JP7356991B2 - 計器の光源を位置合わせするための方法および関連する機器 - Google Patents

Description

関連出願
本出願は、２０１８年３月１４日に提出された、米国仮出願第６２／６４２，７２８号の利益およびその優先権を主張し、その内容は、あたかも本明細書に完全に列挙されるかのように、参照により本明細書に組み込まれている。

本発明は、質量分析計、およびユーザからの隔離が望ましい他のシステムに関する。

質量分析計は、試料をイオン化し、その後、形成されたイオンの収集物の質量電荷比を求める装置である。よく知られる質量分析計は、飛行時間型質量分析計（ＴＯＦＭＳ）であり、この場合、イオンの質量対電荷比は、イオン源から検出器まで電界（例えば、パルスまたは静電界）の影響下でこのイオンを伝達するのに必要とされる時間の量によって求められる。ＴＯＦＭＳにおけるスペクトル品質は、フィールドフリードリフト領域に入るように加速する前のイオンビームの最初の状態を反映する。具体的には、同じ質量のイオンが異なる運動エネルギーを有する、および／または空間内の異なる地点から加速される結果となるいかなる要因も、スペクトル分解能の低下を招く可能性があり、またこれにより質量の精度の損失を招く可能性もある。

マトリックス支援レーザー脱離イオン化（ＭＡＬＤＩ）は、質量分光分析のために気相生体分子イオンを生成するのによく知られた方法である。ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦのための遅延抽出（ＤＥ）の開発は、ＭＡＬＤＩベースの計器に関する高解像度の分析ルーチンを作成した。ＤＥ－ＭＡＬＤＩでは、レーザーによってトリガされるイオン化イベントと、ＴＯＦ源領域への加速パルスの印加との間に短い遅延が加えられる。高速（すなわち高エネルギー）イオンは、低速イオンより遠くに移動することになり、これにより、イオン化におけるエネルギー分布を加速時の空間的分布（抽出パルスの印加より前のイオン化領域における）に変換する。

米国特許第５，６２５，１８４号、第５，６２７，３６９号、第５，７６０，３９３号および第９，５３６，７２６号を参照されたい。またＷｉｌｅｙら、Ｔｉｍｅ－ｏｆ－ｆｌｉｇｈｔ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ ｗｉｔｈ ｉｍｐｒｏｖｅｄ ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ、Ｒｅｖｉｅｗ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ｖｏｌ．２６、ｎｏ．１２、ｐｐ．１１５０－１１５７（２００４）、Ｍ．Ｌ．Ｖｅｓｔａｌ、Ｍｏｄｅｒｎ ＭＡＬＤＩ ｔｉｍｅ－ｏｆ－ｆｌｉｇｈｔ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、ｖｏｌ．４４、ＮＯ．３、ｐｐ．３０３－３１７（２００９）、Ｖｅｓｔａｌら、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ ａｎｄ ｍａｓｓ ａｃｃｕｒａｃｙ ｉｎ ｍａｔｒｉｘ－ａｓｓｉｓｔｅｄ ｌａｓｅｒ ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ－ｔｉｍｅ－ｏｆ－ｆｌｉｇｈｔ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、ｖｏｌ．９、ＮＯ．９、ｐｐ．８９２－９１１（１９９８）、およびＶｅｓｔａｌら、Ｈｉｇｈ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ ｆｏｒ ｐｒｏｔｅｏｍｉｃｓ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、ｖｏｌ．２６８、ＮＯ．２、ｐｐ．８３－９２（２００７）も参照されたい。これらの文献の内容は、あたかも本明細書に完全に列挙されるかのように、参照により本明細書に組み込まれている。

本発明の実施形態は、計器の光源を位置合わせするための方法を対象としている。光源を含む計器のための方法は、光源からの光をプロセスチャンバ内の標的の場所に提供することを含んでよい。方法は、センサで光を受光することを含んでよい。方法は、センサからのデータを使用して、標的の場所での光の第１の位置を判定することを含んでよい。さらに、方法は、光を標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定することを含んでよい。

一部の実施形態において、光源はレーザーを含んでよい。光を提供することは、レーザーからの光を標的の場所に反射する反射面に、レーザーからの光を提供することを含んでよい。さらに、方法は、反射面の傾斜を調整して、レーザーからの光を標的の場所での第２の位置に調整することを含んでよい。

一部の実施形態において、レーザーは紫外線（ＵＶ）レーザーであってよい。反射面の傾斜を調整することは、標的の場所が、上にいかなる試料も含まない場所を含む間に行われてよい。さらに、方法は、ＵＶレーザーを使用して、プロセスチャンバ内の試料スライド上の試料の試料イオン化を行うことを含んでよい。

一部の実施形態において、傾斜を調整することは、反射面に結合されたアクチュエータを電子的に方向付けて、傾斜を調整することを含んでよい。さらに方法は、センサを使用することによってアクチュエータの動きを較正して、アクチュエータの順方向の動作または逆方向の動作から生じるピクセルの変化を判定することを含んでよい。

一部の実施形態において、傾斜を調整することは、光を計器の荷電粒子光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることを含んでよい。さらに、方法は、傾斜を調整した後、上に標的の場所を含むｘ－ｙ段を移動させて、段の基準特徴部を光および荷電粒子光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることを含んでよい。

一部の実施形態において、プロセスチャンバの端部部分は、標的の場所とセンサとの間にある窓を含んでよい。さらに光を受光することは、プロセスチャンバの端部部分の窓を通してセンサで光を受光することを含んでよい。

一部の実施形態において、センサは、光を捕らえるカメラであってよい、またはそのようなカメラのセンサを含んでもよい。方法は、カメラによって取り込まれた画像におけるピクセル内の標的の場所にある光のサイズを判定することを含んでよい。方法は、標的の場所にある光のサイズを調整することによって、標的の場所に光を集束させることを含んでよい。追加として、または代替として、計器は質量分析計であってよく、方法は、カメラを介して、試料スライドが質量分析計のｘ－ｙ段上に存在するかどうかを判定することを含んでよい。

一部の実施形態において、方法は、光を計器のイオン光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることを含んでよい。さらに、方法は、上に標的の場所を含むｘ－ｙ段を移動させて、ｘ－ｙ段の基準特徴部を光およびイオン光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることを含んでよい。

質量分析計のレーザーを位置合わせするための方法は、一部の実施形態によると、レーザーからのレーザービームをイオン化チャンバ内の標的の場所に提供することを含んでよい。方法は、カメラによってレーザービームの画像を取り込むことを含んでよい。方法は、カメラによって取り込まれた画像を使用して、標的の場所でのレーザービームの第１の位置を判定することを含んでよい。方法は、レーザービームを標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定することを含んでよい。さらに、方法は、レーザービームを標的の場所での第２の位置に調整することを含んでよい。

一部の実施形態において、イオン化チャンバの端部部分は、標的の場所とカメラとの間にある窓を含んでよい。さらに、レーザービームの画像を取り込むことは、イオン化チャンバの窓を通して、カメラにおいてレーザービームの画像を取り込むことを含んでよい。一部の実施形態において、カメラによって取り込まれたレーザービームは、少なくとも１つの反射面および／またはレンズから、少なくとも１つのイオン光学装置の開き口を通ってカメラに進んでよい。追加として、または代替として、レーザービームの画像を取り込むことは、イオン化チャンバが閉鎖され、かつ真空圧下にある間、イオン化チャンバ内の規定された場所でレーザービームのレーザースポットの画像を取り込むことを含んでよい。

計器は、一部の実施形態によると、光源を含んでよい。計器は、光源の光のために標的の場所を取り囲むチャンバを含んでよい。計器は光を受光するように構成されたセンサを含んでよい。さらに、計器は、センサからのデータを使用して、標的の場所での光の第１の位置を判定するように構成されたプロセッサを含んでよい。プロセッサは、光を標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定するようにさらに構成されてよい。

一部の実施形態において、光源は、紫外線（ＵＶ）レーザーを含んでよい。さらに、計器は、ＵＶレーザーからの光を標的の場所に反射するように構成された反射面を含んでよい。計器はまた、反射面に結合され、かつ反射面の傾斜を調整して、ＵＶレーザーからの光を標的の場所での第２の位置に調整するように構成されたアクチュエータも含んでよい。

一部の実施形態において、ＵＶレーザーは、チャンバ内の試料スライド上の試料のイオン化を行うように構成されてよく、チャンバは、真空圧下であってよい。さらに、チャンバの端部部分は、標的の場所とセンサとの間にある窓を含んでよい。追加として、または代替として、センサは、光を捕らえるように構成されたカメラであってよい、またはそのようなカメラのセンサを含んでもよい。

一部の実施形態において、計器は質量分析計であってよく、プロセッサは、カメラからのデータを使用して、試料スライドが質量分析計のｘ－ｙ段上に存在するかどうかを判定するように構成されてよい。ｘ－ｙ段は、カメラとイオン光学系との間にある円形の開放した開き口を備えたベースプレートを有してよい。

一部の実施形態において、計器は、少なくとも１つの開き口を含むイオン光学系を含んでよい。計器は、上に標的の場所を含むｘ－ｙ段を含んでよい。さらに、プロセッサは、ｘ－ｙ段の動きを制御して、ｘ－ｙ段の基準特徴部を光およびイオン光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせするように構成されてよい。

