の長さを有する、実施形態1~18のいずれかの方法。
実施形態20:蛍光抑制波長が、500nm~700nmの範囲、例えば585nmである、実施形態1~19のいずれかの方法。
実施形態21:励起放射および抑制放射を光ファイバから撮像対象物に送達することは、ファイバの出力をコリメートすることと、ファイバのコリメートされた出力を撮像対象物に送達することとを備える、実施形態1~20のいずれかの方法。
実施形態22:励起放射および抑制放射を光ファイバから撮像対象物に送達することが、ファイバの出力をコリメートすることと、1つ以上のレンズを使用して、コリメートされた出力をGRINレンズに集束することと、GRINレンズを使用して放射を対象物に伝達することとを備える、実施形態1~20のいずれかの方法。
実施形態23:GRINレンズが、1つ以上のレンズから取り外し可能である、実施形態22の方法。
実施形態24:1つ以上のレンズが、一対のアクロマティックダブレットレンズと、GRINレンズの色度のバランスをとるように構成されたガラス凹レンズとを備える、実施形態22または実施形態23の方法。
実施形態25:抑制放射が、幅が25nm~300nmの範囲内、例えば、幅が25nm~200nm、または25nm~100nm、または50nm~300nm、または50nm~200nm、50nm~100nm、または75nm~300nm、または75nm~200nm、または100nm~300nm、または100nm~200nmである、対象物において-5dB幅を有する中心が暗い部分を有する(すなわち、最大強度と比較して)、実施形態1~24のいずれかの方法。
実施形態26:抑制放射が、幅が10nm~150nmの範囲内、例えば、幅が10nm~125nm、または10nm~100nm、または10nm~75nm、または20nm~150nm、20nm~125nm、または20nm~100nm、または20nm~75nm、または40nm~150nm、または40nm~125nm、または40nm~100nm、または40nm~75nmである、対象物において-10dB幅を有する中心が暗い部分を有する、実施形態25の方法。
実施形態27:対象物における励起放射の最大強度が、対象物における抑制放射の中心の暗い部分内にある、実施形態1~26のいずれかの方法。
実施形態28:発光放射の強度を判定することが、励起放射および抑制放射の伝播と反対方向に光ファイバ内で発光放射を伝播することと、伝播された発光放射の強度を判定することとを備える、実施形態1~27のいずれかの方法。
実施形態29:発光放射の強度を判定することが、偏光保持光ファイバとは別の光ファイバ内で発光放射を伝播することを備える、実施形態1~27のいずれかの方法。
実施形態30:偏光保持光ファイバが、低屈折率領域によって中心コアから分離された高屈折率リングコアを含まない、実施形態1~28のいずれかの方法。
実施形態31:請求項1~30のいずれかの方法を実行するように構成された光学系。
実施形態32:請求項31に記載の光学系であって、
中心モードと、それぞれが偏光保持光ファイバの中心モードと実質的に重複する最小強度を有する1つ以上の周辺モードとを有する偏光保持光ファイバと、
偏光保持光ファイバの中心モードにおいて蛍光励起波長の励起放射の伝播を引き起こすように結合された励起放射源と、
偏光保持光ファイバの1つ以上の周辺モードにおいて実質的に時間的にインコヒーレントに抑制放射の伝播を引き起こすように結合された抑制波長の抑制放射源と、
励起放射および抑制放射を光ファイバから撮像対象物に(例えば、必要に応じて追加の光学系を介して)送達するように構成された偏光保持光ファイバであって、励起放射が、実質的に中心に配置された最大強度を有するスポットを形成し、抑制放射が、励起放射の周りに環状リングを形成し且つ励起放射スポットの中心に配置された最大強度と実質的に重複することなく励起放射スポットの周辺と実質的に重複し、励起放射が、スポットの中心に配置された最大強度において対象物からの蛍光発光波長の発光放射を引き起こし、抑制放射が、環状抑制放射の領域における蛍光発光波長の放射の発光を実質的に防止する、偏光保持光ファイバと、を備える、光学系。
実施形態33:さらに、発光放射の強度を判定するように構成された強度検出器を備える、実施形態32の光学系。
実施形態34:偏光保持光ファイバの中心モードが、例えば、偏光保持光ファイバの実質的にガウスモードの場合のように、その中心に最大値を有する、実施形態32または実施形態33の光学系。
実施形態35:偏光保持光ファイバの2つの直交モードで抑制放射を伝播するように構成された、実施形態32~34のいずれかの光学系。
実施形態36:偏光保持光ファイバの2つの直交モードで抑制放射を伝播するように構成された、実施形態32~35のいずれかの光学系。
実施形態37:実質的な軌道角運動量で偏光保持光ファイバ内で抑制放射を伝播するように構成された、実施形態32~36のいずれかの光学系。
実施形態38:抑制放射をトロイドの形状で伝播するように構成された、実施形態32~37のいずれかの光学系。
