JP7337312B1

JP7337312B1 - Ｘ線発生装置、ｘ線撮像装置、および、ｘ線発生装置の調整方法

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Publication number: JP7337312B1
Application number: JP2023546351A
Authority: JP
Inventors: 洋一安藤
Original assignee: Canon Anelva Corp
Current assignee: Canon Anelva Corp
Priority date: 2022-03-31
Filing date: 2023-03-17
Publication date: 2023-09-01
Anticipated expiration: 2043-03-17
Also published as: JPWO2023189735A1; US20240087833A1; TW202401475A

Abstract

Ｘ線発生装置は、Ｘ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置から放射されたＸ線を検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線発生装置を制御する制御装置とを備える。前記Ｘ線発生装置は、電子銃、および、前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を備え、前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で少なくとも前記ターゲットが回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持する。前記制御装置は、前記Ｘ線発生装置の使用量、および／または、前記Ｘ線発生装置が発生するＸ線の変化に応じて、前記ターゲットが回動される必要性があるかどうかを判定する。

Description

本発明は、Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法に関する。

透過型マイクロフォーカスＸ線管では、ターゲットに電子線を照射することによってＸ線を発生する。しかし、このようなＸ線管には、ターゲットに電子線を照射することによって熱が発生するためにターゲットが劣化しやすいという課題があった。

特許文献１には、Ｘ線発生管球の周囲に磁石部を配置し、磁石部を回転させることによってターゲットに対する電子線の照射位置を変更し、これによってＸ線発生管球の寿命を延ばすことが記載されている。しかし、特許文献１に記載されたように磁石部を移動させることによってターゲットに対する電子ビームの照射位置を変更すると、それによってＸ線発生装置からのＸ線の放射位置、即ち焦点位置が変化する。したがって、磁石部を移動させる度に、即ち焦点位置を変更する度に、Ｘ線発生装置から放射されるＸ線を検出するためのＸ線検出器を位置合わせする必要があった。

特許第４３０９１７６号公報

本発明は、焦点位置を変化させることなくターゲットあるいはＸ線発生管の寿命を延ばすために有利な技術を提供する。

本発明の第１の側面は、Ｘ線撮像装置に係り、前記Ｘ線撮像装置は、Ｘ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置から放射されたＸ線を検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線発生装置を制御する制御装置と、を備える。前記Ｘ線発生装置は、電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を有する。前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で少なくとも前記ターゲットが回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持する。前記制御装置は、前記Ｘ線発生装置の使用量、および／または、前記Ｘ線発生装置が発生するＸ線の変化に応じて、前記ターゲットが回動される必要性があるかどうかを判定する。

本発明の第２の側面は、Ｘ線発生装置の調整方法に係り、前記Ｘ線発生装置は、電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を備える。前記Ｘ線発生装置の調整方法は、前記Ｘ線発生装置の使用量、および／または、前記Ｘ線発生装置が発生するＸ線の変化に応じて、前記偏向器が固定された状態で少なくとも前記ターゲットを回動させる回動工程を含む。

本発明の第３の側面は、Ｘ線発生装置に係り、前記Ｘ線発生装置は、電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を備え、前記ターゲットは、円形形状を有し、かつ、単一金属又は単一合金で構成され、前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で、少なくとも前記ターゲットが、前記電子銃の中心軸と一致した回動軸の周りで回動されることを許すように、前記Ｘ線発生管を支持する。

第１実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。第１実施形態のＸ線発生装置において電子銃から放射された電子線がターゲットに衝突する様子を模式的に示す図。比較例のＸ線発生装置の調整方法あるいは使用方法を模式的に示す図。第１実施形態のＸ線発生装置の調整方法あるいは使用方法を模式的に示す図。第２実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。第３実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。第４実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。第５実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。第６実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。一実施形態のＸ線発生装置の構成を模式的に示す図。一実施形態のＸ線撮像装置の構成を模式的に示す図。

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は請求の範囲に係る発明を限定するものでない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

