JP7361728B2 - 量子井戸オフセットおよび効率的な単一モードレーザ発光を速軸に沿って有する大光共振器(loc)レーザダイオード - Google Patents
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Description
本出願は、米国仮特許出願第62/677,748号(出願日:2018年5月30日)の恩恵を主張する。本明細書中、同文献は参考のため援用される。
本開示は、レーザダイオードに関する。
図2は、二重(すなわち、内側および外側の)n-クラッド構造を特徴とする設計1aを示すレーザダイオード200を示す。レーザダイオード200は、p-導波路214とn-導波路216との間に位置する活性領域210を含む。n-導波路216は、活性領域210と内側n-クラッド220との間にある。別の外側n-クラッド230が、内側n-クラッド220と、エピタキシャル層スタック底部にあるn-基板240との間にある。p-キャップ250が、p-キャップ250とp-導波路214との間のp-クラッド254の上にある。上記および他の例において、方向について「上」、「下」、「上側」、「下側」、「垂直」、「水平」などと記載しているが、これらの用語は、説明を分かり易くするために用いたものであり、いかなる特定の空間的向きまたは制限を示すものではない点に留意されたい。また、グラフ中、水平矢印は、どのプロットにどの垂直軸が対応するかを示す。
設計パラダイム1において、大きな量子井戸オフセットに起因して、閉込係数は、従来のLOCレーザダイオードよりも低い。例えば、従来のLOC設計の場合は0.5~0.6%であるのと比較すると、設計1aおよび設計1bの閉込係数は、それぞれ0.26%および0.1%未満である。その結果、モード利得の低下および閾電流の増加に繋がり、いくつかの用途によってはレーザダイオードの出力および効率の制限に繋がる可能性がある。
図12は、設計パラダイム3のRIPを示すグラフ1200である。設計は、外側n-導波層1260と、内側n-導波層1262と、導波路1250のp-側の薄いp-導波路1266への大きな量子井戸オフセットとを含む二重導波路1250を含む。
図13は、設計パラダイム4のRIPを示すグラフ1300である。この設計は、より肉厚の導波路1362よりも肉薄の導波路1360へとオフセットする肉薄クラッド層1354によって分離された2つの導波路から形成された二重導波路1350を含む。より肉厚の導波路1362は、肉薄クラッド層1354の右側のn-導波路およびp-導波路1366双方を含む。肉薄クラッド層1354は、二重導波路1350と比較して、より低い屈折率(および典型的にはより高いバンドギャップエネルギー)を有する。量子井戸は、二重導波路1350のp-側へオフセットして位置し、p-導波路1366の厚さは極めて薄い。
上記した設計パラダイムは、特に、ファイバー結合ポンプ製品(例えば、出願人であるnLIGHT,Inc.(Vancouver、Washington)から入手可能であるelement(登録商標)およびpearl(商標)レーザダイオード)において適用され得る。例えば、単一発光体ダイオードあたりの出力電力を高効率において増加させることにより出力を(ポンプ設計または部品カウントの変更無しに)スケールする能力が有ると、ポンプコスト(ワットあたりのコスト)が有意に低減される。また、効率向上により、エネルギー消費の低減と、レーザダイオードおよびそのようなデバイスを用いたレーザダイオード製品の寿命の長寿化が支援される。
本開示のLOCレーザダイオードによれば、より低い光損失からの電気直列抵抗低下およびより高いスロープ効率からの動作電圧低下に起因して、出力および効率が向上する(すなわち、閾電流を超えるレーザ出力特性の直線部分からの出力/電流のスロープ効率)。セルフコンシステントな物理学に基づくレーザダイオードシミュレーションツールを用いて、設計パラダイム1および2のレーザダイオード性能をシミュレートした。比較のため、従来のLOCレーザダイオードのシミュレーション結果も記載する。
当業者であれば、上記した実施形態の詳細における変更が、本発明の基本的原理から逸脱することなく可能であり得ることを理解する。例えば、図23は、図3および図12に示すフィーチャの組み合わせを示す別の実施形態を示す。詳細には、グラフ2300は、二重n-クラッディング(図3中に示すものと同様)および二重導波路(図12中に示すものと同様)を示す。これらのフィーチャの組み合わせにより、二重n-クラッディングフィルタリングによるさらなるモデル判別と、設計パラダイム1aおよび3それぞれに関連して既述したような二重導波路に起因する閉込係数の判別と、が可能になる。よって、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲のみによって決定される。
Claims (15)
- 大光共振器(LOC)レーザダイオードであって、
前記LOCレーザダイオードは、基本モードでレーザ放出し、一次およびより高次のモードのレーザ放出を前記LOCレーザダイオードから出射された光学ビームの速軸に沿って抑制するように構成され、前記LOCレーザダイオードは、
前記LOCレーザダイオードのp-側、前記LOCレーザダイオードのn-側、および前記p-側と前記n-側との間に配置された活性領域によって規定された光共振器であって、前記n-側は、前記p-側へ向かってオフセットされる量子井戸を有する導波路のうち少なくとも一部を形成するn-導波層を含む、光共振器と、
前記p-側および前記n-側の片方または双方上に設けられた隣接クラッド層であって、前記隣接クラッド層は、外側クラッド層および内側クラッド層を含み、前記内側クラッド層は、前記導波路と前記外側クラッド層との間に前記導波路と前記外側クラッド層に隣接して位置し、前記外側クラッド層および前記内側クラッド層はそれぞれ、第1の屈折率および第2の屈折率を有し、前記外側クラッド層の第1の屈折率は、前記内側クラッド層の第2の屈折率よりも高く、前記一次モードの有効屈折率よりも高いため、前記導波路からこれをアウトカップルする、隣接クラッド層と、を含む、LOCレーザダイオード。 - 前記n-側は、前記隣接クラッド層を含む、請求項1に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記p-側は、前記隣接クラッド層を含む、請求項1に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記p-側は、前記n-導波路が実質的に前記導波路の全体を含むように、前記活性領域に隣接するp-クラッド層を含む、請求項1に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記活性領域に隣接するグレーテッドインデックス形屈折率プロファイルをさらに含む、請求項1~4のうちいずれか一項に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記活性領域に隣接するステップインデックス屈折率プロファイルをさらに含む、請求項1~4のうちいずれか一項に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記活性領域に隣接する非対称グレーテッドインデックス形屈折率プロファイルをさらに含む、請求項4に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記活性領域に隣接する非対称ステップインデックス屈折率プロファイルをさらに含む、請求項4に記載のLOCレーザダイオード。