実施形態39:複数の(例えば、2つの)周辺モードにおいて偏光保持光ファイバ内で抑制放射を伝播するように構成され、モード間の時間的インコヒーレンス(γ)が、0.3以下、例えば、0.2以下、0.15以下、または0.1以下である、実施形態32~38のいずれかの光学系。
実施形態40:抑制放射(すなわち、ファイバ内を伝播するおよび/または対象物に送達されるものとして)が、少なくとも13dB、例えば、少なくとも15dB、または少なくとも17dBのコントラスト(すなわち、中心における最大強度から最小強度まで)を有するように構成された、実施形態32~39のいずれかの光学系。
実施形態41:対象物において(すなわち、対象物の蛍光を引き起こす能力を有する)光学系の回折限界よりも実質的に小さい(例えば、回折限界のものの75%以下、50%以下、または30%以下の半値全幅)有効励起スポットを対象物に提供するように、抑制放射および励起放射が重複する、実施形態32~40のいずれかの光学系。
実施形態42:有効励起スポットが、200nm以下、例えば、150nm以下もしくは125nm以下の直径を有する、実施形態41に記載の光学系。
実施形態43:励起放射が励起放射源(例えば、レーザー、またはフィルタリングされた広帯域源、または増幅された自然発光源、またはレーザーダイオード)によって提供され、(例えば、励起放射を光ファイバの端面の中心部分に集束させることによって)ファイバの中心モードに結合されるように構成された、実施形態32~42のいずれかの光学系。
実施形態44:蛍光励起波長が488nmである、実施形態32~43のいずれかの光学系。当業者は、励起放射が、典型的には、蛍光励起波長またはその近くに相対最大を有する波長の広がりを有することを理解するであろう。望ましい蛍光励起波長は、蛍光を受ける特定の種に依存する。励起放射は、パルス化されることができる。
実施形態45:励起放射が2光子放射であり、蛍光励起波長が900nm~1050nmの範囲にある、実施形態32~43のいずれかの光学系。
実施形態46:蛍光抑制波長の抑制放射が、抑制放射源(例えば、レーザー、またはフィルタリングされた広帯域源、または増幅された自然発光源、またはレーザーダイオード)によって提供され、(例えば、抑制放射を光ファイバの端面の周辺部分に集束させることによって)ファイバの1つ以上の周辺モードに結合されるように構成された、実施形態32~45のいずれかの光学系。
実施形態47:抑制放射をファイバの1つ以上の周辺モードに結合することが、
例えば、空間光変調器を使用して、その中心部分において(例えば、1、0または0、1などの適切なエルミート-ガウスモードにおいて)最小強度を有するプロファイルに放射を成形することと、
成形された放射を2つのビームに分離することと、
一方のビームの強度プロファイルを他方に対して90度回転させることと、ビームを再合成することと、
再合成されたビームをファイバの1つ以上の周辺モードに結合することと、を備える、実施形態13の方法。
実施形態48:抑制放射をファイバの1つ以上の周辺モードに結合することが、
例えば、空間光変調器を使用して、その中心部分において(例えば、1、0または0、1などの適切なエルミート-ガウスモードにおいて)最小強度を有するプロファイルに放射を成形することと、
(例えば、偏光ビームスプリッタを使用して)成形された放射を、直交偏光を有する2つのビームに分離することと、
(例えば、ダブプリズムによって)第1のビームの強度プロファイルを他のビームに対して約90度回転させ、他のビームに対して第1のビームを遅延させることと、
(例えば、偏光ビームスプリッタを使用して)ビームを再合成することと、再合成されたビームをファイバの1つ以上の周辺モードに結合することと、を備えるように構成された、実施形態47の光学系。
実施形態49:成形された放射が、中心に最小強度を有する2つのローブを有するように構成された、実施形態47または実施形態48の光学系。
実施形態50:偏光保持光ファイバの周辺モードが、エルミート-ガウスモードである(例えば、0、1;1、0;2、1;1、2などの少なくとも1つの奇数番号の識別子を有する)、実施形態32~49のいずれかの光学系。
実施形態51:光ファイバが、1つ以上の曲率半径で配置され、最小曲率半径は、20mmから250mmの範囲、例えば、20mm~200mm、20mm~150mm、または20mm~100mm、または35mm~250mm、または35mm~200mm、または35mm~150mm、または35mm~100mm、または50mm~250mm、または50mm~200mm、または50mm~150mm、または50mm~100mmである、実施形態32~50のいずれかの光学系。
実施形態52:偏光保持光ファイバが、200cmから10mの範囲、例えば、500cmから10mの範囲、または1mから10mの範囲の長さを有する、実施形態32~51のいずれかの光学系。
実施形態53:蛍光抑制波長が585nmである、実施形態32~52のいずれかの光学系。当業者は、抑制放射が、典型的には、蛍光抑制波長またはその近くに相対最大を有する波長の広がりを有することを理解するであろう。望ましい蛍光抑制波長は、蛍光を受ける特定の種に依存する。抑制放射は、パルス化されることができる。