図１には、第１実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。Ｘ線発生装置１は、透過型Ｘ線発生装置として構成されうる。Ｘ線発生装置１は、Ｘ線発生管ＸＧを備えている。Ｘ線発生管ＸＧは、電子銃ＥＧと、電子銃ＥＧから放射される電子線あるいは電子を受けてＸ線を発生させるターゲット２２とを含みうる。一例において、Ｘ線発生管ＸＧは、２つの開口端を有する絶縁管１０と、絶縁管１０の２つの開口端の一方を閉塞するアノード２０と、絶縁管１０の２つの開口端の他方を閉塞する閉塞部材３０とを備えうる。アノード２０は、ターゲット２２と、ターゲット２２を保持するターゲット保持板２１と、ターゲット保持板２１を支持しつつターゲット保持板２１を介してターゲット２２に電位を与える電極２３とを含みうる。閉塞部材３０は、電子銃ＥＧを保持するように構成されうる。絶縁管１０、アノード２０および閉塞部材３０は、密閉空間を規定する容器を構成しうる。該密閉空間は、真空、あるいは高い真空度に維持される。

Ｘ線発生装置１は、Ｘ線発生管ＸＧを支持する管支持構造６０と、電子銃ＥＧから放射される電子線を偏向させる偏向器５０とを更に備えうる。Ｘ線発生装置１はまた、偏向器５０を支持する偏向器支持構造７０を備えうる。管支持構造６０は、偏向器５０が固定された状態で少なくともターゲット２２が回動されることを許すようにＸ線発生管ＸＧ０を支持しうる。他の観点において、管支持構造６０は、偏向器５０が固定された状態でＸ線発生管ＸＧが回動されることを許すようにＸ線発生管ＸＧを支持しうる。更に他の観点において、管支持構造６０は、偏向器５０が偏向器支持構造７０によって支持された状態でＸ線発生管ＸＧが回動されることを許すようにＸ線発生管ＸＧ０を支持しうる。管支持構造６０および偏向器支持構造７０は、それぞれＸ線発生管ＸＧおよび偏向器５０を互いに独立して支持する構造である。Ｘ線発生管ＸＧの回動は、例えば、作業者等によって手動でなされてもよいし、不図示の駆動機構によってなされてもよい。

偏向器５０は、Ｘ線発生管ＸＧの外側に配置されうる。偏向器５０は、例えば、偏向器５０を横切る仮想平面ＶＰ３がターゲット２２の電子線入射面（電子銃ＥＧに対面する面）を含む仮想平面ＶＰ１と電子銃ＥＧの先端面（ターゲット２２側の面）を含む仮想平面ＶＰ２との間に位置するように配置されうる。仮想平面ＶＰ１、ＶＰ２、ＶＰ３は、電子銃ＥＧの中心軸ＡＸに垂直に交差する平面として定義されうる。偏向器５０は、電子銃ＥＧから放射された電子線に対して磁界を作用させることによって該電子線を偏向させる。偏向器５０が電子線を偏向させることによってターゲット２２に対する電子線の入射位置が調整あるいはシフトされうる。

偏向器５０は、永久磁石で構成されてもよいし、電磁石で構成されてもよいし、永久磁石および電磁石で構成されてもよい。一例において、偏向器５０は、第１磁石および第２磁石を含みうる。第１磁石の第１磁極（例えば、Ｓ極）と第２磁石の第２磁極（例えば、Ｎ極）とは、絶縁管１０あるいはＸ線発生管ＸＧを介して互いに対向するように配置されうる。偏向器５０は、磁極が絶縁管１０あるいはＸ線発生管ＸＧの径方向を向くように配置された１つの磁石で構成されてもよい。偏向器５０は、偏向器支持構造７０によって着脱可能に支持されてもよい。偏向器支持構造７０は、偏向器５０を移動および／または回転させる駆動機構、または、偏向器５０の位置または姿勢を調整する調整機構を含んでもよい。このような駆動機構または調整機構を設けることによって、Ｘ線発生管ＸＧから放射される電子線に作用させる磁界を調整することができる。