一部の実施形態において、計器は、質量分析計であってよく、光源は、質量分析計のレーザーを含んでよく、光は、レーザーのレーザービームを含んでよく、チャンバは、質量分析計のイオン化チャンバを含んでよい。さらに、質量分析計は、反射面を含んでよい。反射面は、レーザーからのレーザービームを標的の場所に反射するように構成されてよい。センサは、レーザービームの画像を取り込むように構成されたカメラであってよい、またはそのようなカメラのセンサを含んでもよい。プロセッサは、反射面の傾斜の調整を制御して、レーザービームを標的の場所での第２の位置に調整するように構成されてよい。

本発明の別の特徴、利点および詳細は、以下に続く図面および一例の実施形態の詳細な説明を読むことで当業者によって理解されると思われ、そのような説明は、本発明の単なる例示である。

一実施形態に関して説明される本発明の態様は、異なる実施形態に組み込まれる場合もあるが、それに対しては具体的に説明されていないことに留意されたい。すなわち、すべての実施形態および／または任意の実施形態の特徴は、何らかの方法で組み合わせることができる、および／または何らかの組合せであり得る。出願人は、最初に提出されたクレームを変更する、またはそれに応じて何らかの新たなクレームを提出する権利を保有しており、そこには、そのような方法で最初はクレーム請求していないが、何らかの他のクレームの任意の特徴に従属する、および／またはそのような特徴を組み込むようにいずれの最初に提出したクレームを補正することができる権利も含まれている。本発明のこのような、および他の目的および／または態様は、以下に記載される明細書に詳細に説明される。

本発明の実施形態による、計器の斜視図である。 本発明の実施形態による、計器と、光源との斜視図である。 本発明の実施形態による、計器と、光源との概略図である。 本発明の実施形態による、図２Ａの計器のプロセッサ制御システムのブロック図である。 本発明の実施形態に従って使用され得る一例のプロセッサと、メモリとのブロック図である。 本発明の実施形態による、計器と、光源との概略図である。 本発明の実施形態による、計器のチャンバの内部の部分的な断面の斜視図である。 本発明の実施形態による、カメラからの視野からの、図３Ａのチャンバ内への図である。 本発明の実施形態による、信号が、図３Ａの１つまたは複数の開き口を通過する、図３Ａに示されるチャンバの拡大図である。 本発明の実施形態による、計器のチャンバの内部に備わっているｘ－ｙ段の平面図である。 本発明の実施形態による、カメラの視野からの、図３Ａのチャンバ内への図である。 本発明の実施形態による、計器を動作させるための一例の方法のフローチャートである。

本発明は次に、添付の図面を参照して、以下でより完全に説明され、図面では、本発明の例示の実施形態が示されている。同様の数字は、同様の要素を指しており、同様の要素の異なる実施形態は、上付き文字の指標となるアポストロフィの異なる数字（例えば１０、１０’、１０’’、１０’’’）を使用して示すことができる。

従来のレーザーの位置合わせプロセスは、質量分析計の取得チャンバ／イオン化チャンバの内部のイオン光学装置の代わりに適合するカスタムツールを使用してよい。そのようなツールの使用は、レーザーの位置合わせ中にチャンバを大気圧へと開放させる必要がある場合があり、よって、ユーザを潜在的なレーザーの安全上の危険に曝し、かつレーザーの位置合わせが完了した後、作動圧力（例えば真空圧）に達するための時間を増大させる。チャンバが大気圧に長時間曝されるほど、作動圧力に達するのにより時間がかかることになる。しかしながら本発明の実施形態によると、チャンバが閉鎖され、かつ真空圧下にある間でも、レーザー（または他の光源）を位置合わせすることができ、これによりユーザを潜在的な安全上の危険から保護し、かつプロセスから通気の時間および空気を押し出す時間を削減する／なくすことになる。一般的に言えば、光源は、チャンバの内部で特定のスポットに集束されてよい。

図１Ａおよび図１Ｂは、質量分析計１０Ｍなどの一例の計器１０を例示する。図１Ａに示されるように、計器１０は、ユーザインターフェースを備えたディスプレイ１０ｄを有する前面壁１０ｆを備えた筐体１０ｈを含む。筐体１０ｈはまた、スライドを受け入れるようにサイズが決められ、そのように構成され得る少なくとも１つの試料標本の入り口１０ｐも有する。１つまたは複数の出入り口１０ｐが使用されてよい。各出入り口１０ｐは、分析のための標本スライド（例えば図２Ａの試料プレート２３０）の入り口のみとして、出口のみとして、または入り口と出口の両方として構成される場合がある。

図１Ｂに示されるように、計器１０は、本発明の実施形態によって、少なくとも１つの光源２０を使用してよい。一部の実施形態において、計器１０は、質量分析計１０Ｍであってよく、筐体１０ｈは、質量分析計１０Ｍのためのスライドを受け入れるように構成された少なくとも１つの試料標本入り口１０ｐを含んでよい。例えば質量分析計１０Ｍは、テーブル３０によって示されるように、卓上型の質量分析計であってもよい。さらに計器１０の１つまたは複数の部分は、真空ポンプ６０を介して所望の圧力になるように空気が注入される／空気が汲み出されてもよい。真空ポンプ６０および／または光源２０は、筐体１０ｈに（例えばその内部に）搭載されてよい、または計器１０に対する外部の差し込み式の構成要素として設けられる場合もある。

少なくとも１つの光源２０は、計器１０の内部でイオンを生成するために光を提供することができる。例えば、光源２０は、計器１０にレーザー光を供給するレーザー２０ＬＳを備えてよい。一例として、レーザー２０ＬＳは、３２０ナノメートル（ｎｍ）を超える波長を有する紫外線（ＵＶ）レーザーなどの固体レーザーであってもよい。一部の実施形態において、固体レーザー２０ＬＳは、およそ３４７ｎｍからおよそ３６０ｎｍの波長でレーザービームを生成することができる。固体レーザー２０ＬＳは、代替として、赤外線レーザーまたは可視光レーザーである場合もある。

さらに、用語「光源」および「レーザー」が本明細書の実施例を考察するために使用されるが、光源２０は、計器１０の内部の標的／装置に光／エネルギーを供給することによって、計器１０の内部に荷電粒子を生成する任意のタイプの供給源を備えてもよい。例えば光源２０は、計器１０内で試料プレート２３０（図２Ａ）に種々のタイプの光／エネルギーのパルスの１つを提供して荷電粒子のパルスを生成するように構成されてよい。光源２０は、集束光源またはコリメート光源であってよい。

一部の実施形態において、光源２０および試料プレート２３０は、光源２０からの光が試料プレート２３０に向けられてイオンを生成し得るとき、まとめて（またはさらには個別でも）「イオン源」と呼ばれる場合もある。一例として、試料プレート２３０は、計器１０によって分析することができる「試料スライド」と本明細書では呼ばれてよく、光源２０は、試料スライド２３０で試料イオン化を行うように構成されてよい。

図２Ａは、計器１０と、光源２０との概略図を示す。計器１０は、チャンバ２１０を含んでおり、これは、「取得チャンバ」、「プロセスチャンバ」、「真空チャンバ」、「減圧下のチャンバ」または「真空のチャンバ」であってよい。チャンバ２１０の内部には、試料プレート２３０（または他の標的の場所２３０Ｔ）と、イオン光学系２２０とがあり、これは、本明細書では、「イオン光学装置」または「イオン光学組立体」と呼ばれる場合もある。試料プレート２３０は、光源２０の光／エネルギー２０Ｌの標的であってよい。チャンバ２１０は、真空圧下にある間、試料プレート２３０を取り囲んでよい。

イオン光学系２２０は、光源２０から光／エネルギー２０Ｌを受け取り、光／エネルギー２０Ｌを試料プレート２３０に誘導するように構成されてよい。光／エネルギー２０Ｌによって、イオン光学系２２０を通り、フライト管２５０を通り、検出器２６０へと進むイオンを試料プレート２３０に生成させることができる。図２Ａに示されるように、試料プレート２３０は、取得チャンバ２１０の第１の端部２１０Ｅに隣接してよい。取得チャンバ２１０の第１の端部２１０Ｅおよび検出器２６０の第２の端部２６０Ｅは、計器１０の反対の位置にある端部／部分であってよい。

第１の端部２１０Ｅに隣接するセンサ２４０は、光／エネルギー２０Ｌを受け取るように構成されてよい。例えば、センサ２４０は、光／エネルギー２０Ｌの画像を捕らえ、取り込むように構成されたカメラ２４０Ｃであってよい（またはカメラ２４０Ｃのセンサであってもよい）。

カメラ２４０Ｃが本明細書の一部の例に記載されているが、図２Ｄに示されるように、センサ２４０は代わりにフォトダイオードまたは他の光学センサ／検出器２４０Ｄである場合もあり、小さい開き口２４０Ａ（または一連の開き口２４０Ａ）がカメラ２４０Ｃの代わりに使用されてもよい。例えば、開き口（複数可）２４０Ａは、光／エネルギー２０Ｌが開き口（複数可）２４０Ａを通過するときのみ、フォトダイオード（または他の光学センサ／検出器２４０Ｄ）によって信号が生成されるように配置することができる。視差による誤差が心配ならば、一連の開き口２４０が有利であり得る。