実施形態54:励起放射および抑制放射を光ファイバから撮像対象物に送達することは、ファイバの出力をコリメートすることと、ファイバのコリメートされた出力を撮像対象物に送達することとを備えるように構成された、実施形態32~53のいずれかの光学系。
実施形態55:励起放射および抑制放射を光ファイバから撮像対象物に送達することが、ファイバの出力をコリメートすることと、1つ以上のレンズを使用して、コリメートされた出力をGRINレンズに集束することと、GRINレンズを使用して放射を対象物に伝達することとを備えるように構成された、実施形態32~53のいずれかの光学系。
実施形態56:GRINレンズが、1つ以上のレンズから取り外し可能である、実施形態55の光学系。
実施形態57:1つ以上のレンズが、一対のアクロマティックダブレットレンズと、GRINレンズの色度のバランスをとるように構成されたガラス凹レンズとを備える、実施形態55の光学系。
実施形態58:抑制放射が、幅が25nm~300nmの範囲内、例えば、幅が25nm~200nm、または25nm~100nm、または50nm~300nm、または50nm~200nm、50nm~100nm、または75nm~300nm、または75nm~200nm、または100nm~300nm、または100nm~200nmである、対象物において-5dB幅を有する中心の暗い部分を有する(すなわち、最大強度と比較して)ように構成された、実施形態1~57のいずれかの光学系。
実施形態59:抑制放射が、幅が10nm~150nmの範囲内、例えば、幅が10nm~125nm、または10nm~100nm、または10nm~75nm、または20nm~150nm、20nm~125nm、または20nm~100nm、または20nm~75nm、または40nm~150nm、または40nm~125nm、または40nm~100nm、または40nm~75nmである、対象物において-10dB幅を有する中心の暗い部分を有するように構成された、実施形態58のいずれかの光学系。
実施形態60:対象物における励起放射の最大強度が、対象物における抑制放射の中心の暗い部分内にあるように構成された、実施形態32~59のいずれかの光学系。
実施形態61:発光放射の強度を判定することが、励起放射および抑制放射の伝播と反対方向に光ファイバ内で発光放射を伝播することと、伝播された発光放射の強度を判定することとを備えるように構成された、実施形態32~59のいずれかの光学系。
実施形態62:発光放射の強度を判定することが、偏光保持光ファイバとは別の光ファイバ内で発光放射を伝播することを備えるように構成された、実施形態32~59のいずれかの光学系。
実施形態63:偏光保持光ファイバが、低屈折率領域によって中心コアから分離された高屈折率リングコアを含まない、実施形態32~62のいずれかの光学系。
110 偏光保持光ファイバ
111 第1の端部
112 第2の端部
113 光学系
114 対物レンズ
116 ミラー
120 励起源、励起放射源
121 ミラー
122 ダイクロイックミラー
130 抑制源、抑制放射源
131 半波長板
132 空間光変調器
133 半波長板
134 第1の偏光ビームスプリッタ
135 ダブプリズム
136 ミラー
140 撮像対象物
160 検出器
162 ノッチダイクロイック、ダイクロイックミラー
Claims (15)
- 撮像対象物中の蛍光種であって、蛍光励起波長、蛍光抑制波長および蛍光発光波長を有する前記蛍光種の誘導放出抑制顕微鏡法のための方法であって、
偏光保持光ファイバを提供することと、
前記偏光保持光ファイバの中心モードにおける前記蛍光励起波長の励起放射を伝播することと、
前記偏光保持光ファイバの1つ以上の周辺モードにおける前記蛍光抑制波長の抑制放射を伝播することであって、前記1つ以上の周辺モードのそれぞれが、前記偏光保持光ファイバの前記中心モードと実質的に重複する最小強度を有し、前記抑制放射が前記偏光保持光ファイバ内で実質的に時間的にインコヒーレントに伝播することと、
前記励起放射および前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバから前記撮像対象物に送達することであって、前記励起放射が、実質的に中心に配置された最大強度を有する励起放射スポットを形成し、前記抑制放射が、前記励起放射の周りに環状リングを形成し且つ前記励起放射スポットの中心に配置された最大強度と実質的に重複することなく前記励起放射スポットの周辺と実質的に重複し、前記励起放射が、前記励起放射スポットの中心に配置された最大強度において前記撮像対象物からの前記蛍光発光波長の発光放射を引き起こし、前記抑制放射が、環状の前記抑制放射の領域における前記蛍光発光波長の放射の発光を防止することと、
前記発光放射の強度を判定することと、
を備える、方法。 - 前記抑制放射が、前記偏光保持光ファイバの2つの直交モードで伝播される、請求項1に記載の方法。