電極２３は、ターゲット２２に電気的に接続されていて、ターゲット２２に電位を与える。ターゲット２２は、電子銃ＥＧからの電子がターゲット２２に衝突することによってＸ線を発生する。ターゲット２２が発生したＸ線は、ターゲット保持板２１を透過してＸ線発生管ＸＧの外部に放射される。アノード２０は、例えば、接地電位に維持されうるが、他の電位に維持されてもよい。ターゲット２２は、円形形状を有し、かつ、単一金属又は単一合金で構成されてよい。単一金属は、少量の意図しない不純物を含有していてもよい。単一合金は、純金属に１種類以上の他元素を混ぜた金属材料である。他の観点において、ターゲット２２は、軸対称な構造を有し、かつ、単一金属又は単一合金で構成されてよい。ターゲット２２は、融点が高い材料、例えば、タングステン、タンタルまたはモリブデン等で構成されることが望ましく、これらの材料は、Ｘ線の発生効率を向上させるために有利である。ターゲット保持板２１は、例えば、Ｘ線を透過し易い材料、例えば、ベリリウム、ダイヤモンド等で構成されうる。

図２には、電子銃ＥＧから放射された電子線ＥＢがターゲット２２に衝突する様子が模式的に示されている。図２では、電子銃ＥＧとターゲット２２とが近接して示されているが、電子銃ＥＧとターゲット２２とは、より離隔して配置されうる。電子銃ＥＧから放出された電子線ＥＢは、偏向器５０が発生する磁界によって偏向された後にターゲット２２に入射あるいは衝突する。電子線ＥＢが偏向される量、換言すると、ターゲット２２に対する電子線ＥＢの入射位置は、偏向器５０が発生する磁界、および、電子銃ＥＧの加速電圧に依存しうる。

図３には、比較例におけるＸ線発生装置の２つの状態ＳＴ１１、ＳＴ１２が模式的に示されている。２つの状態ＳＴ１１、ＳＴ１２のいずれにも、ターゲット２２を電子銃ＥＧの側から見た様子が示されている。状態ＳＴ１１では、偏向器５０が発生する磁界によって、電子銃ＥＧから放射された電子線が偏向され、電子線がターゲット２２の位置Ｐ１に入射している。状態ＳＴ１２は、状態ＳＴ１１における偏向器５０の配置に対して偏向器５０を回動させた状態である。したがって、状態ＳＴ１２においてターゲット２２に電子線が入射する位置Ｐ２は、状態ＳＴ１１においてターゲット２２に電子線が入射する位置Ｐ１を中心軸ＡＸの周りで回動させた位置となる。つまり、比較例では、偏向器５０を回動させることによってターゲット２２に対して電子線が入射する位置が位置Ｐ１から位置Ｐ２に変更されている。比較例では、これによりターゲット２２あるいはＸ線発生装置１の寿命を延ばすことができる。しかし、ターゲット２２に対して電子線が入射する位置が位置Ｐ１から位置Ｐ２に変更されることは、ターゲット２２からＸ線が放射される位置、つまり、Ｘ線検査装置におけるＸ線の焦点位置が変更されることを意味する。よって、比較例では、偏向器５０の回動によってターゲット２２に対して電子線が入射する位置が変化することに応じてＸ線検出器の位置を調整する必要がある。

図４には、第１実施形態におけるＸ線発生装置１の２つの状態ＳＴ２１、ＳＴ２２が模式的に示されている。２つの状態ＳＴ２１、ＳＴ２２のいずれにも、ターゲット２２を電子銃ＥＧの側から見た様子が示されている。状態ＳＴ２１では、偏向器５０が発生する磁界によって、電子銃ＥＧから放射された電子線が偏向され、電子線がターゲット２２の位置Ｐ１に入射している。状態ＳＴ２２では、状態ＳＴ２１におけるＸ線発生管ＸＧ（ターゲット２２）の方位に対してＸ線発生管ＸＧ（ターゲット２２）が回動され、ターゲット２２の位置Ｐ２に電子線が入射している。この例では、ターゲット２２の回動角は９０度であるが、この回動角は任意に設定されうる。例えば、電子線の偏向、電子線の入射によるターゲット２２上のダメージ範囲等を考慮した場合、３度以上の回動角が望ましい。回動精度や電子線の入射位置の変化を考慮した場合、１０度以上が更に望ましい。ここで、符号２５は、ターゲット２２に与えられた仮想的な方位マークである。第１実施形態では、偏向器５０が固定された状態でＸ線発生管ＸＧ（ターゲット２２）が回動される。したがって、状態ＳＴ２１と状態ＳＴ２２とでは、ターゲット２２の互いに異なる位置Ｐ１、Ｐ２に電子線が入射するが、Ｘ線検出器から見た位置Ｐ１、Ｐ２、即ちＸ線発生装置１が配置された空間における位置Ｐ１、Ｐ２は、互いに等しい位置である。これにより、Ｘ線発生装置１が配置された空間における位置Ｐ１、Ｐ２、即ち焦点位置を変化させることなくターゲット２２あるいはＸ線発生装置１の寿命を延ばすことができる。