各開き口２４０Ａは、５０マイクロメートル（μｍ）から２ミリメートル（ｍｍ）の間の直径／長さを有することができる。しかしながら、開き口２４０Ａは、必ずしも同一サイズである必要はない。むしろ異なる開き口２４０Ａが、５０μｍから２ｍｍの範囲内の異なるサイズをそれぞれ有する場合もある。図２Ｄは、一連の３つの開き口２４０Ａを示しているが、異なる数（例えば２つ、４つまたはそれ以上）の開き口２４０Ａが一連になっていてもよい。

一部の実施形態において、光／エネルギー２０Ｌは、第１の端部２１０Ｅ上の窓２１０Ｗを通過してセンサ２４０に入射してもよい。窓２１０Ｗは、標的２３０Ｔとセンサ２４０との間にあってよく、光学的に透過性のガラス、プラスチックおよび／または別の物質、あるいは光／エネルギー２０Ｌがセンサ２４０まで進むことを可能にする開放空間を含んでよい。

さらに、一部の実施形態において、計器１０は質量分析計１０Ｍであってよく、標的２３０Ｔは、試料プレート２３０であってよく、プロセッサ２７０（図２Ｂ）は、カメラ２４０Ｃからのデータを使用して、試料スライド２３０が質量分析計１０Ｍのｘ－ｙ段３１５（図３Ａ）上に存在するかどうかを判定するように構成されてよい。

チャンバ２１０の内部のイオン光学系２２０は、抽出プレートおよびバックバイアスプレートなどの構成要素を含んでよい。さらに、イオン光学系２２０は、そらせ板プレートを含んでもよく、そらせ板プレートは、一部の実施形態において、イオン光学系２２０から省略される、または取り外し可能な場合もある。

本明細書の一部の例は、試料プレート２３０上の試料を記載しているが、光２０Ｌは一部の実施形態において、試料プレート２３０の代わりにテストプレートまたは他の標的２３０Ｔに誘導される場合もある。例えば、標的２３０Ｔに対する光源２０の光２０Ｌの位置合わせの動作中、いかなる試料も存在しないチャンバ２１０の内部に光２０Ｌを提供することが望ましい場合がある。したがって試料プレート２３０は、チャンバ２１０に存在しない場合がある、または位置合わせ中、空の／テストスライドである場合もある。標的２３０Ｔはしたがって、そうでなければ典型的には通常の動作中に試料がみつかるチャンバ２１０の内部の位置／領域／場所であってよい。

追加として、または代替として、光源２０、センサ２４０およびチャンバ２１０の組合せは、一部の実施形態において、位置合わせシステムなどの「システム」と呼ばれる場合もある。さらにセンサ２４０は、真空チャンバ２１０の外側にあってよいので、センサ２４０は大気圧であってよい。

光源２０およびセンサ２４０に加えて、計器１０の反射面３１２（図３Ａ）も、真空チャンバ２１０の外側にあってよい。一部の実施形態において、反射面３１２は作動させることができるのに対して、計器１０の別の反射面３１３（図３Ａ）は固定されてよい。したがって反射面３１２は両方とも、１つまたは複数のアクチュエータ２８０（図２Ｂ）によるなどして作動されてよく、かつチャンバ２１０の外側にあってよい。

図２Ｂは、プロセッサ制御システム２７０Ｃのブロック図を示す。プロセッサ制御システム２７０Ｃは、１つまたは複数のプロセッサ２７０を含んでよく、１つまたは複数のプロセッサ２７０は、計器１０の内部および／または外部であってよい。プロセッサ（複数可）２７０は、計器１０の光源２０、センサ２４０および／または１つまたは複数のアクチュエータ２８０（例えば圧電アクチュエータまたはステップモータ）と通信するように構成されてよい。例えば、プロセッサ（複数可）２７０は、センサ２４０からデータを受け取り、これを処理するように構成されてよく、光源２０および／またはアクチュエータ（複数可）２８０の動作は、プロセッサ（複数可）２７０の制御の下で行われてよい。一例として、プロセッサ２７０は、センサ２４０からのデータを使用して、標的２３０Ｔでの光２０Ｌの第１の位置を判定する、ならびに光２０Ｌを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整するかどうかを判定するように構成されてよい。

図２Ｃは、本発明の種々の実施形態に従って使用され得る一例のプロセッサ２７０と、メモリ２９０とのブロック図を示す。プロセッサ２７０は、アドレス／データバス２９５を介してメモリ２９０と通信する。プロセッサ２７０は、例えば市販のプロセッサ、またはカスタムマイクロプロセッサであってよい。さらにプロセッサ２７０は、複数のプロセッサを含んでもよい。メモリ２９０は、本明細書に記載されるような種々の機能を果たすのに使用させるソフトウェアおよびデータを含むメモリデバイスの総体的な階層を表している。メモリ２９０は、限定するものではないが、以下のタイプのデバイス、すなわちキャッシュ、ＲＯＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュ、スタティックＲＡＭ（ＳＲＡＭ）およびダイナミックＲＡＭ（ＤＲＡＭ）を含んでもよい。

図２Ｃに示されるように、メモリ２９０は、オペレーティングシステム２９３などのソフトウェアおよびデータの様々なカテゴリを保持してよい。オペレーティングシステム２９３は、計器１０の動作を制御することができる。詳細には、オペレーティングシステム２９３は、計器１０のリソースを管理してもよく、プロセッサ２７０によって種々のプログラムの実施を調整してもよい。

一部の実施形態において、計器１０は、ＵＶレーザー２０ＬＳからの光２０Ｌを標的２３０Ｔに反射するように構成された少なくとも１つの反射面３１２／３１３（図３Ａ）を含んでよい。さらに、１つまたは複数のアクチュエータ２８０が、反射面３１２に結合され、反射面３１２の傾斜を調整して、ＵＶレーザー２０ＬＳからの光２０Ｌを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整するように構成されてよい。詳細には、反射面（複数可）３１２／３１３および／またはレンズ３１１（図３Ａ）は、信号（例えば、光２０Ｌ）を標的２３０Ｔに関連付けられたスポットに集束させるように調整されてよい。ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦにも使用され得る、ＵＶレーザー２０ＬＳが一例として提供されているが、カメラ２４０Ｃが、レーザー２０ＬＳの放出される波長に対して高感度である限り、いずれのレーザー２０ＬＳも使用することができる。さらに、一部の実施形態において、レーザー２０ＬＳの影響の下で蛍光を放つ材料が使用されてもよい。したがってカメラ２４０Ｃは追加として、または代替として、蛍光イベントによって放出される光の波長に対して高感度であってよい。

追加として、または代替として、イオン光学系２２０は、１つまたは複数の開き口３１４（図３Ａ）を含んでよく、チャンバ２１０は、上に標的２３０Ｔを有する段３１５（図３Ａ）を含んでよい。一部の実施形態において、プロセッサ２７０は、段３１５の動きを制御して、段３１５の基準特徴部３１５Ｆ（図３Ｂ）を光２０Ｌおよびイオン光学系２２０の開き口（複数可）３１４と位置合わせするように構成されてよい。

図３Ａは、計器１０のチャンバ２１０の内部の部分的な断面の斜視図を示す。チャンバ２１０は、集束レンズ３１１を含んでよく、集束レンズ３１１は、アクチュエータ２８０（図２Ｂ）に結合され、信号（例えば、光２０Ｌ）の焦点を調整するように構成されてよい。計器１０はまた、第１の反射面３１２および第２の反射面３１３を含んでもよい。第１の反射面３１２はチャンバ２１０の外側にあってよく、入射ビームの一部をチャンバ２１０の中に反射してよい。第１の反射面３１２は、反射面３１２を傾斜させて入射ビームを特定の方向に向けるのに使用することができる１つまたは複数のアクチュエータ２８０（図２Ｂ）に結合された回転可能な（すなわち、調整可能な）反射面（またはビームスプリッタ）であってよい。第２の反射面３１３はチャンバ２１０の内側にあってよく、これもまた回転可能な反射面／プリズムであってよい。しかしながら、一部の実施形態において、第２の反射面３１３は、回転不能な場合もある。したがって第２の反射面３１３は、チャンバ２１０の内部に固定されて、反射された入射ビームに関する方向の変更を行う場合もある。

光２０Ｌは、レンズ３１１から第１の反射面３１２、第２の反射面３１３に進み、その後イオン光学系２２０の中を通過してよい。例えば、光２０Ｌは、イオン光学系２２０の１つまたは複数の開き口３１４（例えば第１の開き口３１４－１、第２の開き口３１４－２、および第３の開き口３１４－３）を通過し、標的領域（例えば、標的２３０Ｔを含む）を通過し、そしてカメラ２４０Ｃ上へと進んでよい。詳細には、図３Ａは、光２０Ｌが試料プレート２３０を通過してカメラ２４０Ｃに向かって進むときの、光２０Ｌのビーム路２０ＢＰを示している。試料プレート２３０は、光２０Ｌのビーム路２０ＢＰを遮ることなく試料プレート２３０を支えるｘ－ｙ段３１５の上にあってよい。カメラ２４０Ｃによって検出された、または捕らえられた光２０Ｌによって、プロセッサ（複数可）２７０（図２Ｂ）に、光源２０からの光２０Ｌの位置合わせを調整させることができるため、カメラ２４０Ｃは、「位置決めカメラ」と本明細書では呼ばれてもよい。

