JP7341728B2 - フレキシブル基板 - Google Patents
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Description
本実施形態においては、図示したように第1方向D1、第2方向D2、第3方向D3を定義する。第1方向D1及び第2方向D2は、フレキシブル基板100の主面と平行であり、互いに交わる方向である。第3方向D3は、第1方向D1、第2方向D2に対して垂直な方向であり、フレキシブル基板100の厚さ方向に相当する。第1方向D1と第2方向D2は、本実施形態では垂直に交わるが、垂直以外の角度で交わってもよい。
フレキシブル基板100は、上記に加えて、走査線1及び信号線2を支持する絶縁基材4を備えている。
フレキシブル基板100は、上述の要素の他に、第1有機絶縁層5と、第2有機絶縁層6と、樹脂層9と、をさらに備えている。絶縁基材4は、第1面SF1と、第1面SF1の反対側の第2面SF2と、を有している。第1有機絶縁層5は、第2面SF2を覆っている。走査線1は、絶縁基材4の第2面SF2側に設けられている。具体的には、走査線1は、第1有機絶縁層5の上に配置されている。第2有機絶縁層6は、走査線1及び第1有機絶縁層5を覆っている。第1有機絶縁層5及び第2有機絶縁層6は、例えばポリイミドなどの有機材料で形成されている。なお、第1有機絶縁層5及び第2有機絶縁層6は、絶縁基材4が無い領域にも設けられてもよい。但し、フレキシブル基板100の可撓性及び伸縮性の観点からは、図3に示すような配置態様が好ましい。また、図3に示す例では、第1部分PT1の直上に、信号線2は配置されない。
信号線2は、絶縁基材4の第2面SF2側に設けられている。具体的には、信号線2は、第2有機絶縁層6の上に配置されている。コーティング層7は、信号線2、絶縁基材4、第1有機絶縁層5、及び、第2有機絶縁層6を覆っている。図4に示す例では、第2部分PT2の直上に、走査線1は配置されていない。図3及び図4に示したように、絶縁基材4、第1有機絶縁層5、第2有機絶縁層6、走査線1、信号線2は、樹脂層9によって上下左右を囲まれている。
図7(a)に示すフレキシブル基板100は、中心から外側に行くに連れて曲率が大きくなる。フレキシブル基板100の曲率が大きい程、コーティング層7の弾性率が小さい。すなわち、フレキシブル基板100の曲率が大きい程、樹脂層9の弾性率が小さい。第1領域AR1の曲率は、第2領域AR2の曲率より小さい。隣り合う第1部分PT1の間の間隔GPは、それぞれ略等しい。図7(b)についても、図7(a)と同様であり、隣り合う第2部分PT2の間の間隔GPは、それぞれ略等しい。
このような第1実施形態の第1変形例においても、上記した第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
このような第1実施形態の第2変形例においても、上記した第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
フレキシブル基板100は、物体200の曲面に貼付されている。フレキシブル基板100は、第1領域AR1において曲率半径R1を有し、第2領域AR2において曲率半径R2を有する。ここでは、曲率半径R1は10mmであり、曲率半径R2は5mmである。
1/R=M/EI…(1)、I=bh3/12…(2)
Rは曲率半径、Mは曲げモーメント、Eは弾性率、Iは断面二次モーメント、bは樹脂層の高さ、hは樹脂層の幅を示している。まず、第1領域AR1の弾性率と第2領域AR2の弾性率が等しい場合について検証する。例えば、第1領域AR1の弾性率及び第2領域AR2の弾性率が、弾性率E=5MPaであるとする。第1領域AR1について断面二次モーメントIAを計算すると、曲率半径R1=10と、弾性率E=5を(1)式に当てはめ、1/10=M/5IAとなり、IA=2Mとなる。また、第2領域AR2について断面二次モーメントIBを計算すると、曲率半径R1=5と、弾性率E=5を(1)式に当てはめ、1/5=M/5IBとなり、IB=Mとなる。したがって、第1領域AR1の断面二次モーメントIA=2Mであり、第2領域AR2の断面二次モーメントIB=Mであるため、第1領域AR1は、第2領域AR2の2倍変形することがわかる。
電気的素子3は、絶縁基材4の島状部ILの上に配置されている。電気的素子3と島状部ILとの間には、無機絶縁層19(パッシベーション層)が配置されている。無機絶縁層19は、平面視においては電気的素子3(あるいは島状部IL)と重畳する島状に形成されている。第1部分11は、第1有機絶縁層5の上に配置され、第2有機絶縁層6によって覆われている。第2部分12は、無機絶縁層19の上に配置され、電気的素子3と電気的に接続されている。図11に示す例においては、第2部分12の両端部が第1有機絶縁層5に覆われている。