- 大光共振器(LOC)レーザダイオードであって、
前記LOCレーザダイオードは、基本モードでレーザ放出し、一次およびより高次のモードのレーザ放出を前記LOCレーザダイオードから出射された光学ビームの速軸に沿って抑制するように構成され、前記LOCレーザダイオードは、
前記LOCレーザダイオードのp-側、前記レーザダイオードのn-側、および前記p-側と前記n-側との間に配置された活性領域によって規定された光共振器と、
前記p-側へ向かってオフセットされる量子井戸を有するLOC導波路と、を含み、
前記LOC導波路は、二重導波路のうち少なくとも一部を形成する前記n-側上に設けられた1組のn-導波層を有し、前記1組のn-導波層は、前記一次およびより高次のモードへ付加された光学利得が、前記基本モードへ適用される光学利得に相対して低減される外側n-導波層および内側n-導波層を含む、レーザダイオード。 - 前記内側n-導波層は、前記活性領域と前記外側n-導波層との間に前記活性領域および前記外側n-導波層に隣接して位置し、前記外側n-導波層および前記内側n-導波層は、それぞれ第1の屈折率および第2の屈折率を有し、前記外側n-導波層の第1の屈折率は、前記内側n-導波層の第2の屈折率よりも低い、請求項9に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記二重導波路は、非対称屈折率を有する、請求項9または10に記載のLOCレーザダイオード。
- 隣接n-クラッド層をさらに含み、前記隣接n-クラッド層は、外側クラッド層および内側クラッド層を含み、前記内側クラッド層は、前記外側n-導波層と前記外側クラッド層との間に前記外側n-導波層および前記外側クラッド層に隣接して位置し、前記外側クラッド層および前記内側クラッド層はそれぞれ、第1の屈折率および第2の屈折率を有し、前記外側クラッド層の第1の屈折率は、前記内側クラッド層の第2の屈折率よりも高く、前記一次モードの有効屈折率よりも高いため、少なくとも前記内側n-導波層からこれをアウトカップルする、請求項9または10に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記1組のn-導波層により、整合する屈折率を有しかつ前記1組のn-導波層よりも屈折率が低いクラッド層によって分離された対称導波路のうち少なくとも一部が形成される、請求項9に記載のLOCレーザダイオード。
- 前記クラッド層は、前記n-側へオフセットされるため、前記二重導波路の第1の部分は、前記二重導波路の第2の部分よりも幅広であり、前記第1の部分は、前記内側n-導波路およびp-導波層を含み、前記第2の部分は、前記外側n-導波層を含む、請求項13に記載のLOCレーザダイオード。
- 請求項1または9に記載の大光共振器(LOC)レーザダイオードを含むダイオードレーザアセンブリ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862677748P | 2018-05-30 | 2018-05-30 | |
US62/677,748 | 2018-05-30 | ||
PCT/US2019/034731 WO2019232261A1 (en) | 2018-05-30 | 2019-05-30 | Large optical cavity (loc) laser diode having quantum well offset and efficient single mode laser emission along fast axis |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021525962A JP2021525962A (ja) | 2021-09-27 |
JP7361728B2 true JP7361728B2 (ja) | 2023-10-16 |
Family
ID=66913041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020566703A Active JP7361728B2 (ja) | 2018-05-30 | 2019-05-30 | 量子井戸オフセットおよび効率的な単一モードレーザ発光を速軸に沿って有する大光共振器(loc)レーザダイオード |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190372309A1 (ja) |
EP (1) | EP3804055A1 (ja) |
JP (1) | JP7361728B2 (ja) |
CN (1) | CN112514183A (ja) |
WO (1) | WO2019232261A1 (ja) |
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- 2019-05-30 EP EP19731508.8A patent/EP3804055A1/en active Pending
- 2019-05-30 WO PCT/US2019/034731 patent/WO2019232261A1/en unknown
- 2019-05-30 JP JP2020566703A patent/JP7361728B2/ja active Active
- 2019-05-30 US US16/427,211 patent/US20190372309A1/en active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019232261A1 (en) | 2019-12-05 |
EP3804055A1 (en) | 2021-04-14 |
JP2021525962A (ja) | 2021-09-27 |
CN112514183A (zh) | 2021-03-16 |
US20190372309A1 (en) | 2019-12-05 |
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