示されるように、光２０Ｌのビーム路２０ＢＰは、ｚ方向に試料プレート２３０およびカメラ２４０Ｃまで延びている。カメラ２４０Ｃのセンサは、ｚ方向に上向きにｘ－ｙ段３１５の方に向いてよく、ｘ－ｙ段３１５は、互いに直交し、かつｚ方向とも直交するＸ方向およびＹ方向に延びる。カメラ２４０Ｃは、真空チャンバ２１０の下に（ｚ方向に）設置されているように示されているが、カメラ２４０Ｃは代替として他の場所に設置され、光源２０の光２０Ｌの位置合わせを捕らえることを可能にする光学装置と共に使用されてよい。さらに、上にいかなる試料も含まない標的２３０Ｔが、一部の実施形態において、位置合わせ中にｘ－ｙ段３１５上にあってもよい。ビーム路２０ＢＰはしたがって、試料プレート２３０以外の標的２３０Ｔを通過して延びる場合もある。

図３Ｂは、カメラ２４０Ｃの視野からの、図３Ａのチャンバ２１０内への図を示す。一部の実施形態において、光源２０は、その光２０Ｌがカメラ２４０Ｃによって認識されるレーザースポット２０ＬＳＰを提供するレーザー２０ＬＳであってよい。具体的には、レーザースポット２０ＬＳＰが、カメラ２４０Ｃの視野内にあるとき、レーザースポット２０ＬＳＰは、カメラ２４０Ｃによって生成される画像内の対象物として現れてよい。例えば、カメラ２４０Ｃによって認識されるレーザースポット２０ＬＳＰは、チャンバ２１０内の規定された場所（例えば、標的２３０Ｔに）にあってよい。

さらに、本明細書の一部の例はＵＶレーザー２０ＬＳを記載しているが、撮像面に生じるスポット２０ＬＳＰのサイズが光源２０の正確な位置合わせのために十分である限り、発光ダイオード（ＬＥＤ）または他の光源２０が、光学装置と共に、またはそれなしで使用されてもよい。カメラ２４０Ｃによる図３Ｂに見られる平面は、図３Ａのｚ方向に直交するｘ方向およびｙ方向によって提供されるＸ－Ｙ面である。

図３Ｂに示されるように、カメラ２４０Ｃは、ｘ－ｙ段３１５を捕らえることができる。詳細には、図３Ｂは、カメラ２４０Ｃが、段３１５の基準特徴部３１５Ｆと位置合わせされているとき、またはそうでなければ基準特徴部３１５Ｆの上にあるとき、レーザースポット２０ＬＳＰを捕らえているのを示す。

基準特徴部３１５Ｆは、光２０Ｌに対して光学的に透過性（例えば半透明または透明）である段３１５の一部上であってよい、またはその部分を囲んでもよい。例えば、段３１５は、開き口および／または光学的に透過性の材料を含む部分３１５ＴＰ（図３Ｃ）を含んでよく、光２０Ｌはそこを通り抜けてカメラ２４０Ｃまで進むことができる。基準特徴部３１５Ｆは、レーザースポット２０ＬＳＰより広い直径を有してよい。さらに、イオン光学系２２０の第１の開き口３１４－１および第２の開き口３１４－２は各々、基準特徴部３１５Ｆより広い直径を有してよい。示されるように、第１の開き口３１４－１は、第２の開き口３１４－２より広い直径を有してよい。一部の実施形態において、光２０Ｌがそこを通ってカメラ２４０Ｃに進む、イオン光学系２２０の追加の（例えば第４、第５などの）開き口３１４が設けられ、ｚ方向に位置合わせされてもよい。

図３Ｃは、信号（例えば光２０Ｌ）が図３Ａの１つまたは複数の開き口３１４を通過する、図３Ａに示されるチャンバ２１０の拡大図を示す。詳細には、図３Ｃは、試料プレート２３０が段３１５にないことを示している。したがって本明細書に記載される位置合わせは、試料が段３１５にない間に行われてよい。図３Ｃに示されるように光２０Ｌは、イオン光学系２２０の第１の開き口３１４－１、第２の開き口３１４－２および第３の開き口３１４－３を通過し、その後、光２０Ｌがカメラ２４０Ｃに到達するのを可能にする段３１５の部分３１５ＴＰを通過する。一部の実施形態において、部分３１５ＴＰは、ｘ－ｙ段３１５のベースプレート内の実質的に円形の窓（例えば、開放した開き口）であってよい。実質的に円形の窓は、光２０Ｌが適切に集束されたとき、レーザースポット２０ＬＳＰと同心であってよい。

１つまたは複数の開き口３１４は、先細になったチャネルを有してよい（すなわちチャネルは、複数の直径を有してよい）。例えば、第２の開き口３１４－２は、先細になったチャネルを有するように図３Ｃに示されている。しかしながら、第１の開き口３１４－１、第２の開き口３１４－２および第３の開き口３１４－３の各々の最小の（例えば最も狭い）直径は、ｘ－ｙ段３１５内の部分（例えば窓／チャネル）３１５ＴＰ の直径より広くてもよい。

一部の実施形態において、図３Ｂにおける基準特徴部３１５Ｆは、図３Ｃにおけるチャネル３１５ＴＰであってもよい。したがって基準特徴部３１５Ｆは、ｘ－ｙ段３１５と共に移動することができる。特徴部３１５Ｆは、レーザースポット２０ＬＳＰを所与の試料の場所の上に向けるために、段３１５をどこに移動させるべきかをシステムに知らせることが可能であり得る。質量中心２０ＬＳＰが開き口３１４と同心になるように、レーザースポット質量中心２０ＬＳＰを最初に、カメラ２４０Ｃを使用して開き口３１４と位置合わせすることができる。基準特徴部３１５Ｆがレーザースポット質量中心２０ＬＳＰおよび開き口３１４の両方と同心になるように、段３１５をその後位置決めすることができる。結果として生じる段位置は、その後、元の位置（０，０）として記憶することができる。段３１５上に挿入された試料スライド２３０上の所与の場所の位置は、基準特徴部３１５Ｆの位置に対して知られているため、および基準特徴部３１５Ｆは、動作中、試料スライド２３０に対して移動する可能性がないため、段３１５は、取得のために所与の試料の場所を確実に位置決めすることができる。

図３Ｄは、計器１０のチャンバ２１０の内部に存在し得るｘ－ｙ段３１５の平面図である。図３Ｄに示されるように、計器１０の試料スライド２３０は、段３１５の走査中心３１５Ｓに対してｘ方向に、および段３１５の前方３１５ＦＦに対しておよびｙ方向に移動してよい。一例として、試料スライド２３０は、ｚ方向に走査中心３１５Ｓと位置合わせされるように移動してよく、走査中心３１５Ｓは、光源２０からの光２０Ｌが通過し得る開放したスルーチャネル３１５Ｗを備えてよい。例えば走査中心３１５Ｓは、図３Ｃに示される段３１５の部分３１５ＴＰを備えてもよい。

窓３１５Ｗは、およそ４３ｍｍの直径であってよく、これは、ｘ－ｙ段３１５の下面のはっきりとした視界を提供するのに十分な大きさである。チャネル３１５Ｐは、およそ１．０ｍｍの直径およびおよそ４ｍｍの長さ／深さであってよい。窓３１５Ｗもチャネル３１５ＴＰも共に、円形であり得る。このような形状は、特に開き口３１４が使用される場合、チャネル３１５ＴＰにとってとりわけ有利であり得る。

図３Ｅおよび図３Ｆは、本発明の実施形態による、カメラ２４０Ｃの視野からの、図３Ａのチャンバ２１０内への図を示す。詳細には、図３Ｅおよび図３Ｆは、ｘｙ－段３１５上のノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１および３１５Ｆ－２を示している。したがってｘｙ－段３１５上でスルーホールの開き口を使用するのではなく、ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１および３１５Ｆ－２は、カメラ２４０Ｃが検出するための２つの不透明な基準特徴部を提供する。

図３Ｅは、ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１および３１５Ｆ－２のいずれもイオン光学装置軸３１４Ａに対して位置合わせされない配置を示す。図３Ｆは一方で、ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１がイオン光学装置軸３１４Ａに対して位置合わせされているのを示す。イオン光学装置軸３１４Ａおよびノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１は、図３Ｅおよび図３Ｆにおいて、計器１０の使用中は目に見えない可能性がある十字線によって強調されている。

ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１および３１５Ｆ－２は、不透明な熱可塑性物質、例えばブラックＤＥＬＲＩＮ（登録商標）樹脂などを、ｘｙ－段３１５の反射性の／黒以外の金属（例えばアルミニウム）のアームにドリルで穿孔されたスルーホールに圧入し、これによりカメラ２４０Ｃが検出し易いように十分なコントラストを提供することによって実現されてよい。ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１は、図３Ｆにおいて位置合わせされる唯一の基準特徴部であるが、任意の数の任意の種類の形状のノンスルーホール基準特徴部のいかなる配置も使用することができる。さらに、複数のノンスルーホール基準特徴部を使用することによって、角度補正を行うことも可能になる。