上記の説明から明らかなように、一実施形態のＸ線発生装置１の調整方法は、偏向器５０が固定された状態でＸ線発生管ＸＧを回動させる回動工程を含む。回動工程は、Ｘ線発生装置１の使用量に応じて実行されうる。該使用量は、例えば、Ｘ線発生装置１の使用時間、電極２３に印加した電力量、または、Ｘ線発生装置１が発生したＸ線の累積値の少なくとも１つでありうる。あるいは、回動工程は、Ｘ線発生装置１が発生するＸ線の変化に応じて実行されうる。例えば、Ｘ線発生装置１が発生するＸ線が最後の回動工程の実行の直後においてＸ線発生装置１が発生したＸ線の強度の所定パーセンテージを下回ったことに応じて回動工程を実行することができる。

管支持構造６０は、電子銃ＥＧの中心軸ＡＸと一致した回動軸の周りでＸ線発生管ＸＧが回動されることを許すようにＸ線発生管ＸＧを支持しうる。電子銃ＥＧの中心軸ＡＸは、ターゲット２２の中心を通るように配置されうる。偏向器５０によって電子線ＥＢが偏向されない場合に、電子線ＥＢはターゲット２２の中心に入射しうる。

図５には、第２実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。第２実施形態のＸ線発生装置１として言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。第２実施形態では、管支持構造６０は、Ｘ線発生管ＸＧを取り囲む収容部８０を含む。収容部８０は、偏向器５０が固定された状態でＸ線発生管ＸＧが回動されることを許すようにＸ線発生管ＸＧを支持しうる。Ｘ線発生管ＸＧと収容部８０との間の空間には、絶縁流体（例えば、絶縁油）が充填あるいは配置されうる。Ｘ線発生装置１は、Ｏリング８２を備えてよく、Ｘ線発生管ＸＧおよび収容部８０は、Ｏリング８２を介して互いに対面するシール面を有しうる。

収容部８０は、シール部８１を含んでもよい。シール部８１は、アノード２０の電極２３の外周部における互いに反対側の第１面２３１、第２面２３２、および、該外周部の端面２３３を覆う凹部を含みうる。Ｏリング８２は、端面２３３と接触するように、あるいは、端面２３３に設けられた凹部に配置されうる。偏向器５０を支持する偏向器支持構造７０は、収容部８０に連結されうる。

図６には、第３実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。第３実施形態のＸ線発生装置１として言及しない事項は、第１又は第２実施形態に従いうる。第３実施形態では、電極２３に貫通孔２４が設けられうる。収容部８０の上面と電極２３の下面との間には、Ｏリング８２が配置されうる。貫通孔２４を貫通するネジ８３によって収容部８０に対して電極２３（アノード２０）が固定されうる。貫通孔２４は、例えば、管支持構造６０に対するＸ線発生管ＸＧの回動を許すように、長孔として構成されうる。Ｘ線発生管ＸＧの回動させるためにネジ８３を緩めるときは、Ｏリング８２によるシールが失われないようにトルクが管理されうる。あるいは、ネジ８３の回転角は、Ｘ線発生管ＸＧを回動させるためにネジ８３を緩めるときにＯリング８２によるシールが失われないように、所定角度以内に制限されうる。

図７には、第４実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。第４実施形態のＸ線発生装置１として言及しない事項は、第３実施形態に従いうる。第４実施形態では、電極２３の位置を規制する規制部材８４が設けられてもよい。規制部材８４は、例えば、リング形状を有しうる。規制部材８４には、貫通孔８５が設けられうる。収容部８０の上面と電極２３の下面との間には、Ｏリング８２が配置されうる。貫通孔８５を貫通するネジ８３によって、Ｏリング８２に対して電極２３を押し付けるようにして、収容部８０に対して規制部材８４が固定されうる。貫通孔８５は、例えば、管支持構造６０に対するＸ線発生管ＸＧの回動を許すように、長孔として構成されうる。