図13(a)及び図13(b)に示すフレキシブル基板100は、中心から外側に行くに連れて曲率が大きくなる。すなわち、第1領域AR1及び第2領域AR2は、曲率を有しており、第1領域AR1の曲率は、第2領域AR2の曲率より小さい。このとき、第1膜厚T1は、第2膜厚T2と等しい。つまり、フレキシブル基板100が曲率を有する状態において、樹脂層9は膜厚が略均一となる。曲率が大きくなる領域程、図12に示したように、フレキシブル基板100が伸長される前の状態において樹脂層9の膜厚が小さく形成される。また、隣り合う第1部分PT1の間の間隔GPは、それぞれ略等しい。図7(b)についても、図7(a)と同様であり、隣り合う第2部分PT2の間の間隔GPは、それぞれ略等しい。
このような第2実施形態の第1変形例においても、上記した第2実施形態と同様の効果を得ることができる。
このような第2実施形態の第2変形例においても、上記した第2実施形態と同様の効果を得ることができる。
図16(a)に示すように、フレキシブル基板100は、第1領域AR1において膜厚T1を有し、第2領域AR2において膜厚T2を有する。膜厚T1は、膜厚T2より大きい。また、図16(b)に示すように、フレキシブル基板100は、物体200の曲面に貼付されている。フレキシブル基板100は、第1領域AR1において曲率半径R1を有し、第2領域AR2において曲率半径R2を有する。ここでは、曲率半径R1は10mmであり、曲率半径R2は5mmである。
1/R=M/EI…(1)、I=bh3/12…(2)
Rは曲率半径、Mは曲げモーメント、Eは弾性率、Iは断面二次モーメント、bは樹脂層の高さ、hは樹脂層の幅を示している。まず、第1領域AR1の膜厚と第2領域AR2の膜厚が等しいと仮定した場合について検証する。このとき、第1領域AR1の弾性率及び第2領域AR2の弾性率は、弾性率E=5MPaであるとする。第1領域AR1について断面二次モーメントIAを計算すると、曲率半径R1=10と、弾性率E=5を(1)式に当てはめ、1/10=M/5IAとなり、IA=2Mとなる。また、第2領域AR2について断面二次モーメントIBを計算すると、曲率半径R1=5と、弾性率E=5を(1)式に当てはめ、1/5=M/5IBとなり、IB=Mとなる。したがって、第1領域AR1の断面二次モーメントIA=2Mであり、第2領域AR2の断面二次モーメントIB=Mであるため、第1領域AR1は、第2領域AR2の2倍変形することがわかる。
1…走査線、2…信号線、8…支持体、7…コーティング層、9…樹脂層、
AR1…第1領域、AR2…第2領域、E…弾性率、T…膜厚、
PT1…第1線部、PT2…第2線部。
Claims (11)
- 第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、を有する絶縁基材と、
前記絶縁基材の前記第2面側に設けられた配線層と、
前記絶縁基材の前記第1面側に位置する支持体と、前記絶縁基材の前記第2面側に位置するコーティング層と、を有する樹脂層と、を備え、
前記絶縁基材は、平面視において、第1方向に延出し前記第1方向と交差する第2方向に並んで配置された複数の波型の第1部分と、前記第2方向に延出し前記第1方向に並んで配置された複数の波型の第2部分と、前記第1部分と前記第2部分の交差部に設けられた島状部と、を含み、
前記樹脂層は、平面視において、第1領域及び第2領域を有し、
前記樹脂層は、前記第1領域において第1弾性率と、前記第2領域において第2弾性率と、を有し、
前記第1弾性率は、前記第2弾性率より大きい、フレキシブル基板。 - 前記第1領域の曲率は、前記第2領域の曲率より小さい、請求項1に記載のフレキシブル基板。
- 前記コーティング層は、前記第1領域において第3弾性率と、前記第2領域において前記第3弾性率より小さい第4弾性率と、を有し、
前記支持体は、前記第1領域及び前記第2領域において等しい弾性率を有する、請求項1又は2に記載のフレキシブル基板。 - 前記支持体は、前記第1領域において第5弾性率と、前記第2領域において前記第5弾性率より小さい第6弾性率と、を有し、
前記コーティング層は、前記第1領域及び前記第2領域において等しい弾性率を有する、請求項1又は2に記載のフレキシブル基板。 - 前記コーティング層は、前記第1領域において第3弾性率と、前記第2領域において前記第3弾性率より小さい第4弾性率と、を有し、