ノンスルーホール基準特徴部３１５Ｆ－１および３１５Ｆ－２は、光学的に不透明であるため、それらは、ｘｙ－段３１５をレーザースポット２０ＬＳＰに直接位置合わせするのに必ずしも使用されない。レーザースポット２０ＬＳＰは代わりに、イオン光学装置開き口（複数可）３１４－１／３１４－２の中心と位置合わせされてよい。ｘｙ－段３１５は、イオン光学装置開き口（複数可）３１４－１／３１４－２の中心と別個に位置合わせされてよい。わずかな調整（オフセット）がその後行われて、スペクトル取得性能を微調整してもよい（すなわち、撮像システムによって検出されるとき、最良の品質の信号／結果は、上記に挙げた構成要素および特徴部の完全な位置合わせと必ずしも一致しない場合もある）。

図１Ａ～図３Ｆを参照すると、計器１０は一部の実施形態において質量分析計１０Ｍであってよく、光源２０は、質量分析計１０Ｍのレーザー２０ＬＳであってよい。したがって、光２０Ｌは、レーザー２０ＬＳのレーザービームを提供してよく、チャンバ２１０は、質量分析計１０Ｍのイオン化チャンバを提供してよい。質量分析計１０Ｍは、イオン化チャンバの外側に反射面３１２を含んでよく、反射面３１２は、レーザー２０ＬＳからのレーザービームをイオン化チャンバの内部の標的２３０Ｔに反射するように構成されてよい。さらにセンサ２４０は、レーザービームの少なくとも１つの画像を取り込むように構成されたカメラ２４０Ｃのセンサを備えてよく（例えば、レーザービーム画像の取り込みに加えて、カメラ２４０Ｃのセンサは、基準系を取り込むように構成されてよい）、プロセッサ２７０は、反射面３１２の傾斜の調整を制御して、レーザービームを標的２３０Ｔでの第１の位置から標的２３０Ｔでの第２の位置に調整するように構成されてよい。例えば、標的２３０Ｔでの第２の位置は事前に決められた位置であってよく、第１の位置は、レーザービームを調整するかどうかを判定するために、事前に決められた第２の位置と比較される測定された位置であってよい。一部の実施形態において、第１および第２の位置は、横切ったピクセルの質量中心／数によって互いに関係付けられてよい。

本明細書に記載される方法（複数可）は、質量分析系に対して使用されてよい。例えば、レーザー２０ＬＳの焦点を変えることによってレーザースポット２０ＬＳＰのサイズを制御する際、ユーザを隔離するのが望ましい場合がある。しかしながら、ユーザをプロセスから隔離するのが望ましい任意のシステム／計器が、この方法（複数可）を使用する場合がある。そのようなプロセスは、安全性および品質の理由のために、ユーザの保護を問題にする高い真空圧、高圧および危険を伴うレーザーエネルギーを伴う可能性がある。追加として、または代替として、そのようなプロセスは、危険を伴う蒸気、または汚染物質の封じ込め、または汚染物質からの保護が望ましい他の物質の使用を伴う場合もある。

図４Ａ～図４Ｈは、計器１０を動作させるための一例の方法のフローチャートを示す。一部の実施形態において、図２Ｃのメモリ２９０は、プロセッサ（複数可）２７０によって実行される際、プロセッサ（複数可）２７０に図４Ａ～図４Ｈのうちのいずれかの方法（複数可）を実行させるコンピュータ可読プログラムコードを中に含む非一時的コンピュータ可読記憶媒体であってよい。

図４Ａを参照すると、方法は、光源２０を計器１０の内部にある標的２３０Ｔに対して位置合わせするための方法を含んでよい。詳細には、図４Ａに示される方法は、光源２０からの光２０Ｌを、閉鎖され、かつ真空圧下にある（ブロック４１０、４１５）チャンバ２１０内の標的２３０Ｔに提供すること（ブロック４２０）を含んでよい。図４Ａに示される方法はその後、チャンバ２１０が閉鎖され、かつ真空圧下にある（ブロック４１０、４１５）間、センサ２４０で光２０Ｌを受光すること（ブロック４３０）を含んでよい。図２Ａに例示されるように、ブロック４３０の動作（複数可）は、一部の実施形態において、チャンバ２１０の窓２１０Ｗを通して行われてよい。さらに、方法は、センサ２４０からのデータを使用して、標的２３０Ｔでの（または標的に２３０Ｔに隣接する）光２０Ｌの第１の位置を判定すること（ブロック４４０）、および光２０Ｌを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整するかどうかを判定すること（ブロック４５０）を含んでよい。

図４Ａに示されるように、方法は、ブロック４５０の動作（複数可）に応じて、反射面３１２（および／またはレンズ３１１もしくは他の光学構成要素）の傾斜を調整して、光源２０からの光２０Ｌを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整すること（ブロック４６０）を含んでよい。したがって、光源２０は、ブロック４１０～４６０の動作に基づいて計器１０の内部にある標的２３０Ｔに対して位置合わせされてよい。あるいは、反射面３１２（および／またはレンズ３１１）の傾斜の設定は、それが調整される必要がない場合（ブロック４５０）、例えば、標的２３０Ｔでの第１の位置がすでに第２の位置と位置合わせされている場合、または第２の位置の閾値の距離の範囲内にある場合などは維持されてもよい（ブロック４７０）。

本明細書で考察されるように、光源２０は、一部の実施形態において、ＵＶレーザー２０ＬＳを備えてよい。したがって光２０Ｌを提供する（ブロック４２０）動作（複数可）は、ＵＶレーザー２０ＬＳからの光２０Ｌを、ＵＶレーザー２０ＬＳからの光２０Ｌを標的２３０Ｔに反射する、チャンバ２１０の外側の反射面３１２に提供する（例えば発射する）ことを含んでよい。反射面３１２の傾斜を調整する（ブロック４６０）動作（複数可）がこれにより行われて、ＵＶレーザー２０ＬＳからの光２０Ｌを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整してよい。詳細には、光２０Ｌは、反射面３１２に入射する光であり、位置合わせされていない場合（ブロック４５０）、反射面３１２の傾斜を調整して（ブロック４６０）、標的２３０Ｔの位置／場所に対する光２０Ｌの位置合わせを拡大することができる。

図４Ｂを参照すると、反射面３１２の傾斜を調整する（ブロック４６０）動作（複数可）は、標的２３０Ｔがその上にいかなる試料も含まない間に行われてよい（ブロック４６１）。例えば、標的２３０Ｔは、空の／テストスライドであってよい、または単に段３１５上の特定の場所／位置であってもよい（すなわち段３１５の上にスライドがない場合）。その後、図４Ｂの方法は、チャンバ２１０を開き、上に試料を有する試料スライド２３０を挿入することを含んでよい（ブロック４８０）。方法はその後、ＵＶレーザー２０ＬＳを使用して、試料が試料スライド２３０上にある間、試料の試料イオン化を実行すること（ブロック４９０）を含んでよい。詳細には、図４Ａのブロック４６０またはブロック４７０の動作（複数可）を実行した後、図４Ａの位置合わせの検証／調整に使用される同一の光源２０（例えばＵＶレーザー２０ＬＳ）がその後使用されて、計器１０の内部の試料イオン化を行ってよい（ブロック４９０）。

図４Ｃを参照すると、反射面３１２の傾斜を調整する（ブロック４６０）動作（複数可）は、反射面３１２に結合されたアクチュエータ２８０を使用して行われてよい（ブロック４６２）。ブロック４６２の動作（複数可）は、アクチュエータ２８０を電子的に方向付けて／制御して反射面３１２の傾斜を調整し得ることで、光２０Ｌは標的２３０Ｔでの第２の位置に調整されることを含んでよい。さらに、一部の実施形態において、方法は、センサ２４０を使用することによってアクチュエータ２８０の動きを較正して、アクチュエータ２８０の前方または後方動作から生じるピクセルの移動／変化を判定する／追跡すること（ブロック４６３）を含んでよい。

図４Ｄを参照すると、反射面３１２の傾斜を調整する（ブロック４６０）動作（複数可）は、光２０Ｌを計器１０のイオン光学系２２０の１つまたは複数の開き口３１４と位置合わせすること（ブロック４６４）を含んでよい。例えば、ブロック４６４の動作（複数可）は、光２０Ｌを開き口（複数可）３１４の中で中心に置く、またはそれ以外の方法で位置決めすることを含んでよい。さらに、方法は、傾斜を調整した（ブロック４６０／４６４）後、上に標的２３０Ｔを有する段３１５を移動させて、段３１５の基準特徴部３１５Ｆを光２０Ｌおよびイオン光学系２２０の開き口（複数可）３１４と位置合わせすること（ブロック４６５）を含んでよい。したがって、１つまたは複数のアクチュエータ２８０を使用して行われてよいブロック４６５の動作（複数可）の後、光２０Ｌは、開き口（複数可）３１４を通って基準特徴部３１５Ｆへと進む。

図４Ｅを参照すると、本明細書の方法（複数可）は、カメラ２４０Ｃによって取り込まれた画像におけるピクセル内での標的２３０Ｔ上の光２０Ｌのサイズ（例えば幅）を判定すること（ブロック４６６）を含んでよい。例えばブロック４６６の動作（複数可）は、図３Ｂに示されるレーザースポット２０ＬＳＰの半径または直径を求めることを含んでよい。ブロック４６６の動作（複数可）は、ブロック４４０の動作（複数可）の前、および／またはその後に行われてよい。さらに、図４Ｅの方法はまた、標的２３０Ｔ上の光２０Ｌのサイズ（例えば幅）を調整することによって、標的２３０Ｔ上に光２０Ｌを集束させること（ブロック４６７）を含んでもよい。例えば、所望のレーザースポット２０ＬＳＰサイズが知られている／事前に決められた場合、それを、測定されたレーザースポット２０ＬＳＰサイズと比較することができ、これはその後、知られている／事前に決められた所望のサイズと一致するように調整することができる。一部の実施形態において、集束させる（ブロック４６７）動作（複数可）は、カメラ２４０Ｃによって使用される光学装置に修正を加えることによって、および／またはカメラ２４０Ｃの解像度を高めることによって改良されてよい。