図８には、第５実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。第５実施形態のＸ線発生装置１として言及しない事項は、第１乃至第４実施形態に従いうる。Ｘ線発生装置１は、管支持構造６０に対するＸ線発生管ＸＧの回動角を示すマーク９３を有しうる。Ｘ線発生装置１は、Ｘ線発生管ＸＧを回動させるための治具（不図示）と係合する係合部９１を備えてもよい。作業者は、係合部９１に治具を係合させ、治具を操作することによってＸ線発生管ＸＧを回動させることができる。

図９には、第６実施形態のＸ線発生装置１の構成が模式的に示されている。第６実施形態のＸ線発生装置１として言及しない事項は、第１乃至第４実施形態に従いうる。Ｘ線発生装置１は、管支持構造６０に対するＸ線発生管ＸＧの回動角を示すマーク９３を有しうる。Ｘ線発生装置１は、Ｘ線発生管ＸＧを回動させるための治具（不図示）と係合する係合部９５を備えてもよい。作業者は、係合部９５に治具を係合させ、治具を操作することによってＸ線発生管ＸＧを回動させることができる。

図１０には、一実施形態のＸ線発生装置１の構成が示されている。Ｘ線発生装置１は、上記のＸ線発生管ＸＧの他、昇圧回路１１０および駆動回路１２０を備えうる。昇圧回路１１０は、外部から供給される電圧を昇圧した昇圧電圧を発生し、該昇圧電圧を駆動回路１２０に供給しうる。駆動回路１２０は、駆動回路１２０は、昇圧回路１１０から供給される昇圧電圧に基づいてＸ線発生管ＸＧを駆動しうる。Ｘ線発生管ＸＧ、昇圧回路１１０および駆動回路１２０は、収容部８０によって収容され、収容部８０の内側の空間には、絶縁流体が充填されうる。

図１１には、一実施形態のＸ線撮像装置２００の構成が示されている。Ｘ線撮像装置２００は、Ｘ線発生装置１と、Ｘ線発生装置１から放射され物体２３０を透過したＸ線ＸＲを検出するＸ線検出装置２４０を備えうる。Ｘ線検出装置２４０は、制御装置２１０および表示装置２２０を更に備えてもよい。Ｘ線検出装置２４０は、Ｘ線検出器２４２および信号処理部２４４を含みうる。制御装置２１０は、Ｘ線発生装置１およびＸ線検出装置２４０を制御しうる。Ｘ線検出器２４２は、Ｘ線発生装置１から放射され物体２３０を透過したＸ線ＸＲを検出あるいは撮像しうる。信号処理部２４４は、Ｘ線検出器２４２から出力される信号を処理して、処理された信号を制御装置２１０に供給しうる。制御装置２１０は、信号処理部２４４から供給される信号に基づいて、表示装置２２０に画像を表示させる。制御装置２１０は、Ｘ線発生装置１の使用量および／またはＸ線発生装置１が発生するＸ線の変化に基づいて回動工程を実行する必要があるかどうかを判定し、その必要があると判定をした場合に、表示装置２２０を使って、回動工程の実施を作業者に促してもよい。

前述のように、Ｘ線発生装置１から放射されるＸ線の焦点位置（電子線の入射位置）が変更されると、それに応じてＸ線検出器２４２あるいはＸ線検出装置２４０を位置合わせする必要がある。上記の各実施形態に係るＸ線発生装置１によれば、焦点位置を変化させることなくターゲットあるいはＸ線発生管の寿命を延ばすことができるので、そのような位置合わせは不要である。

１：Ｘ線発生装置、ＥＧ:電子銃、１０：電子銃、２０：アノード、２１：ターゲット保持板、２２：ターゲット、２３：電極、３０：閉塞部材、５０：偏向器、６０：管支持構造、７０：偏向器支持構造、ＡＸ：中心軸、ＥＢ：電子線、８０：収容部