前記支持体は、前記第1領域において第5弾性率と、前記第2領域において前記第5弾性率より小さい第6弾性率と、を有する、請求項1又は2に記載のフレキシブル基板。 - 第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、を有する絶縁基材と、
前記絶縁基材の前記第2面側に設けられた配線層と、
前記絶縁基材の前記第1面側に位置する支持体と、前記絶縁基材の前記第2面側に位置するコーティング層と、を有する樹脂層と、を備え、
前記樹脂層は、平面視において第1領域及び第2領域を有し、
前記樹脂層は、断面視において、前記第1領域において第1膜厚と、前記第2領域において第2膜厚と、を有し、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有さない状態において、前記第1膜厚は、前記第2膜厚より大きく、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有する状態において、前記第1膜厚は、前記第2膜厚と等しい、フレキシブル基板。 - 前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有する状態において、前記第1領域の曲率は、前記第2領域の曲率より小さい、請求項6に記載のフレキシブル基板。
- 前記コーティング層は、前記第1領域において第3膜厚と、前記第2領域において第4膜厚と、を有し、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有さない状態において、前記第3膜厚は、前記第4膜厚より大きく、
前記支持体は、前記第1領域及び前記第2領域において等しい膜厚を有する、請求項6又は7に記載のフレキシブル基板。 - 前記支持体は、前記第1領域において第5膜厚と、前記第2領域において第6膜厚と、を有し、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有さない状態において、前記第5膜厚は、前記第6膜厚より大きく、
前記コーティング層は、前記第1領域及び前記第2領域において等しい膜厚を有する、請求項6又は7に記載のフレキシブル基板。 - 前記コーティング層は、前記第1領域において第3膜厚と、前記第2領域において第4膜厚と、を有し、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有さない状態において、前記第3膜厚は、前記第4膜厚より大きく、
前記支持体は、前記第1領域において第5膜厚と、前記第2領域において第6膜厚と、を有し、
前記第1領域及び前記第2領域が曲率を有さない状態において、前記第5膜厚は、前記第6膜厚より大きい、請求項6又は7に記載のフレキシブル基板。 - 前記絶縁基材は、平面視において、第1方向に延出し前記第1方向と交差する第2方向に並んで配置された複数の波型の第1部分と、前記第2方向に延出し前記第1方向に並んで配置された複数の波型の第2部分と、前記第1部分と前記第2部分の交差部に設けられた島状部と、を含む、請求項6乃至10の何れか1項に記載のフレキシブル基板。
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KR101810050B1 (ko) * | 2016-08-11 | 2017-12-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 스트레처블 디스플레이 장치 및 스트레처블 디스플레이 장치의 제조 방법 |
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- 2019-05-28 JP JP2019099646A patent/JP7341728B2/ja active Active
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- 2020-03-17 WO PCT/JP2020/011780 patent/WO2020240999A1/ja active Application Filing
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2021
- 2021-11-22 US US17/455,932 patent/US20220087009A1/en active Pending
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