図４Ｆを参照すると、本明細書の方法（複数可）は、例えば計器１０が質量分析計１０Ｍである場合など、カメラ２４０Ｃを介して、試料スライド２３０が段３１５上に存在するかどうかを判定すること（ブロック４１８）を含んでよい。例えば、ブロック４１８の動作（複数可）は、カメラ２４０Ｃからのデータを使用してプロセッサ２７０によって行われてよい。さらに、ブロック４１８の動作（複数可）は、チャンバ２１０が閉鎖され、かつ真空圧下にあることの判定（ブロック４１７）に応じて行われてよい。一例として、ブロック４１７の動作（複数可）は、図４Ａのブロック４１０でのはいの決定を表してよい、または図４Ａでのブロック４１５の動作（複数可）の完了を表す場合もある。したがってブロック４１７および４１８の動作（複数可）は、一部の実施形態において、図４Ａのブロック４２０の動作（複数可）の前に行われる場合もある。例えば、ブロック４１７および４１８の動作（複数可）は、試料スライド２３０が段３１５に存在しないことを確認するために行われる場合もあり、これは、本明細書に記載される位置合わせを行う際に望ましい場合がある。

本明細書で考察されるように、計器１０は、一部の実施形態において、質量分析計１０Ｍであってよい。したがって図４Ａ～図４Ｅの方法は、質量分析計１０Ｍのレーザー２０ＬＳを位置合わせするための方法として行われてよく、図４Ｆの方法は、試料スライド２３０が質量分析計１０Ｍのｘ－ｙ段３１５上に存在するかどうかを判定するための方法として行われてよい。

例えば、図４Ａのブロック４２０の動作（複数可）は、イオン化チャンバ２１０が閉鎖され、かつ真空圧下にある間、レーザービームをイオン化チャンバ２１０内の標的２３０Ｔに反射する反射面３１２にレーザー２０ＬＳからのレーザービームを提供することを含んでよい。図４Ａのブロック４３０の動作（複数可）はその後、イオン化チャンバ２１０が閉鎖され、かつ真空圧下にある間、カメラ２４０Ｃでレーザービームの画像（例えばレーザースポット２０ＬＳＰの画像）を取り込むことを含んでよい。しかしながら、一部の実施形態において、図４Ａのブロック４２０および４３０の動作は、イオン化チャンバ２１０が閉鎖され、かつ真空圧下にあることを必要とせずに行われる場合もある。次に、図４Ａのブロック４４０の動作（複数可）は、カメラ２４０Ｃによって取り込まれた画像を使用して、標的２３０Ｔでの（または標的２３０Ｔに隣接する）レーザービームの第１の位置を判定することを含んでよい。さらに図４Ａのブロック４５０の動作（複数可）は、レーザービームを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整するかどうかを判定することを含んでよく、図４Ａのブロック４６０の動作（複数可）は、反射面３１２の傾斜を調整してレーザービームを標的２３０Ｔでの第２の位置に調整することを含んでよい。

一部の実施形態において、試料プレート２３０上の試料（複数可）は、患者からの生体試料を含んでよく、患者の医学的評価のために、既定されたタンパク質または微生物、例えばバクテリアなどが試料中にあるかどうかを識別するために計器１０によって試料の分析を実施することができる。例えば、計器１０は、質量分析計１０Ｍであってよく、分析は、取得したスペクトルに基づいて、およそ１５０（またはそれ以上の）の異なる既定されたバクテリアの種のいずれかが試料中にあるかどうかを識別することができる。標的質量範囲は、およそ２，０００から２０，０００ダルトンの間であり得る。

本発明は有利には、レーザー２０ＬＳ（または他の光源２０）をリモート式に位置合わせすることができ、これにより位置合わせプロセスの速度を高めることができる。詳細には、位置合わせは、真空チャンバ２１０を開放せずに行われることで、ユーザによるイオン光学系２２０および位置合わせ構成要素への直接のアクセスを実現してよい。計器１０から計器パネルを取り外す必要性を低減する／なくすことによって、本発明は、システムの休止時間およびユーザに対する安全性のリスクの両方を低減させることができる。

さらに、イオン光学系２２０が、位置合わせの間、所定の場所に留まることを可能にすることによって、本発明は、そうでなければ再度組み立てるときに生じる可能性のある潜在的な位置合わせ不良からイオン光学系２２０を保護し、またそうでなければイオン光学系２２０の取り外しの間または再挿入の間に生じる可能性のあるイオン光学系２２０の損傷からも保護する。従来のシステムは対照的に、レーザーの位置合わせ光学装置との直接的なユーザの相互作用を必要とする場合があり、これは、ユーザを潜在的なレーザーの安全上の危険に曝す可能性があり、またレーザービームの位置合わせ不良の危険を冒す場合もある。

従来のシステムは、レーザースポットを所望の／適切なサイズに集束させるための目標とするやり方も提供していない。しかしながら本発明の一部の実施形態は、レーザースポット２０ＬＳＰのサイズを測定し、その後調整することによって、レーザースポット２０ＬＳＰの集束を実現する。したがって本発明は、ユーザが、システムの他の構成要素および／または設定（すなわち計器１０の構成要素または設定）を妨害することなく、レーザー２０ＬＳの位置合わせおよび／または焦点を修正する、または検証することを可能にする。

さらに、従来のシステムは、レーザービームの位置を間接的にしか捕らえることを実現しない（例えば試料スライド上の蛍光ペンインクからの蛍光を利用してビーム位置を捕らえることによって）のに対して、本発明の一部の実施形態は、カメラ２４０Ｃを介して光２０Ｌを直接捕らえることを実現する。

以下は、本明細書に記載される方法の１つの非制限的な例である。ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ質量分析計では、ＵＶレーザー２０ＬＳが、試料イオン化および堆積に使用されてよい。試料上でのレーザースポット２０ＬＳＰの位置合わせは、システム／計器１０の適切な動作に相当な影響を及ぼす可能性がある。したがって本発明の一部の実施形態は、カメラ２４０Ｃからのデータを使用して、レーザースポット２０ＬＳＰを自動的に位置合わせする／および／もしくは集束させる、ならびに／またはＸＹ－段（または「ｘ－ｙ段」）３１５を自動的に位置合わせする。

カメラ２４０Ｃは、試料が典型的に計器１０内にある場所の下の特定の場所にあってよい。ＸＹ－段３１５が上に何らかの試料を含む間、または上にいかなる試料も含まない間、レーザー２０ＬＳは、カメラ２４０Ｃに入射する光であるレーザービームを発射してよく、プロセッサ２７０は、カメラ２４０Ｃからのフィードバックを使用してレーザー２０ＬＳを位置合わせする、または集束させてよい。カメラ２４０Ｃは、イオン光学系２２０を捕らえ、開き口（複数可）３１４を識別し、イオン光学系２２０および開き口（複数可）３１４の知られた／事前に決められたサイズに基づいてレーザー２０ＬＳを位置合わせする。しかしながらすべての開き口３１４を識別する必要はない場合がある。例えば、開き口３１４－３（図３Ｃ）の識別は省略される場合もある。

レーザー２０ＬＳからのレーザービームが開き口（複数可）３１４内に正しく位置決めされた場合、カメラ２４０Ｃによって正しい位置が捕らえられることになる。レーザー２０ＬＳの位置合わせは、反射面３１２を動かすことを伴うことができ、カメラ２４０Ｃは、レーザー２０ＬＳを調整する際、リアルタイムのフィードバックを提供することができる。

レーザービームの経路２０ＢＰは、ＸＹ－段３１５上の標的２３０Ｔの表面に直交してよい。レーザービームはまた、開き口（複数可）３１４の中心を通って移動し（ｚ方向に）、この開き口（複数可）３１４は、イオン光学系２２０の配置によって提供される一連の開き口３１４であってもよい。レーザービームの中心はしたがって、開き口（複数可）３１４の中心（複数可）および標的２３０Ｔ上の特定の位置／場所と同軸であってよい。この軸（例えば図３Ａのｚ軸）の端部でレーザービームを捕らえるように構成された光学装置と共にカメラ２４０Ｃを配置することによって、およびレーザービームが通過し得る基準特徴部３１５ＦをＸＹ－段３１５に組み込むことによって、レーザースポット２０ＬＳＰは、比較的容易に捕らえられてよい。さらに、ＸＹ－段３１５の走査中心３１５Ｓは、一定である／固定されてもよく、標的２３０Ｔは、一部の実施形態において移動させることもできる。

回転可能な反射面３１２および集束レンズ３１１は、電子的かつリモート式に制御可能なアクチュエータ２８０と結合／適合されてよい。これらの光学構成要素（反射面３１２およびレンズ３１１）の位置はしたがって、計器１０のソフトウェアによって調整することができる。標的位置および標的スポットサイズが知られている場合、カメラ２４０Ｃは、これらのアクチュエータ２８０と共に使用されて、レーザースポット２０ＬＳＰを位置合わせし、集束させることができる。