Claims

電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を有するＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置から放射されたＸ線を検出するＸ線検出器と、
前記Ｘ線発生装置を制御する制御装置と、を備え、
前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で少なくとも前記ターゲットが回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持し、
前記制御装置は、前記Ｘ線発生装置の使用量、および／または、前記Ｘ線発生装置が発生するＸ線の変化に応じて、前記ターゲットが回動される必要性があるかどうかを判定する、
ことを特徴とするＸ線撮像装置。
前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で前記Ｘ線発生管が回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持する、
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
前記支持構造は、前記電子銃の中心軸と一致した回動軸の周りで前記Ｘ線発生管が回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持する、
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
前記電子銃の中心軸は、前記ターゲットの中心を通る、
ことを特徴とする請求項３に記載のＸ線撮像装置。
前記偏向器によって前記電子線が偏向されない場合に、前記電子線が前記ターゲットの中心に入射する、
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
前記支持構造は、前記Ｘ線発生管を取り囲む収容部を含み、
前記収容部は、前記偏向器が固定された状態で前記Ｘ線発生管が回動されることを許すように前記Ｘ線発生管を支持する、
ことを特徴とする請求項１に記載のＸ線撮像装置。
前記Ｘ線発生管と前記収容部との間の空間に絶縁流体が配置されている、
ことを特徴とする請求項６に記載のＸ線撮像装置。
Ｏリングを更に備え、
前記Ｘ線発生管および前記収容部は、前記Ｏリングを介して互いに対面するシール面を有する、
ことを特徴とする請求項７に記載のＸ線撮像装置。
前記偏向器は、前記収容部を介して互いに対向するように配置された第１磁石および第２磁石を含む、
ことを特徴とする請求項６に記載のＸ線撮像装置。
前記Ｘ線発生管は、前記支持構造に対する前記Ｘ線発生管の回動角を示すマークを有する、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のＸ線撮像装置。
電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、前記電子線を偏向させる偏向器と、を備えるＸ線発生装置の調整方法であって、
前記Ｘ線発生装置の使用量、および／または、前記Ｘ線発生装置が発生するＸ線の変化に応じて、前記偏向器が固定された状態で少なくとも前記ターゲットを回動させる回動工程を含む、
ことを特徴とするＸ線発生装置の調整方法。
前記回動工程では、前記偏向器が固定された状態で前記Ｘ線発生管が回動される、
ことを特徴とする請求項１１に記載のＸ線発生装置の調整方法。
前記回動工程では、前記電子銃の中心軸と一致した回動軸の周りで前記Ｘ線発生管を回動させる、
ことを特徴とする請求項１１に記載のＸ線発生装置の調整方法。
前記電子銃の中心軸は、前記ターゲットの中心を通る、
ことを特徴とする請求項１３に記載のＸ線発生装置の調整方法。
前記偏向器によって前記電子線が偏向されない場合に、前記電子線が前記ターゲットの中心に入射する、
ことを特徴とする請求項１１に記載のＸ線発生装置の調整方法。
前記支持構造は、前記Ｘ線発生管を取り囲む収容部を含み、
前記回動工程では、前記偏向器および前記収容部が固定された状態で前記Ｘ線発生管が回動される、
ことを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載のＸ線発生装置の調整方法。
前記偏向器は、前記収容部を介して互いに対向するように配置された第１磁石および第２磁石を含む、
ことを特徴とする請求項１６に記載のＸ線発生装置の調整方法。
電子銃および前記電子銃から放射される電子線を受けてＸ線を発生させるターゲットを含むＸ線発生管と、
前記Ｘ線発生管を支持する支持構造と、
前記電子線を偏向させる偏向器と、を備え、
前記ターゲットは、円形形状を有し、かつ、単一金属又は単一合金で構成され、
前記支持構造は、前記偏向器が固定された状態で、少なくとも前記ターゲットが、前記電子銃の中心軸と一致した回動軸の周りで回動されることを許すように、前記Ｘ線発生管を支持する、
ことを特徴とするＸ線発生装置。
前記電子銃の前記中心軸は、前記ターゲットの中心を通るように配置されている、
ことを特徴とする請求項１８に記載のＸ線発生装置。
前記偏向器によって前記電子線が偏向されない場合に、前記電子線は前記ターゲットの中心に入射する、
ことを特徴とする請求項１８に記載のＸ線発生装置。