- 前記抑制放射がトロイドの形状である、請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記抑制放射が、複数の周辺モードにおいて前記偏光保持光ファイバ内で伝播され、モード間の時間的インコヒーレンス(γ)が、0.2以下である、請求項1~3のいずれかに記載の方法。
- 前記偏光保持光ファイバ内を伝播する、かつ/または、前記撮像対象物に送達される前記抑制放射が、前記中心における最大強度から最小強度まで少なくとも13dBのコントラストを有する、請求項1~4のいずれかに記載の方法。
- 回折限界のものの50%以下の半値全幅を有する前記撮像対象物の蛍光を引き起こす能力を有する前記撮像対象物において、有効励起スポットを前記撮像対象物に提供するように、前記抑制放射および前記励起放射が重複する、請求項1~5のいずれかに記載の方法。
- 前記有効励起スポットが、200nm以下の直径を有する、請求項6に記載の方法。
- 前記蛍光励起波長が、400nm~600nmの範囲内または900nm~1050nmの範囲内であり、前記蛍光抑制波長が、500nm~700nmの範囲内である、請求項1~7のいずれかに記載の方法。
- 前記蛍光抑制波長の抑制放射を伝播することが、抑制放射源から抑制放射を提供することと、前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバの前記1つ以上の周辺モードに結合することとを備え、前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバの前記1つ以上の周辺モードに結合することが、
プロファイルに前記放射を成形することであって、前記プロファイルが前記プロファイルの中心部分において最小強度を有する、前記放射を成形することと、
前記成形された放射を、直交偏光を有する2つのビームに分離することと、
第1のビームの強度プロファイルを他のビームに対して約90度回転させ、前記他のビームに対して前記第1のビームを遅延させることと、
前記ビームを再合成することと、前記再合成されたビームを前記偏光保持光ファイバの前記1つ以上の周辺モードに結合することと、
を備える、請求項1~8のいずれかに記載の方法。 - 前記偏光保持光ファイバの前記周辺モードが、少なくとも1つの奇数番号の識別子を有するエルミート-ガウスモードである、請求項1~9のいずれかに記載の方法。
- 前記励起放射および前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバから前記撮像対象物に送達することが、前記偏光保持光ファイバの出力をコリメートすることと、前記偏光保持光ファイバの前記コリメートされた出力を前記撮像対象物に送達することとを備える、請求項1~10のいずれかに記載の方法。
- 前記励起放射および前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバから前記撮像対象物に送達することが、前記偏光保持光ファイバの出力をコリメートすることと、1つ以上のレンズを使用して、前記コリメートされた出力をGRINレンズに集束することと、前記GRINレンズを使用して前記放射を前記撮像対象物に伝達することとを備える、請求項1~10のいずれかに記載の方法。
- 前記抑制放射が、幅が10nm~150nmの範囲内である、前記撮像対象物において-10dB幅を有する中心が暗い部分を有する、請求項12に記載の方法。
- 前記撮像対象物における前記励起放射の最大強度が、前記撮像対象物における前記抑制放射の中心の暗い部分内にある、請求項1~13のいずれかに記載の方法。
- 請求項1~14のいずれかに記載の方法を実行するように構成された光学系であって、
中心モードと、それぞれが偏光保持光ファイバの前記中心モードと実質的に重複する最小強度を有する1つ以上の周辺モードとを有する前記偏光保持光ファイバと、
前記偏光保持光ファイバの前記中心モードにおいて前記蛍光励起波長の励起放射の伝播を引き起こすように結合された励起放射源と、
前記偏光保持光ファイバの1つ以上の前記周辺モードにおいて実質的に時間的にインコヒーレントに抑制放射の伝播を引き起こすように結合された前記蛍光抑制波長の抑制放射源と、
前記励起放射および前記抑制放射を前記偏光保持光ファイバから前記撮像対象物に必要に応じて追加の光学系を介して送達するように構成された前記偏光保持光ファイバであって、前記励起放射が、実質的に中心に配置された最大強度を有するスポットを形成し、前記抑制放射が、前記励起放射の周りに環状リングを形成し且つ前記励起放射スポットの中心に配置された最大強度と実質的に重複することなく前記励起放射スポットの周辺と実質的に重複し、前記励起放射が、前記スポットの中心に配置された最大強度において前記撮像対象物からの前記蛍光発光波長の発光放射を引き起こし、前記抑制放射が、環状の前記抑制放射の領域における前記蛍光発光波長の放射の発光を実質的に防止する、偏光保持光ファイバと、
を備える、光学系。
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