カメラによって認識されるときのレーザースポット２０ＬＳＰの位置はまずは、イオン光学開き口（複数可）３１４内の中心に置かれる。その後、基準特徴部３１５Ｆがレーザービームと（およびこれによりイオン光学系２２０とも）同心になるように、ＸＹ－段３１５を移動させることができる。基準特徴部３１５Ｆの位置は、段３１５によって保持されるスライド２３０上の各試料の場所に対して分かっているため、段３１５の位置は記憶され（例えば図２Ｃのメモリ２９０に）、段３１５は、位置合わせされたとみなされる。レーザー２０ＬＳはまた、カメラ２４０Ｃによって取り込まれた画像におけるピクセル内でのレーザースポット２０ＬＳＰの幅を定量化することによって集束させることができる。

レーザースポット２０ＬＳＰのＸ／Ｙ位置（すなわち、図３Ａ～図３Ｆのｘ方向および／またはｙ方向の位置）は、回転可能な反射面３１２（および／またはレンズ３１１）に結合された１つまたは複数のアクチュエータ２８０によって調整される。例えば一対のアクチュエータ２８０が反射面３１２に適合されてよい。さらに、レーザースポット２０ＬＳＰのサイズもまた、集束レンズ３１１に結合された／適合されたアクチュエータ２８０によって調整されてよい。ユーザは、反射面３１２およびレンズ３１１に対するこのような調整を、計器１０のソフトウェアを介して手動で行うことができる、または自動調整が望ましい場合、ソフトウェアが閉ループ制御スキームの一部として自動的に調整を命令する／制御することもできる。一例として、レンズ３１１は、スポットサイズが実質的に円形であり、かつ事前に決められた直径に実質的に近づくまで手動で調整されてよい。しかしながら一部の実施形態において、調整（複数可）は、自動で行われる場合もある。さらに、レーザースポット２０ＬＳＰの楕円率の調整は、上流のレンズのｘ－ｙ調整を介して行うこともできる。

一部の実施形態において、アクチュエータ２８０は、圧電アクチュエータであってよい。しかしながら圧電アクチュエータの精度は、所与の数のステップまたはパルスに対する物理的な位置の可変の変化のために、望ましくないほどに低くなる場合がある。これを考慮するために、所与の数のステップが命令される際に移動されるピクセルの数を数えることによって、カメラ２４０Ｃを使用して位置の圧電アクチュエータを較正することもできる。この技術は、圧電アクチュエータにとって有益であり得るが、他のタイプのアクチュエータ２８０、ステップモータなどにも使用されてよい。

反射面３１２の傾斜を推進するモータ、または他のアクチュエータ２８０は、後方の推進とは反対に前方に推進する際、異なるように機能することができる。したがって、多数の（例えば５００～２０００）の前方へのステップは同じ数の後方へのステップと等しくならない場合があるため、前方と後方の多数の地点をテストし、その後、特定の設定に戻るように試みることは難しい場合がある。しかしながら、本発明の一部の実施形態は、レーザービームの質量中心がカメラ２４０Ｃからのデータを使用して判定され得る特定の機構を提供する。詳細には、前方および後方に移動することに基づいて較正係数が提供されてよく、この較正係数を使用して、レーザービームをｘ方向とｙ方向の両方にどのように正確に調整するかを計算してよい。

例えば、図４Ｇは、較正係数を求めるためのフローチャートを例示している。較正係数を求める動作は、カメラ２４０Ｃ（または他のセンサ２４０）からのデータを使用して、レーザー２０ＬＳの開始位置の画像を取り込むこと（ブロック４６３－１）を含んでよい。アクチュエータ２８０／反射面３１２はその後、いくつかのステップだけ前方に移動されてよく（ブロック４６３－２）、レーザー２０ＬＳの前方位置を撮像することができ（カメラ２４０Ｃからのデータを使用して）、移動したピクセルの数を判定することができる。次に、ステップごとの前方のピクセルの数（ＦＰＰＳ）を計算することができる（ブロック４６３－３）。アクチュエータ２８０／反射面３１２を同じ数のステップだけ後方に移動させることができ（ブロック４６３－４）、レーザー２０ＬＳの後方位置を撮像することができ（カメラ２４０Ｃからのデータを使用して）、移動したピクセルの数を判定することができる。ステップごとの後方のピクセルの数（ＢＰＰＳ）をその後計算することができ（ブロック４６３－５）、ＢＰＰＳをＦＰＰＳで割ることで、較正係数を提供することができる（ブロック４６３－６）。さらに、順方向でのいくつかのステップＸが、いくつかのピクセルＹの移動を達成した場合、逆方向での較正係数を掛けたステップＸの数は、同じ数のピクセルＹの移動を達成することができる（ブロック４６３－７）。一部の実施形態において、図４Ｃのブロック４６３は、図４Ｇの動作のうちの１つまたは複数を含んでもよい。

図４Ｈを参照すると、フローチャートは、レーザースポット２０ＬＳＰを位置決めすることを提供している。そのような位置決め動作は、カメラ２４０Ｃ（または他のセンサ２４０）からのデータを使用して、レーザー２０ＬＳの位置の画像を取り込むことを（ブロック４０１）を含んでよい。次に、動作は、レーザービームの質量中心を突きとめること、およびレーザー２０ＬＳの位置と標的の位置との差を判定すること（ブロック４０２）を含んでよい。その後、動作は、（ステップごとの事前に決められたピクセルおよび較正係数（複数可）に基づいて）レーザースポット２０ＬＳＰを標的位置に移動させるのに必要とされるステップの方向および数を判定すること（ブロック４０３）を含んでよい。その後、判定した／必要とされる数のステップだけアクチュエータ（複数可）２８０を移動させること（ブロック４０４）ができる。

カメラ２４０Ｃはまた、試料スライド２３０が段３１５上に存在するかどうかを判定するのに使用することもできる。したがって、真空内に（すなわちチャンバ２１０の内部に）存在するセンサの必要性を低減する／なくすことができ、これは、システム／計器１０におけるワイヤの数を削減してよい。さらに、本明細書で考察される位置合わせに使用されるレーザー２０ＬＳは、試料イオン化に使用される同一のレーザー２０ＬＳであってよい。本発明はしたがって、軽微な／極端ではない追加と共に既存の構成要素を使用して、非常に有益な改良を達成してよい。

図面では、特定の層、構成要素または機構が明確にするために誇張される場合があり、点線は、そうでないことが具体的に述べられない限り、オプションの／取り外し可能な機構または動作を例示している。用語「図（ＦＩＧ．）」および「図（Ｆｉｇ．）」は、出願および／または図面における用語「図（Ｆｉｇｕｒｅ）」と相互に入れ替え可能に使用される。しかしながら本発明は、多くの異なる形態で具現化されてもよく、本明細書に記載される実施形態に限定されるように解釈されるべきではなく、むしろ、このような実施形態は、本開示が完全かつ完璧であり、本発明の範囲を当業者により完全に伝えるために提供されている。

用語「第１の」、「第２の」などは、様々な要素、構成要素、領域、層および／または区域を記述するために本明細書で使用され得るが、これらの要素、構成要素、領域、層および／または区域は、このような用語によって限定されるべきではないことを理解されたい。このような用語は、１つの要素、構成要素、領域、層および／または区域を別の要素、構成要素、領域、層または区域から区別するのに単に使用されている。よって、以下で考察される「第１の」要素、構成要素、領域、層または区域は、本発明の教示から逸脱することなく、「第２の」要素、構成要素、領域、層または区域と称される場合もある。

「真下」、「下」、「底部」、「下部」、「上」、「上部」などの空間に関する用語は、図面に例示されるように、１つの要素または機構の別の要素（複数可）または機構（複数可）に対する関係性を記述するために、記述を容易にするために本明細書で使用されてよい。空間に関する用語は、図面に描かれる配向に加えて、使用中の装置の様々な配向、または動作を包含することが意図されていることを理解されたい。例えば、図面中で装置がひっくり返された場合、他の要素または機構の「下」または「真下」として記述される要素は、他の要素または機構の「上に」配向されることになる。こうして、一例の用語「下の」は、上、下および後ろの配向を包含することができる。装置はそれ以外の方法で（９０°回転された、または他の配向で）配向される場合もあり、本明細書で使用される空間に関する記述語はこれに従って解釈されてよい。

用語「およそ」は、指摘される値の±２０％の範囲内の数字を指している。

本明細書で使用される際、単数形の「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、そうでないことが明白に述べられていなければ、複数形も同様に含むように意図されている。用語「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含んでいる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および／または「備えている（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、本明細書で使用される場合、述べられた機構、ステップ、動作、要素および／または構成要素の存在を特定するが、１つまたは複数の他の機構、ステップ、動作、要素および／または構成要素および／またはその集合の存在または追加を除外するものではないこともさらに理解されたい。１つの要素が別の要素に「接続されている」、または「結合されている」と称される場合、それは、他の要素に直接接続させる、もしくは結合させることができる、または介在要素が存在する場合もあることを理解されたい。本明細書で使用される際、用語「および／または」は、関連する列記された項目のうちの１つまたは複数のいずれかの組合せ、およびそのすべての組合せを含む。さらに、符号「／」は、用語「および／または」と同じ意味を持つ。

そうでないことが規定されなければ、本明細書で使用されるすべての用語（技術的および科学的用語を含めた）は、本発明が属する当業者によって共通に理解されるものと同じ意味を有する。共通して使用される辞書で定義されるものなどの用語は、本明細書の文脈および関連する分野におけるそれぞれ意味と一致する意味を有するように解釈すべきであり、本明細書で明らかにそのように定義されていなければ、理想化された、または過度に形式的な意味に解釈されないことをさらに理解されたい。

一部の実施形態において、質量分析計１０Ｍは、およそ２，０００からおよそ２０，０００ダルトンの質量範囲である試料からイオン信号を取得するように構成される。

用語「試料」は、分析を受ける物質を指しており、広い範囲の分子量の中の任意の媒体であり得る。一部の実施形態において、試料は、バクテリアまたは真菌などの微生物の存在に対して評価される。しかしながら試料は、毒素または他の化学物質を含めた他の成分の存在に対して評価される場合もある。

用語「卓上用」は、標準的なテーブル面またはカウンタートップに適合することができる、または例えばおよそ１フィート掛ける６フィートの幅と長さの寸法を有し、典型的には１～４フィートの間の高さ寸法を有するテーブル面などのテーブル面に等しい占有面積を占めることができる比較的コンパクトなユニットを指す。一部の実施形態において、計器／システムは、２８インチ～１４インチ（Ｗ）ｘ２８インチ～１４インチ（Ｄ）ｘ３８インチ～２８インチ（Ｈ）のエンクロージャまたは筐体内にある。フライト管２５０は、およそ０．８メートル（ｍ）の長さを有してよい。一部の実施形態において、これより長い、またはこれより短い長さが使用されてもよい。例えば、フライト管２５０は、およそ０．４ｍからおよそ１ｍの間の長さを有してよい。

上述は、本発明の例示であり、その限定として解釈されるべきではない。本発明のいくつかの一例の実施形態が記載されているが、本発明の新規の教示および利点から著しく逸脱することなく、一例の実施形態において多くの変更形態が可能であることを当業者は容易に理解するであろう。したがって、すべてのそのような変更形態は、本発明の範囲内に含まれることが意図されている。したがって上述は、本発明の例示であり、開示される特有の実施形態に限定されるように解釈されるべきではなく、開示される実施形態ならびに他の実施形態に対する変更形態も本発明の範囲内に含まれることが意図されていることを理解されたい。

Claims (20)

1. 質量分析計のレーザーを位置合わせするための方法であって、
   前記レーザーからのレーザービームをイオン化チャンバ内の標的の場所に提供することと、
   カメラによって前記レーザービームの画像を取り込むことと、
   前記カメラによって取り込まれた前記画像を使用して前記標的の場所での前記レーザービームの第１の位置を判定することと、
   前記レーザービームを前記標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定することと、
   前記レーザービームを前記標的の場所での前記第２の位置に調整することと
   を含み、
   前記カメラを介して、試料スライドが前記質量分析計のｘ－ｙ段上に存在するかどうかを判定することをさらに含む、方法。
2. 前記イオン化チャンバの端部部分は、前記標的の場所と前記カメラとの間にある窓を備え、
   前記レーザービームの前記画像を前記取り込むことは、前記イオン化チャンバの前記窓を通して、前記カメラにおいて前記レーザービームの前記画像を取り込むことを含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記カメラによって取り込まれた前記レーザービームは、少なくとも１つの反射面および／またはレンズから、少なくとも１つのイオン光学装置の開き口を通って前記カメラに進む、請求項１または２に記載の方法。
4. 前記レーザービームの前記画像を前記取り込むことは、前記イオン化チャンバが閉鎖され、かつ真空圧下にある間、前記イオン化チャンバ内の規定された場所で前記レーザービームのレーザースポットの画像を取り込むことを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
5. 光源と、
   前記光源の光のために標的の場所を取り囲むチャンバと、
   前記光を捕らえるように構成されたカメラである、またはそのようなカメラのセンサを備える、前記光を受光するように構成されたセンサと、
   前記センサからのデータを使用して、前記標的の場所での前記光の第１の位置を判定するように構成されたプロセッサであって、前記光を前記標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定するようにさらに構成されるプロセッサと
   を備える質量分析計であって、
   前記プロセッサは、前記カメラからのデータを使用して、試料スライドが前記質量分析計のｘ－ｙ段上に存在するかどうかを判定するように構成されている、質量分析計。
6. 前記光源は、紫外線（ＵＶ）レーザーを備え、前記質量分析計は、
   前記ＵＶレーザーからの前記光を前記標的の場所に反射するように構成された反射面と、
   前記反射面に結合され、かつ前記反射面の傾斜を調整して、前記ＵＶレーザーからの前記光を前記標的の場所での前記第２の位置に調整するように構成されるアクチュエータとをさらに備える、請求項５に記載の質量分析計。
7. 前記光源は、紫外線（ＵＶ）レーザーを備え、前記ＵＶレーザーは、前記チャンバ内の試料スライド上の試料のイオン化を行うように構成され、
   前記チャンバは、真空圧下にある、請求項５または６に記載の質量分析計。
8. 前記チャンバの端部部分は、前記標的の場所と前記センサとの間にある窓を備える、請求項５から７のいずれか一項に記載の質量分析計。
9. 前記ｘ－ｙ段は、前記カメラとイオン光学系との間にある円形の開放した開き口を備えたベースプレートを有する、請求項５に記載の質量分析計。
10. 少なくとも１つの開き口を含むイオン光学系と、
    上に前記標的の場所を含む前記ｘ－ｙ段と
    をさらに備え、
    前記プロセッサは、前記ｘ－ｙ段の動きを制御して、前記ｘ－ｙ段の基準特徴部を前記光および前記イオン光学系の前記少なくとも１つの開き口と位置合わせするように構成されている、請求項５から９のいずれか一項に記載の質量分析計。
11. 前記光源は、前記質量分析計のレーザーを備え、
    前記光は、前記レーザーのレーザービームを含み、
    前記チャンバは、前記質量分析計のイオン化チャンバを備え、
    前記質量分析計は、反射面を備え、前記反射面は、前記レーザーからの前記レーザービームを前記標的の場所に反射するように構成され、
    前記センサは、前記レーザービームの画像を取り込むように構成されたカメラである、またはそのようなカメラのセンサを備え、
    前記プロセッサは、前記反射面の傾斜の調整を制御して、前記レーザービームを前記標的の場所での前記第２の位置に調整するように構成されている、請求項５から１０のいずれか一項に記載の質量分析計。
12. 光源を備える計器のための方法であって、
    前記光源からの光をプロセスチャンバ内の標的の場所に提供することと、
    前記光を捕らえるカメラである、またはそのようなカメラのセンサを備える、センサで前記光を受光することと、
    前記センサからのデータを使用して、前記標的の場所での前記光の第１の位置を判定することと、
    前記光を前記標的の場所での第２の位置に調整するかどうかを判定することと
    を含み、前記計器は質量分析計を備え、
    前記カメラを介して、試料スライドが前記質量分析計のｘ－ｙ段上に存在するかどうかを判定することをさらに含む、方法。
13. 前記光源はレーザーを備え、
    光を前記提供することは、前記レーザーからの前記光を前記標的の場所に反射する反射面に、前記レーザーからの前記光を提供することを含み、
    前記方法は、前記反射面の傾斜を調整して、前記レーザーからの前記光を前記標的の場所での前記第２の位置に調整することをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
14. 前記レーザーは、紫外線（ＵＶ）レーザーを備え、
    前記反射面の前記傾斜を前記調整することは、前記標的の場所が、上にいかなる試料も含まない場所を含む間に行われ、
    前記方法は、前記ＵＶレーザーを使用して、前記プロセスチャンバ内の試料スライド上の試料の試料イオン化を行うことをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記傾斜を前記調整することは、前記反射面に結合されたアクチュエータを電子的に方向付けて、前記傾斜を調整することを含み、
    前記方法は、前記センサを使用することによって前記アクチュエータの動きを較正して、前記アクチュエータの順方向の動作または逆方向の動作から生じるピクセルの変化を判定することをさらに含む、請求項１３または１４に記載の方法。
16. 前記傾斜を前記調整することは、前記光を前記計器の荷電粒子光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることを含み、
    前記方法は、前記傾斜を調整した後、上に前記標的の場所を含むｘ－ｙ段を移動させて、前記ｘ－ｙ段の基準特徴部を前記光および前記荷電粒子光学系の前記少なくとも１つの開き口と位置合わせすることをさらに含む、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記プロセスチャンバの端部部分は、前記標的の場所と前記センサとの間にある窓を備え、
    前記光を前記受光することは、前記プロセスチャンバの前記端部部分の前記窓を通して前記センサで前記光を受光することを含む、請求項１２から１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記カメラによって取り込まれた画像におけるピクセル内の前記標的の場所にある前記光のサイズを判定することをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
19. 前記標的の場所にある前記光の前記サイズを調整することによって、前記標的の場所に前記光を集束させることをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
20. 前記光を前記計器のイオン光学系の少なくとも１つの開き口と位置合わせすることと、
    上に前記標的の場所を含むｘ－ｙ段を移動させて、前記ｘ－ｙ段の基準特徴部を前記光および前記イオン光学系の前記少なくとも１つの開き口と位置合わせすることと
    をさらに含む、請求項１２から１９のいずれか一項に記載の方法。

Images